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廣州市尤特新材料有限公司

主營:濺射靶材,鍍膜靶材,金屬靶材,旋轉(zhuǎn)靶材,平面靶材,噴涂靶材,靶材,UV玻璃油墨

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  • 鉭靶材,鉬鈮靶材,鉬靶材
    鉭靶材,鉬鈮靶材,鉬靶材

    真空鍍膜機(jī)是目前制作真空條件應(yīng)用較為廣泛的真空設(shè)備,一般用真空室、真空機(jī)組、電氣控制柜三大部分組成,排氣系統(tǒng)采用“擴(kuò)散泵 機(jī)械泵 羅茨泵 低溫冷阱 polycold”組成。本公司專業(yè)從事真空鍍膜設(shè)備的研發(fā)與生產(chǎn)擁有經(jīng)驗(yàn)豐富的技術(shù)團(tuán)隊(duì)及優(yōu)質(zhì)的售后服務(wù)隊(duì)伍為您解決設(shè)備在使用過程中遇到的任何問題。下面,詳細(xì)介紹真空鍍膜機(jī)的各部分組成及其工作原理。 真空主體——真空腔根據(jù)加工產(chǎn)品要求的各異,真空腔的大小也

    2024-07-20 面議/條
  • 旋轉(zhuǎn)銅靶材,銅管靶材,銅鋅合金靶材
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    真空鍍膜設(shè)備行業(yè)不斷發(fā)展,日益更新的技術(shù),讓更多的企業(yè)朋友擺脫了傳統(tǒng)原始的鍍膜手段和方法。無論是整個(gè)行業(yè)與國外同行業(yè)相比,還是在本行業(yè)內(nèi)互相的對比,都暴露了真空鍍膜行業(yè)里面,首先是研發(fā)能力,可以說沒有資金的投入或只有少量資金的投入。研發(fā)能力差,也只是走邊接單,邊設(shè)計(jì),邊生產(chǎn)的模式,在某種程度上造成了設(shè)備性能的不可靠和工藝的不成熟。技術(shù)需要升級改造,雖然近幾年幾個(gè)企業(yè)搬遷而有了改觀,但整體的制造水平

    2024-07-20 面議/套
  • 氧化鋁靶材,氧化鋅鋁靶材,氧化鋅鋁靶材廠家,氧化鋁靶材報(bào)價(jià)
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    ? ? 低電壓濺射制備ITO薄膜由于ITO薄膜本身含有氧元素,磁控濺射制備ITO薄膜的過程中,會產(chǎn)生大量的氧負(fù)離子,氧負(fù)離子在電場的作用下,以一定的粒子能量會轟擊到所沉積的ITO薄膜表面,使ITO薄膜的結(jié)晶結(jié)構(gòu)和晶體狀態(tài)造成結(jié)構(gòu)缺陷。濺射的電壓越大,氧負(fù)離子轟擊膜層表面的能量也越大。為了有效地降低磁控濺射的電壓,以達(dá)到降低ITO薄膜電阻率的目的,可以采用一套特殊的濺射陰極結(jié)構(gòu)和濺射直流電源,同時(shí)將

    2024-07-19 面議/套
  • 高純氧化鈮靶材,氧化鈮靶材增透,氧化鈮靶材報(bào)價(jià)
    高純氧化鈮靶材,氧化鈮靶材

    ? ? ? 濺射靶材,中國產(chǎn)業(yè)調(diào)研網(wǎng)發(fā)布的年中國靶材行業(yè)發(fā)展研究分析與市場前景預(yù)測報(bào)告認(rèn)為靶材是膜的濺射源。簡單說的話,靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料,用于高能激光****中,不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時(shí),效應(yīng)。蒸發(fā)磁控濺射鍍膜是加熱蒸發(fā)鍍膜、鋁膜等。光碟的膜層也是多層組成的,它在染料層上鍍上30nm厚的鐵鈷合金記錄層,里面混有非晶態(tài)稀土過渡元素,再鍍上20

    2024-07-19 面議/套
  • 高純銀靶,4N銀管靶,99.99%銀靶材,銀靶材源頭廠家
    高純銀靶,4N銀管靶,99.99%銀

    ? ? ? 中興制裁與華為都給我們敲響警鐘,芯片等核心技術(shù)產(chǎn)業(yè)亟需發(fā)展,國產(chǎn)替代刻不容緩。作為半導(dǎo)體材料中的重要一環(huán)—濺射靶材同樣如此,國產(chǎn)化是必然之路。真空鍍膜設(shè)備要在真空條件下工作,真空對環(huán)境的要求,一般包括真空設(shè)備對所處實(shí)驗(yàn)室(或車間)的溫度、空氣中的微粒等周圍環(huán)境的要求,和對處于真空狀態(tài)或真空中的零件或表面要求兩個(gè)方面。這兩個(gè)方面是有密切的。周圍環(huán)境的好壞直接影響真空設(shè)備的正常使用;而真空

    2024-07-19 面議/套
  • 氧化銦粉,日本氧化銦粉,高純氧化銦,氧化銦制粉廠家
    氧化銦粉,日本氧化銦粉,高純

    ? ? ? 濺射鍍膜是制備薄膜的主要技術(shù)之一,綜合優(yōu)勢顯著。濺射薄膜制備的源頭材料,又稱濺射靶材。PVD鍍膜目前主要有三種形式,分別是濺射鍍膜、蒸發(fā)鍍膜以及離子鍍膜。綜合而言,蒸鍍薄膜的密度較差,只能達(dá)到理論密度的95%,鍍膜的附著力也較差,但是蒸鍍的鍍膜速率較快。離子鍍不但密度較高、晶粒較小,而且鍍膜與基板的附著力也是三種鍍膜中較大的,只是離子鍍膜較大的缺點(diǎn)是基板必需是導(dǎo)電材料,并且鍍膜時(shí)基板的

    2024-07-19 面議/套
  • 高純銀靶材,平面銀靶,旋轉(zhuǎn)銀管靶,一號銀靶
    高純銀靶材,平面銀靶,旋轉(zhuǎn)銀

    自20世紀(jì)80年代,以集成電路、信息存儲、液晶顯示器、激光存儲器、電子控制器為主的電子與信息產(chǎn)業(yè)開始進(jìn)入高速發(fā)展時(shí)期,進(jìn)入工業(yè)化規(guī)模生產(chǎn)應(yīng)用領(lǐng)域。近10年來,濺射技術(shù)更是取得了突飛猛進(jìn)的發(fā)展。相比PVD另一大工藝真空鍍膜,厚可控制,可在大面積基板材料上獲得厚度均勻的薄膜,合力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn),已成為制備薄膜材料的主要技術(shù)。電子器件靶材的原材料有鎳鉻合金、鉻硅合金等,薄膜電容。靶材的方法很多。大體上,按應(yīng)用

    2024-07-19 面議/套
  • 平面硅靶,硅平面靶,硅靶材生產(chǎn)廠家
    平面硅靶,硅平面靶,硅靶材生

    ? ? ? 日本能源、東芝和三井在大部分國家ITO靶材市場擁有80%以上的份額。平板顯示器件都要用到各種類型的薄膜,沒有薄膜技術(shù)就沒有平板顯示器件。平板顯示器多由金屬電極、透明導(dǎo)電極、絕緣層、發(fā)光層組成,為了保證大面積膜層的均勻性,提高生產(chǎn)率和降低成本。平板顯示器多由金屬電極、透明導(dǎo)電極、絕緣層、發(fā)光層組成,為了保證大面積膜層的均勻性,提高生產(chǎn)率和降低成本,幾乎所有類型的平板顯示器件都會使用大量的

    2024-07-19 面議/套
  • 旋轉(zhuǎn)銀靶,旋轉(zhuǎn)鈮靶,旋轉(zhuǎn)銦靶,旋轉(zhuǎn)銅靶,旋轉(zhuǎn)金屬靶材
    旋轉(zhuǎn)銀靶,旋轉(zhuǎn)鈮靶,旋轉(zhuǎn)銦靶

    ? ? ? 非常高純鋁濺射靶基材為非常高純鋁靶材的金屬原材料。電子濺射靶材可以分為半導(dǎo)體靶材、鍍膜玻璃靶材、太陽能光伏靶材、裝飾鍍靶材等。材質(zhì):Si、Al規(guī)格:可以按照用戶需要定制。汽車玻璃)工業(yè)等行業(yè)。在半導(dǎo)體集成電路制造過程中,以電阻率較低的銅導(dǎo)體薄膜代替鋁膜布線:在平面顯示器產(chǎn)業(yè)中,各種顯示技術(shù)(如LCD、PDP、OLED及FED等)的同步發(fā)展,有的已經(jīng)用于電腦及計(jì)算機(jī)的顯示器制造;在信息存

    2024-07-19 面議/套
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