旋轉氧化鈮靶,氧化鈮旋轉靶,

? ? 中國的半導體行業(yè)正處于成長關鍵期。半導體領域對靶材的要求非常高，等方面都設定了極其苛刻的標準，需要掌握生產(chǎn)過程中的關鍵技術并經(jīng)過長期實踐才能制成符合工藝要求的產(chǎn)品，電子級靶材的企業(yè)與公司并不得多。也使得電子級靶材價格較為昂貴。日本在電子行業(yè)的上游材料領域占據(jù)了優(yōu)勢，在硅晶圓材料、光罩、靶材等重要的細分子領域的市場份額都超過50%。到?jīng)_擊而停產(chǎn)，括韓國在內(nèi)的世界其他地區(qū)半導體企業(yè)就將遇到材料

2024-07-23 面議/套

95:5ito靶材廠家 95:5ito靶

? ? ? 利用的熱能，綜合利用效率可以到70%~90%。但是，到目前為止，SOFC因其成本與工作性穩(wěn)定等問題，仍難以廣泛應用。因此，如何減少SOFC的制造成本和提高SOFC的輸出性能將是SOFC商業(yè)化應用的關鍵。熱噴涂技術是一種利用熱源將材料加熱至熔化或半熔化狀態(tài)，并以一定的速度噴射沉積到預處理表面形成涂層的方法。熱噴涂技術的沉積效率較高，因此可以快速，低成本地實現(xiàn)大面積功能層的制備。此外，熱噴

2024-07-23 面議/套

硅鋁靶材價格,硅鋁靶材廠家,

? ? ? 一般情況下，磁控濺射沉積ITO薄膜時的濺射電壓在-400V左右，如果使用一定的工藝方法將濺射電壓降到-200V以下，那么所沉積的ITO薄膜電阻率將降低50%以上。產(chǎn)品質量。同時也降低了產(chǎn)品的生產(chǎn)成本。將ITO玻璃進行加工處理、經(jīng)過鍍膜形成電極,其中兩種在直流磁控濺射制備ITO薄膜時，降低薄膜濺射電壓的有效途徑磁場強度對濺射電壓的影響當磁場強度為300G時，濺射電壓約為-350v；但當磁

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4N鋁靶,99.99%高純鋁靶,高純

? ? 真空設備檢修三要素的方案：1首先判斷出起主要作用的是什么因素，找到問題的所在，從而采取相應的措施加以解決。2真空測量真空測量是指用特定的儀器、對某一真空設備空間內(nèi)真空度高低的量度。因此真空測量儀表好壞直接影響設備正常運行。真空計的種類很多，大體上可分真空計和相對真空計兩大類。凡通過測定物理參數(shù)直接計出氣體壓強的真空計稱為真空計。通過測量與壓強有關物理量，并進行計算得到壓強值的真空計稱為相對

2024-07-23 面議/套

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什么是磁控濺射鍍膜靶材？磁控濺射鍍膜是一種新型的物相鍍膜方式,就是用電子系統(tǒng)把電子發(fā)射并聚焦在被鍍的材料上，使其被濺射出來的原子遵循動量轉換原理以較高的動能脫離材料飛向基片淀積成膜。這種被鍍的材料就叫濺射靶材。其中，鋁靶、銅靶用于導電層薄膜。銀銅合金靶材供應產(chǎn)地：陜西寶雞材質：Ag、Cu晶粒度：100um產(chǎn)品用途：銀銅合金靶材主要用于真空濺射鍍膜。銀銅合金優(yōu)勢：有良好的導電性、流動性和浸潤性、較好

2024-07-23 面議/套

ITO靶材,旋轉ITO靶材,ITO旋

濺射靶材是用濺射法沉積薄膜的原材料，主要應用于面板顯示、半導體和磁記錄薄膜太陽能領域。特別是高純度濺射靶材應用于電子元器件制造的氣相沉積工藝，是制備晶圓、面板、太陽能電池等表面電子薄膜的關鍵材料。所謂濺射，是制備薄膜材料的主要技術，也是PVD的一種。它通過在PVD設備中用離子對目標物進行轟擊，使得靶材中的金屬原子以一定能量逸出，從而在晶圓表面沉積，濺鍍形成金屬薄膜，其中被轟擊的固體是用濺射法沉積薄

2024-07-23 面議/套

氧化鋯靶材,噴涂氧化鋯管靶,

? ? ? 在大規(guī)模集成電路制作工藝過程中，每150mm直徑硅片所能允許的微粒數(shù)必須小于30個。怎樣控制濺射靶材的晶粒，并提高其致密度以解決濺射過程中的微粒飛濺問題是濺射靶材的研發(fā)的關鍵。靶材濺射時，靶材中的原子容易沿著密排面方向優(yōu)先濺射出來，材料的結晶方向對濺射速率和濺射膜層的厚度均勻性影響較大，終影響下游產(chǎn)品的品質和性能。需根據(jù)靶材的結構特點，采用不同的成型方法，進行反復的塑性變形、熱處理工藝

2024-07-23 面議/套

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半導體材料可以分為晶圓材料和封裝材料，封裝材料相較于晶圓制造材料來說技術壁壘相對較低，所以我們主要講的是晶圓制造材料。半導體材料市場占比在 3%左右的濺射靶材。簡單地說，靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料，通過更換不同的靶材（如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等），即可得到不同的膜系（如超硬、耐磨、防腐的合金膜等）。 科技日報：ITO靶材是35項卡脖子技術之一。2018年，尤特成立ITO靶材部，目前已量產(chǎn)

2024-07-23 面議/套

高純銦靶材 銦靶材 銦濺射靶

? ? ? 按使用的原材料材質不同，濺射靶材可分為金屬/非金屬單質靶材、合金靶材、化合物靶材等。濺射鍍膜工藝可重復性好、膜厚可控制，可在大面積基板材料上獲得厚度均勻的薄膜，所制備的薄膜具有純度高、致密性好、與基板材料的結合力強等優(yōu)點，已成為制備薄膜材料的主要技術之一，各種類型的濺射薄膜材料已得到廣泛的應用，因此，對濺射靶材這一具有高附加值的功能材料需求逐年增加，濺射靶材亦已成為目前市場應用量大的P

2024-07-22 面議/套