帶 * 為必填項 關(guān)閉
氧化鋁靶材,氧化鋅鋁靶材,氧化鋅鋁靶材廠家,氧化鋁靶材報價
訂貨量(套)
價格(不含稅)
1
1800.00元/套
供應(yīng)標(biāo)題:氧化鋁靶材,氧化鋅鋁靶材,氧化鋅鋁靶材廠家,氧化鋁靶材報價
價格:電儀
發(fā)布公司:廣州市尤特新材料有限公司
供貨總量:9999
聯(lián)系人:楊永添
發(fā)貨地點:廣東 廣州 花都區(qū)
發(fā)布時間:2024年07月19日
有效期至:2025年01月19日
在線詢盤:在線詢盤
產(chǎn)品綜合信息質(zhì)量:未計算
基本信息
? ? 低電壓濺射制備ITO薄膜由于ITO薄膜本身含有氧元素,磁控濺射制備ITO薄膜的過程中,會產(chǎn)生大量的氧負(fù)離子,氧負(fù)離子在電場的作用下,以一定的粒子能量會轟擊到所沉積的ITO薄膜表面,使ITO薄膜的結(jié)晶結(jié)構(gòu)和晶體狀態(tài)造成結(jié)構(gòu)缺陷。濺射的電壓越大,氧負(fù)離子轟擊膜層表面的能量也越大。為了有效地降低磁控濺射的電壓,以達(dá)到降低ITO薄膜電阻率的目的,可以采用一套特殊的濺射陰極結(jié)構(gòu)和濺射直流電源,同時將一套3KW的射頻電源合理地匹配疊裝在一套6KW的直流電源上。在不同的直流濺射功率和射頻功率下進(jìn)行降低ITO薄膜濺射電壓的工藝研究。超聲探傷:靶坯加工完后需要采用波進(jìn)行檢查材料內(nèi)部是否有缺陷。一方面在陰極靶的周圍。管材。
? ? 光記錄靶材主要指在光盤制造中使用到的濺射靶材。結(jié)構(gòu)簡單的光盤主要由基板、記錄層、反射層、保護(hù)層和印刷層組成,數(shù)超過10層,有記錄層、反射板和保護(hù)層。國外濺射靶材生產(chǎn)商數(shù)量眾多,但是側(cè)重不同,在各個細(xì)分市場各有優(yōu)勢。目前制備薄膜電池較為常用的濺射靶材包括鋁靶、銅靶、鉬靶、鉻靶以及ITO靶、AZO靶(氧化鋁鋅)等,HIT電池主要使用ITO靶材作為其透明導(dǎo)電薄膜。靶材也逐步向國產(chǎn)化方向努力;設(shè)備***替代降低投資成本。隨著消費者對大尺寸電視及智能手機(jī)需求的增長,平板顯示器尺寸迅速加大,推動平板顯示器行業(yè)規(guī)模不斷加大,市場規(guī)模增速達(dá)到20%。硬盤容量快速增長帶動帶動上游靶材需求增長。未來幾年HDD的出貨總?cè)萘恳廊粫3衷鲩L態(tài)勢。
? ? ? 在光學(xué)器件領(lǐng)域。WSTS預(yù)計,2018年大部分國家半導(dǎo)體規(guī)模增速達(dá)12.4%。特別是存儲器市場。增速高達(dá)61.49%。一方面,存儲芯片需求旺盛,價格大幅上漲,另一方面,物聯(lián)網(wǎng)、汽車電子、AI等新應(yīng)用拉動下游需求。半導(dǎo)體材料主要分為晶圓制造材料和封裝材料,料包括硅片(37%)、光刻膠、光刻膠配套試劑、濕電子化學(xué)品、電子氣體、P拋光材料、以及靶材等;、引線框架、樹脂、鍵合絲、錫球、以及電鍍液等。在芯片制造設(shè)備領(lǐng)域,韓國不要說與美國,就是與日本和歐洲的企業(yè)相比都相距甚遠(yuǎn)。另據(jù)韓國國國際貿(mào)易協(xié)會(KITA)的數(shù)據(jù),2019年韓國***芯片制造設(shè)備排名前三的國家分別是日本、美國和荷蘭。這意味著,韓國在芯片制造設(shè)備領(lǐng)域與美國起碼的博弈能力都不具備。
? ? ? ?近年來,中國大陸漸漸有些觸控面板廠商開始采用了非日東的大陸本土ITO薄膜產(chǎn)品,這些ITO薄膜價格非常便宜,能夠滿足大陸觸控面板廠商的成本考量,即便會有觸控靈敏度較差的問題,但只要由大陸觸控面板廠事先直接向客戶說明,在客戶能夠接受的前提下,低價化的薄膜觸控面板仍有市場。其它非日東觸控ITO薄膜廠商近來接單量也大增,主要則是因為日東與蘋果合作(推測可能在技術(shù)、產(chǎn)能有整體化合作)后,產(chǎn)能吃緊,進(jìn)而使對外供貨的數(shù)量銳減,許多觸控面板廠商無法向日東拿到足夠的ITO薄膜,為了滿足各自客戶需求、沖刺旺季出貨量,于是趕緊轉(zhuǎn)向其他非日東觸控ITO薄膜廠商進(jìn)料;旧,日東的ITO薄膜因為品質(zhì)穩(wěn)定度高、價格是比較貴。如果非日東廠商的ITO薄膜、價格與日東沒差多少,等到日東產(chǎn)能又?jǐn)U大對外釋出時。相對可能就會面臨較大的訂單流失壓力。粉。
真空鍍膜機(jī)在鍍膜的時候,需要鍍層表面的化學(xué)成分保持均勻性,厚度上的均勻性,也可以理解為粗糙度,在光學(xué)薄膜的尺度上看也就是1/10波長作為單位,約為100A,真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好,可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內(nèi),也就是說對于薄膜的光學(xué)特性來說,真空鍍膜沒有任何障礙。但是如果是指原子層尺度上的均勻度,也就是說要實現(xiàn)10A甚至1A的表面平整,具體控制因素下面會根據(jù)不同鍍膜給出詳細(xì)解釋;瘜W(xué)組分上的均勻性:就是說在薄膜中,化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性,SiTiO3薄膜,如果鍍膜過程不科學(xué),那么實際表面的組分并不是SiTiO3,而可能是其他的比例。鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分。這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。晶格有序度的均勻性:這決定了薄膜是單晶,多晶,非晶,是真空鍍膜技術(shù)中的熱點問題。噴涂靶商。
? ? ? 近年來,受益于國家從戰(zhàn)略高度持續(xù)地支持電子材料行業(yè)的發(fā)展及應(yīng)用推廣,我國國內(nèi)開始出現(xiàn)不少專業(yè)從事高純?yōu)R射靶材研發(fā)和生產(chǎn)的企業(yè),并成功開發(fā)出一批能適應(yīng)高等應(yīng)用領(lǐng)域的濺射靶材,為高純?yōu)R射靶材大規(guī)模產(chǎn)業(yè)化提供了良好的研發(fā)基礎(chǔ)和市場化條件。通過將濺射靶材研發(fā)成果產(chǎn)業(yè)化,積極參與濺射靶材的國際化市場競爭,我國濺射靶材生產(chǎn)企業(yè)在技術(shù)和市場方面都取得了長足的進(jìn)步,改變了高純?yōu)R射靶材長期依賴***的不利局面。目前,包括長沙鑫康在內(nèi)的一些國內(nèi)企業(yè)已經(jīng)掌握了高純?yōu)R射靶材生產(chǎn)的關(guān)鍵技術(shù),積累了較為豐富的產(chǎn)業(yè)經(jīng)驗,擁有了一定的市場知名度,獲得了大部分國家知名客戶的認(rèn)可。
反應(yīng)磁控濺射制備化合物薄膜的優(yōu)點:1.所用靶材和反應(yīng)氣體是氧、氮、碳?xì)浠衔锏,通常容易獲得高純度制品,有利于制備高純度的化合物薄膜;2.通過調(diào)節(jié)工藝參數(shù),可以制備化學(xué)配比或非化學(xué)配比的化合物薄膜,從而可調(diào)控膜的特性;3.基板溫度不高,對基板限制少;4.適于大面積均勻鍍膜,實現(xiàn)工業(yè)化生產(chǎn)。? ? ? 一般來說,利用濺射進(jìn)行鍍膜有幾個特點:(1)金屬、合金或絕緣物均可做成薄膜材料。(2)在適當(dāng)?shù)脑O(shè)定條件下可將多元復(fù)雜的靶材制作出同一組成的薄膜。(3)利用放電氣氛中加入氧或其它的活性氣體,可以制作靶材物質(zhì)與氣體分子的混合物或化合物。
? ? ? 氧化銦錫(ITO)導(dǎo)電膜具有良好的光學(xué)透光性能和導(dǎo)電性能,被廣泛應(yīng)用于觸摸屏領(lǐng)域,它是電阻式與投射電容式觸控面板的基礎(chǔ)材料,其產(chǎn)業(yè)鏈下游市場為觸控模組和觸控面板。上游為光學(xué)級PET基膜、靶材和涂布液等化學(xué)原材料。從觸摸屏技術(shù)路線來看,分為掛式和內(nèi)嵌式兩種。掛式電容屏技術(shù)有薄膜式和玻璃式兩種;內(nèi)嵌式電容屏技術(shù)主要為In-cell和On-cell兩種。將ITO玻璃進(jìn)行加工處理、經(jīng)過鍍膜形成電極。銀納米線導(dǎo)電膜:銀納米線是一種新興的ITO導(dǎo)電膜潛在替代品。科技日報:ITO靶材屬于35項卡脖子技術(shù)之一。UVTM掌握濺射靶材生產(chǎn)的核心技術(shù)以后,實施極其嚴(yán)格的保密措施,限制技術(shù)擴(kuò)散,目前制備太陽能電池較為常用的濺射靶材包括鋁靶、銅靶、鉬靶、鉻靶以及ITO靶、AZO靶(氧化鋁鋅)等在國內(nèi)處于****水平。
? ? ? 氧化錫銻(ATO)是一種新型透明導(dǎo)電氧化物材料,其資源豐富、價格便宜、無害純凈,而且具有禁帶寬度大(>3.6eV)、導(dǎo)電性好、可見光透過率高、抗輻射、熱穩(wěn)定性好等不錯性能,用于大面積磁控濺射鍍膜,如建筑玻璃,汽車玻璃,低輻射玻璃,薄膜太陽能電池、ATOFilm等工業(yè),增加隔熱性能、隔紫外性能、防輻射性能、防靜電性能等。ATO具有廣闊應(yīng)用前景,而為了實現(xiàn)其產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用,可選用工業(yè)上應(yīng)用較廣的濺射鍍膜技術(shù)。而高質(zhì)量的濺射靶材是濺射鍍膜中主要的原材料,利用物理或者化學(xué)氣相沉積鍍膜,使工件增加防靜電性能能,防輻射性能等。因此必須制備出高品質(zhì)的ATO陶瓷靶材,要求其致密度高、導(dǎo)電性好且雜質(zhì)含量低。但由于Sn02在高溫下(>1100℃)易揮發(fā)和產(chǎn)生氣孔缺陷,導(dǎo)致ATO陶瓷靶材難以致密化。
? ? ? 高純?yōu)R射靶材的市場規(guī)模日益擴(kuò)大,呈現(xiàn)高速增長的勢頭。高純金屬靶材的業(yè)績增長主要取決于三個因素。根據(jù)整理的數(shù)據(jù)顯示,外業(yè)務(wù)收入502億,占半導(dǎo)體行業(yè)總營收1130億元的約44.48%。平板顯示用靶材(含觸摸屏)年市場銷售額38.1億美元,占比34%;占比29%;太陽能電池用靶材市場銷售額23.4億美元,占比21%;11.9億美元,占比10%。但是國內(nèi)靶材市占率不足2%,整體需求占比在三成左右。伴隨高等制造業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈持續(xù)向國內(nèi)轉(zhuǎn)移,靶材供應(yīng)正逐漸從國外切換到國內(nèi)。眾所周知,業(yè)內(nèi)相關(guān)人士指出,結(jié)合薄片化技術(shù)可進(jìn)一步降低異質(zhì)結(jié)電池的硅用量,節(jié)省成本。在晶圓制造環(huán)節(jié),靶材主要用于執(zhí)著晶圓導(dǎo)電層、阻擋層以及金屬柵極。
廣州市尤特新材料有限公司基本信息
廣州市尤特新材料有限公司(以下簡稱“尤特”),成立于2003年,位于羊城廣州的北面-花都,占地總面積約3萬平方米。尤特是一家專注于時尚消費電子產(chǎn)業(yè)、節(jié)能綠色環(huán)保產(chǎn)業(yè)、新材料新技術(shù)開發(fā)和應(yīng)用的重要高新技術(shù)企業(yè)。尤特以生產(chǎn)信息存儲記錄材料為起點,經(jīng)過10多年的開拓與發(fā)展,產(chǎn)業(yè)技術(shù)不斷迭代與升級,尤特的技術(shù)及應(yīng)用涉獵范圍逐步擴(kuò)大,其中主要包括:真空鍍膜靶材;環(huán)保(UV/水性)材料;觸控顯示材料;印刷技術(shù)及材料;信息存儲材料、導(dǎo)電散熱材料等。尤特一直倡導(dǎo)“新材料、促環(huán)保、美生活”企業(yè)使命。尤特遵循科學(xué)體系管理,先后通過《質(zhì)量管理體系》、《環(huán)境管理體系》、《職業(yè)健康與安全管理體系》認(rèn)證并有效運行,產(chǎn)品符合全部環(huán)境及安全標(biāo)準(zhǔn);獲得SONY GP綠色合作伙伴全部認(rèn)證等。尤特重視產(chǎn)品研發(fā)及技術(shù)創(chuàng)新,先后與"武漢大學(xué)"、"華南理工大學(xué)"、"中南大學(xué)"等高校、研究所建立"產(chǎn)學(xué)研"合作機(jī)制,并承擔(dān)多項省市立項的科研項目,公司目前已擁有幾十項自主研發(fā)新興材料及工藝的知識產(chǎn)權(quán),是廣州市扶持科技型要點培育上市企業(yè)。尤特先后獲得相關(guān)機(jī)構(gòu)的授予多個榮譽:如“國家生產(chǎn)力促進(jìn)獎、國家有名商標(biāo)、廣東省守合同重信用企業(yè)、廣東省雇主責(zé)任示范企業(yè)、廣州市安全生產(chǎn)標(biāo)準(zhǔn)化達(dá)標(biāo)企業(yè)、廣州市工程技術(shù)研發(fā)中心、廣州科技小巨人企業(yè)、地方納稅企業(yè)”等榮譽。尤特全體同仁秉承“創(chuàng)造價值,分享價值“的核心價值觀,借鑒以往成功管理運營經(jīng)驗,持續(xù)深挖磁控濺射鍍膜材料下游應(yīng)用市場,不斷拓寬市場應(yīng)用領(lǐng)域,做優(yōu)做強(qiáng)鍍膜材料產(chǎn)業(yè),將公司打造為--磁控濺射靶材行業(yè)者。
員工人數(shù):200-500人 廠房面積: 年營業(yè)額:
年進(jìn)口額: 年出口額: 主要市場:
客戶群:
公司名稱:廣州市尤特新材料有限公司
注冊資本:人民幣2000萬元/年-人民幣5000萬元/年 公司網(wǎng)址:http://UVTMCOM.glass.com.cn