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廣州市尤特新材料有限公司

主營:濺射靶材,鍍膜靶材,金屬靶材,旋轉(zhuǎn)靶材,平面靶材,噴涂靶材,靶材,UV玻璃油墨

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    ? ? ? 主要用于五金裝飾的耐磨、耐腐蝕硬膜,LOW-E鍍膜玻璃,半導體電子加工尺寸:長度:4000MM厚度:6-10MM,直型、狗骨型,對于貨品靶材,若剩余下的高純殘靶若以普通廢料進行處理,將會是對稀貴材料的較大浪費;同時,靶材從原材料到加工成成品,成材率一般只有40%-80%,大量的余料和殘屑需要更新循環(huán)利用。對于貨品靶材,由于材料價格昂貴,迫切需要對加工過程的余料殘屑的提純再利用及對殘進行

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    ? ? ? 科技日報:ITO靶材屬于35項卡脖子技術之一。UVTM掌握濺射靶材生產(chǎn)的核心技術以后,實施極其嚴格的保密措施,限制技術擴散,目前制備太陽能電池較為常用的濺射靶材包括鋁靶、銅靶、鉬靶、鉻靶以及ITO靶、AZO靶(氧化鋁鋅)等在國內(nèi)處于****水平。在中國光伏產(chǎn)業(yè)迅猛發(fā)展的前提下,作為薄膜太陽能電池上游的太陽能電池靶材市場規(guī)模也會保持高速發(fā)展。平板顯示器不斷向大尺寸方向發(fā)展,平板顯示器的出

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    ? ? ? 高純鋁及鋁合金是目前使用廣泛的導電層薄膜材料之一。和超大規(guī)模集成電路芯片的制造對濺射靶材金屬純度的要求相比,太陽能電池用鋁靶的金屬純度略低,99.995%(4N5)以上。目前制備薄膜電池較為常用的濺射靶材包括鋁靶、銅靶、鉬靶、鉻靶以及ITO靶、AZO靶(氧化鋁鋅)等。鋁靶、銅靶用于導電層薄膜,鉬靶、鉻靶用于阻擋層薄膜。光伏領域?qū)Π胁牡氖褂弥饕潜∧る姵睾虷IT光伏電池。其中光伏薄膜電池

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    ? ? ? ?目前國內(nèi)氧化物薄膜材料的制備方法和技術有很多,其中主要的方法有脈沖激光沉積、磁控濺射、電子束蒸發(fā)、分子束外延等物理方法,以及化學氣相沉積、溶膠-凝膠、噴霧熱解等化學方法。在這些制備技術中,磁控濺射鍍膜技術具有易于大面積鍍膜、工業(yè)化生產(chǎn)以及薄膜品質(zhì)、成分、結構、均勻性等易于調(diào)控的優(yōu)勢,是產(chǎn)業(yè)化制備氧化物薄膜材料的重要方法之一,以該方法制備的氧化物薄膜材料在液晶面板、觸摸屏、薄膜太陽能電

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    ? ? ? 還是要靠各種不同物質(zhì)所濺射而成的薄膜,靠其成膜后顯示出來的晶體狀態(tài)排序來實現(xiàn)。什么是磁控濺射鍍膜靶材?磁控濺射鍍膜是一種新型的物相鍍膜方式,就是用電子系統(tǒng)把電子發(fā)射并聚焦在被鍍的材料上,使其被濺射出來的原子遵循動量轉(zhuǎn)換原理以較高的動能脫離材料飛向基片淀積成膜。這種被鍍的材料就叫濺射靶材。濺射靶材有金屬,合金,陶瓷,硼化物等。濺射靶材主要應用于電子及信息產(chǎn)業(yè)。光學器件應用范圍非常廣泛,主

    2024-07-29 面議/套
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    ? ? ? 靶中毒的影響因素,影響靶中毒的因素主要是反應氣體和濺射氣體的比例,反應氣體過量就會導致靶中毒。反應濺射工藝進行過程中靶表面濺射溝道區(qū)域內(nèi)出現(xiàn)被反應生成物覆蓋或反應生成物被剝離而重新露金屬表面此消彼長的過程。如果化合物的生成速率大于化合物被剝離的速率,化合物覆蓋面積增加。在一定功率的情況下,參與化合物生成的反應氣體量增加,化合物生成率增加。如果反應氣體量增加過度,化合物覆蓋面積增加,如果

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    ? ? ? 隨著人們生活水平的提高,電飯鍋和壓力鍋成為了家庭電器的一部分進入千家萬戶,人們對飯的要求也越來越高,甚至有不惜遠洋帶回電飯煲的,國內(nèi)的電飯煲和日本的電飯煲區(qū)別在那里?讓我們先看下日本的飯煲, 日本電飯鍋的優(yōu)勢主要在兩點:先進的加熱方式,的內(nèi)膽工藝。IH技術的工作原理是通過電磁線圈接通交變電流,直接對金屬內(nèi)膽進行加熱,升溫更迅速;而且很多高等IH電飯煲引入更復雜的多級線圈,實現(xiàn)了對整個內(nèi)

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    ? ? ? 靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。靶材通常有兩類:平面靶材和旋轉(zhuǎn)靶材,由于平面靶的利用率只有20-30%,因此,旋轉(zhuǎn)靶逐漸成為工業(yè)化鍍膜行業(yè)的主流產(chǎn)品。磁控濺射鍍膜靶材在使用時,需要將靶材與背管綁定,來滿足生產(chǎn)設備的安裝及導電、散熱要求,目前常用的綁定方法是用銦或錫作為綁定材料。因此,靶材與背管的綁定技術就成為了關鍵

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