旋轉(zhuǎn)氧化鈦靶,氧化鈦靶材顏

旋轉(zhuǎn)氧化鈦靶，以純Ti粉末、FeAl粉末、CrFe 粉末為原料制得復(fù)合粉末，在 CLAM 鋼基材表面上采用熱噴涂-激光原位合成復(fù)合工藝制備了Al2O3-TiO2復(fù)相陶瓷涂層。 為了提高金屬結(jié)構(gòu)材料表面的性能，國內(nèi)外研究學(xué)者研發(fā)了耐高溫、耐高溫梯度、耐腐蝕以及抗輻照損傷的新材料，或者通過采取適當(dāng)?shù)谋砻娓男约夹g(shù)直接在 ADS 系統(tǒng)主要候選金屬材料表面進(jìn)行表面處理，如采用先進(jìn)的表面改性技術(shù)制備高性能的涂

2024-08-17 面議/套

旋轉(zhuǎn)硅鋁靶,硅鋁靶,硅鋁鋯靶

旋轉(zhuǎn)硅鋁金靶，磁控濺射的應(yīng)用領(lǐng)域：新興的電子行業(yè)，真空鍍膜法被大量應(yīng)用于電阻、電容和半導(dǎo)體的制造，后來這一技術(shù)又逐漸發(fā)展成為集成電路和微電子器件的細(xì)微加工領(lǐng)域，并一直應(yīng)用到現(xiàn)在；同樣新興的材料改性也需要提供大量具有特殊性能的工程材料，而在材料改性和薄膜技術(shù)方面真空電鍍又是走在了技術(shù)的****，特別是在高腐蝕、高耐溫、高度度、高潤滑等領(lǐng)域，真空鍍膜法有其強(qiáng)大的技術(shù)優(yōu)勢并將一直發(fā)展下去。伴隨著磁控濺射

2024-08-17 0

氧化物靶材,氧化鈦靶材,氧化

?靶材中毒是由于在濺射過程中帶有正電的離子聚集在靶表面。然后并沒有得到中和，便出現(xiàn)靶表面負(fù)偏壓逐步下降。這所謂的靶中毒現(xiàn)象。對于影響靶材中毒的因素是什么呢？1.影響靶中毒的因素主要是反應(yīng)氣體和濺射氣體的比例，反應(yīng)氣體過量就會導(dǎo)致靶中毒。反應(yīng)濺射工藝進(jìn)行過程中靶表面濺射溝道區(qū)域內(nèi)出現(xiàn)被反應(yīng)生成物覆蓋或反應(yīng)生成物被剝離而重新暴露金屬表面此消彼長的過程。采用中頻電源或射頻電源打一個到兩個小時，可以恢復(fù)。

2024-08-16 面議/套

高純鎳靶,鎳鉻合金靶,鎳鐵合

? ? ? 稀土金屬鈰靶材Ce，金屬鉻靶材Cr，金屬鈷靶材Co，金屬銅靶材Cu，稀土金屬鏑靶材Dy，稀土金屬鉺靶材Er，稀土金屬銪靶材Eu，稀土金屬釓靶材Gd，鍺靶材Ge，黃金靶材Au，金屬鉿靶材Hf，稀土金屬鈥靶材Ho，金屬銦靶材In，金屬銥靶材Ir，金屬鐵靶材Fe，金屬鑭靶材La，金屬镥靶材Lu，金屬鎂靶材Mg，金屬錳靶材Mn，難熔金屬鉬靶材Mo，稀土金屬釹靶材Nd，金屬鎳靶材Ni，難熔金屬鈮

2024-08-16 面議/套

低磁性鎳靶材 科研鎳靶 高純

濺射靶材制備電子薄膜的關(guān)鍵材料，也是濺射過程中的轟擊目標(biāo)。鎢濺射靶材按照化學(xué)成分可以分為純鎢濺射靶材、鎢合金濺射靶材和氧化鎢濺射靶材。2019年，產(chǎn)業(yè)鏈各環(huán)節(jié)集中度進(jìn)一步提高。多晶硅領(lǐng)域，日本日礦金屬、東曹公司，美國霍尼韋爾、普萊克斯公司，排名前五的企業(yè)產(chǎn)量約為23.7萬噸，約占全國總產(chǎn)量的69.3%,同比增長9個百分點日本是大部分國家主要的半導(dǎo)體材料生產(chǎn)國，并在半導(dǎo)體材料里長期保持優(yōu)勢，生產(chǎn)半導(dǎo)

2024-08-16 面議/套

高純金屬靶材,多元合金靶材,

ITO靶材市場應(yīng)用狀況大部分國家2005 年需求563t，2007 年869t，2009 年1300t，2010 年1445t，2012 年將近2000t，每年以平均15%的增長率遞增。其中日本日礦材料公司占市場50%，日本三井礦業(yè)占25%，東曹占15%，科寧占10%，國內(nèi)靶材公司占據(jù)數(shù)額幾乎可以忽略不計。 靶材主要應(yīng)用在平板顯示、記錄媒體、光伏電池、半導(dǎo)體等領(lǐng)域。貨品的深加工技術(shù)朝高純化、精細(xì)化

2024-08-16 面議/套

鐵磁性靶材,非磁性靶材,磁控

ITO靶材成形的工藝有冷靜壓成。ITO/Si異質(zhì)結(jié)光電器件與p-n結(jié)光電池比較具有工藝簡單,轉(zhuǎn)換效率高等特點。在靶材制造的過程中，需要經(jīng)歷粉末冶煉、粉末混合、壓制成型、氣氛燒結(jié)、塑性加工、熱處理、超聲探傷、機(jī)械加工、水切割、機(jī)械加工、金屬化、綁定、超聲、超聲清洗、檢驗出貨。ITO有著多種功用,首先ITO為高帶隙材料,可用作光電池的光入射窗口,又可作為收集光電流的電極,在基底半導(dǎo)體Si上形成勢壘作為

2024-08-16 面議/套

hit電池靶材,hjt電池靶材,異

目前國內(nèi)氧化物薄膜材料的制備方法和技術(shù)有很多，其中主要的方法有脈沖激光沉積、磁控濺射、電子束蒸發(fā)、分子束外延等物理方法，以及化學(xué)氣相沉積、溶膠-凝膠、噴霧熱解等化學(xué)方法。在這些制備技術(shù)中，磁控濺射鍍膜技術(shù)具有易于大面積鍍膜、工業(yè)化生產(chǎn)以及薄膜品質(zhì)、成分、結(jié)構(gòu)、均勻性等易于調(diào)控的優(yōu)勢，是產(chǎn)業(yè)化制備氧化物薄膜材料的重要方法之一，以該方法制備的氧化物薄膜材料在液晶面板、觸摸屏、薄膜太陽能電池、發(fā)光二極管

2024-08-16 面議/套

氧化鋅鋁靶材,azo靶材,AZO綁

? ? 尤特制備的AZO靶材，客供太陽能光伏和Low-e玻璃鍍膜用，AZO靶材能制備比例：98:2、99:1，化學(xué)式: AZO。? ? 磁控濺射靶材廣泛應(yīng)用于用于建筑/汽車玻璃工業(yè)、薄膜太陽能工業(yè)、平面顯示工業(yè)、裝飾/功能鍍膜工業(yè)。隨著國內(nèi)靶材行業(yè)研發(fā)的投入和發(fā)展，國內(nèi)已有靶材供應(yīng)商、制造商的生產(chǎn)出來的靶材達(dá)到了進(jìn)口的水平。在廣州，尤特新材料成為全球全球較好個研制最長、最厚旋轉(zhuǎn)靶材的制造商，隨著研

2024-08-16 面議/公斤