旋轉(zhuǎn)鉻靶,20 世紀(jì)90 年代以來靶材已蓬勃發(fā)展成為一個(gè)專業(yè)化產(chǎn)業(yè),中國及亞太地區(qū)靶材的需求占有世界70%以上的市場(chǎng)份額。大量不同的沉積技術(shù)用來沉積生長各種薄膜 ,而靶材是制作薄膜的關(guān)鍵,品質(zhì)的好壞對(duì)薄膜的意義重大。目前高等品質(zhì)靶材主要由:日本、德國和美國生產(chǎn),我國靶材產(chǎn)業(yè)起步較晚,在產(chǎn)品質(zhì)量與精細(xì)標(biāo)準(zhǔn)上與國外有不少的差距,國內(nèi)也有許多大學(xué)及研究機(jī)構(gòu)對(duì)靶材積極投入了大量鉆研與開發(fā),經(jīng)過這幾年的發(fā)展
2024-07-14 0? ? ? 作為一個(gè)龐大且復(fù)雜的行業(yè),芯片行業(yè)擁有一條超長的產(chǎn)業(yè)鏈。其整體可分為設(shè)計(jì)、制造、封裝、四大環(huán)節(jié)。除了在設(shè)計(jì)領(lǐng)域,其他三個(gè)環(huán)節(jié),尤其是在制造環(huán)節(jié),國內(nèi)廠商的能力仍有較大的提升空間。高純貨品靶材被譽(yù)為半導(dǎo)體芯片材料的強(qiáng)者,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)對(duì)濺射靶材和濺射薄膜的品質(zhì)要求非常高,隨著更大尺寸的硅晶圓片制造出來,相應(yīng)地要求濺射靶材也朝著大尺寸、高純度的方向發(fā)展,同時(shí)也對(duì)濺射靶材的晶粒晶向控制提出了更高
2024-07-14 面議/公斤? ? ? 鋁靶、銅靶用于導(dǎo)電層薄膜。在半導(dǎo)體芯片制造的金屬化工藝過程中,氧化鎢薄膜是一種被廣泛研究的功能材料。芯片行業(yè)擁有一條超長的產(chǎn)業(yè)鏈。其整體可分為設(shè)計(jì)、制造、封裝、四大環(huán)節(jié)。除了在設(shè)計(jì)領(lǐng)域,華為海思擁有一定的打破能力,其他三個(gè)環(huán)節(jié),尤其是在制造環(huán)節(jié),國內(nèi)廠商的能力仍有較大的提升空間。盡管全世界各大廠生產(chǎn)的材料幾乎都能99.99%的純度,但卻唯有日本廠商的材料能將純度達(dá)到99.999%。半導(dǎo)
2024-07-14 面議/套? ? ? 在裝飾鍍膜中也有著廣泛的應(yīng)用,獲得光亮、美觀、;價(jià)廉的塑料,陶瓷表面金屬化制品。廣泛應(yīng)用于汽車、摩托車燈具、工藝美術(shù)、裝潢裝飾、燈具、家具、玩具、酒瓶蓋、化妝品、手機(jī)、鬧鐘、女式鞋后跟等領(lǐng)域。ITO有著多種功用,首先ITO為高帶隙材料,可用作光電池的光入射窗口,又可作為收集光電流的電極,在基底半導(dǎo)體Si上形成勢(shì)壘作為SIS結(jié)的一層以及抗反射層。銦礦資源集中分布在中國、玻利維亞、俄羅斯等
2024-07-14 面議/套? ? ? 透明導(dǎo)電氧化物(TCO)薄膜因其導(dǎo)電性和透光性兼顧的特性,被廣泛應(yīng)用于光學(xué)、電子、信息等技術(shù)領(lǐng)域。結(jié)果表明:成型壓力對(duì) GZO 靶材燒結(jié)時(shí)生成ZnGa2O4 的固相反應(yīng)有促進(jìn)作用,并且當(dāng)成型壓力由120MPa提高到200MPa時(shí),固相反應(yīng)生成更多的 Zn-Ga 2 O 4 尖晶石相導(dǎo)致 GZO陶瓷燒結(jié)致密所需的溫度也有所提高.成型壓力為200MPa時(shí)較高致密度靶材,相對(duì)密度達(dá)93.54
2024-07-14 面議/套? ? ? ?尤供用應(yīng)的AZO靶材,出口多個(gè)國家,目前能生產(chǎn)的比例有:98:2、99:1,化學(xué)式: AZO,成型工藝:冷等靜壓 高溫?zé)Y(jié) 幫定。? ? ? AZO靶材是其中一種制造高科技節(jié)能玻璃鍍膜材料。銀銅合金靶材供應(yīng)。陶瓷靶材。UVTM擁有真空等離子噴涂、真空熔煉爐、數(shù)控線切割、熱等靜壓等生產(chǎn)設(shè)備,熱噴涂、難熔金屬及液晶材料生產(chǎn)線。公司在大力拓展市場(chǎng)的同時(shí),不斷完善內(nèi)部體制。尤特新材在2009
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