硅鋁鋯靶材,硅鋁靶材,高純硅

? ? ? 鉬靶材主要用于平面顯示行業(yè)，屬于鉬金屬制品生產(chǎn)鏈頂端產(chǎn)品，技術(shù)含量高、生產(chǎn)難度大。UVTM自主研發(fā)、生產(chǎn)出具有完全知識(shí)產(chǎn)權(quán)的4.5代、5.0代、5.5代靶材，產(chǎn)品規(guī)格一次一次刷新紀(jì)錄。靶中毒的影響因素，靶中毒現(xiàn)象（1）正離子堆積：靶中毒時(shí)，靶面形成一層絕緣膜，正離子到達(dá)陰極靶面時(shí)由于絕緣層的阻擋，不能直接進(jìn)入陰極靶面，而是堆積在靶面上，容易產(chǎn)生冷場(chǎng)致弧光放電---打弧，使陰極濺射無(wú)法進(jìn)

2024-07-31 面議/套

鋯靶材用途,鋯靶材鍍色,鋯靶

? ? ? 鍍膜靶材是用物理或化學(xué)的方法在靶材表面鍍層透明的電解質(zhì)膜，或鍍一層金屬膜，目的是改變靶材表面的反射和透射特性。而鍍膜的方法有真空鍍膜和光學(xué)鍍膜，真空鍍膜和光學(xué)鍍膜的區(qū)別是什么。在19世紀(jì)末，ITO薄膜的研究工作開(kāi)始真實(shí)地發(fā)展了起來(lái)，當(dāng)時(shí)是在光電導(dǎo)的材料上獲得很薄的金屬薄膜。而關(guān)于透明導(dǎo)電材料的研究進(jìn)入一個(gè)新的時(shí)期，則是在第二次世界大戰(zhàn)期間，主要應(yīng)用于飛機(jī)的除冰窗戶玻璃。而在1950年，

2024-07-31 面議/套

綁定石墨靶材,C靶材,碳靶材,

? ? ? 隨著石墨加工技術(shù)的提高，石墨靶材興起，石墨靶材也會(huì)被應(yīng)用在更加廣闊的領(lǐng)域中,在市場(chǎng)中，優(yōu)質(zhì)石墨靶材主要來(lái)源日本、德國(guó)、美國(guó)，不僅是在靶材行業(yè)，在石墨行業(yè)我們這些國(guó)家的差距還是很大的。在靶材行業(yè)中，我們常見(jiàn)到的有金屬靶材、陶瓷靶材、合金靶材、這些在靶材在微電子、顯示器、儲(chǔ)存等行業(yè)有著廣泛的應(yīng)用。石墨靶材自身具有耐高溫、自潤(rùn)滑、耐腐蝕、導(dǎo)電性良好等特點(diǎn)，用石墨做靶材，根據(jù)行業(yè)的不同選用不同

2024-07-31 面議/套

鈮靶,旋轉(zhuǎn)鈮靶,專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)鈮靶

? ? UVTM專(zhuān)業(yè)鈮靶生產(chǎn)商,為您提供高品質(zhì)的濺射靶材,電磁屏蔽膜,鍍膜玻璃工業(yè)用鈮靶,薄膜太陽(yáng)能用高純銅靶,無(wú)氧銅靶材,純度5N根據(jù)客戶圖紙加工長(zhǎng)率達(dá)到18%。受機(jī)械硬盤(pán)出貨容量增長(zhǎng)的帶動(dòng)，記錄媒體靶材需求穩(wěn)定增長(zhǎng)。薄膜太陽(yáng)能電池效率存在提升空間，靶材需求。硅電池的效率已經(jīng)接近其理論值，而薄膜太陽(yáng)能電池的效率在逐年提高。據(jù)預(yù)測(cè)，年會(huì)呈現(xiàn)逐年遞增的趨勢(shì)，并于2023年打破395億美元大關(guān)。平板顯

2024-07-30 面議/套

高密度AZO靶材 AZO靶材采購(gòu)

中國(guó)芯片究竟在哪個(gè)環(huán)節(jié)被美國(guó)“卡”了脖子？數(shù)據(jù)表明，2019年，我國(guó)芯片自給率僅為30%左右。根據(jù)有關(guān)部門(mén)的發(fā)展規(guī)劃，2025年，芯片自給率提升到70%，這差不多是當(dāng)下美國(guó)等芯片大國(guó)的平均水平。作為一個(gè)龐大且復(fù)雜的行業(yè)，芯片行業(yè)擁有一條超長(zhǎng)的產(chǎn)業(yè)鏈。其整體可分為設(shè)計(jì)、制造、封裝、四大環(huán)節(jié)。除了在設(shè)計(jì)領(lǐng)域，華為海思擁有一定的打破能力，其他三個(gè)環(huán)節(jié)，尤其是在制造環(huán)節(jié)，國(guó)內(nèi)廠商的能力仍有較大的提升空間。

2024-07-30 面議/套

99.99%高純銦靶,旋轉(zhuǎn)銦靶,銦

? ? ? ITO導(dǎo)電膜屬于掛式電容屏技術(shù)。以新型顯示應(yīng)用相關(guān)的人工智能(AI)、現(xiàn)實(shí)(VR)、增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)(AR)、物聯(lián)網(wǎng)、大數(shù)據(jù)等新興產(chǎn)業(yè)為，用的重要發(fā)力點(diǎn)。用準(zhǔn)確儀器設(shè)備在半導(dǎo)體芯片各個(gè)功能層上鍍覆一層薄薄的透明金屬導(dǎo)電膜，這層膜的厚度因功能需求而有不同，200納米之間。不足頭發(fā)絲直徑五百分之一，以實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體金屬的物理化學(xué)性能，稱(chēng)為薄膜。中國(guó)的車(chē)載芯片依稀可以窺見(jiàn)鎢材料，更具體地說(shuō)，是高純鎢濺射

2024-07-30 面議/套

氧化鋁靶材,射頻靶材,氧化鋁

? ? UVTM是國(guó)家高新技術(shù)企業(yè)，公司成立于二00三年，專(zhuān)業(yè)從事信息、鍍膜、太陽(yáng)能材料的科研與生產(chǎn)。公司從德國(guó)、日本、引進(jìn)先進(jìn)的生產(chǎn)、檢測(cè)設(shè)備和專(zhuān)業(yè)人才，是集科研、生產(chǎn)、銷(xiāo)售、服務(wù)于一體的中外合資企業(yè)。UVTM廣州工廠建成于2006年，位于花都區(qū)華僑科技工業(yè)園，占地面積近3萬(wàn)平方米，建筑面積239平方米,地理近臨廣州國(guó)際白云機(jī)場(chǎng)，交地便利。磁控濺射技術(shù)是70年展起來(lái)的一種新型濺射技術(shù)，目前已在科

2024-07-30 面議/套

旋轉(zhuǎn)氧化鈦靶,氧化鈦旋轉(zhuǎn)靶

? ? ? 高純?yōu)R射靶材是伴隨著半導(dǎo)體工業(yè)的發(fā)展而興起的，濺射靶材市場(chǎng)不僅僅在于電子行業(yè)，近年來(lái)砍濺射靶材的市場(chǎng)規(guī)模正在悄然發(fā)展，靶材的難點(diǎn)僅僅看純度么？靶材性能影響鍍膜質(zhì)量，不同應(yīng)用性能要求各有側(cè)重，通常半導(dǎo)體靶材純度高，平面顯示靶材面積大對(duì)均勻性、焊接率要求高，而多元素靶材對(duì)原料成分和籌備均勻性提出更高要求。靶材原料高純金屬和陶瓷粉位于靶材產(chǎn)業(yè)鏈的高附加值環(huán)節(jié)，主要依靠日美***，而國(guó)內(nèi)少數(shù)金

2024-07-30 面議/套

供應(yīng)鉻靶材,噴涂鉻靶材,高純

? ? ? 真空鍍膜機(jī)是目前制作真空條件應(yīng)用較為廣泛的真空設(shè)備，一般用真空室、真空機(jī)組、電氣控制柜三大部分組成，排氣系統(tǒng)采用“擴(kuò)散泵 機(jī)械泵＋羅茨泵＋低溫冷阱＋polycold;組成。真空主體;真空腔根據(jù)加工產(chǎn)品要求的各異，真空腔的大小也不一樣，目前應(yīng)用較多的有直徑1.3M、0.9M、1.5M、1.8M等，腔體由不銹鋼材料制作，要求不生銹、堅(jiān)實(shí)等，真空腔各部分有連接閥，用來(lái)連接各抽氣泵浦。抽氣系統(tǒng)

2024-07-30 面議/套