高純硅鋁靶,硅鋁靶源頭廠家,

? ? ? 預(yù)計年我國濺射靶材的市場規(guī)模有望持續(xù)擴(kuò)大，復(fù)合增速將維持在2016年20%左右增速水平。大部分國家銦消費(fèi)的70%都用來生產(chǎn)ITO靶材電子半導(dǎo)體和無線電領(lǐng)域銦具有沸點(diǎn)高、低電阻和抗腐蝕等特性，在電子半導(dǎo)體和無線電行業(yè)也有廣泛應(yīng)用。有相當(dāng)大部分的金屬銦用于生產(chǎn)半導(dǎo)體材料。在無線電和電子工業(yè)中，銦用于制造特殊的接觸裝置，即將銦和銀的氧化物經(jīng)混合后壓制而成。為了提高LED芯片的出光效率，人們想

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濺射靶材供應(yīng)商家 濺射靶材

高真空鍍膜機(jī)一般由以下幾部分組成：真空系統(tǒng)、高真空鍍膜工作室、電氣控制與安全保護(hù)系統(tǒng)。采用電阻加熱，可加熱蒸發(fā)各種非難熔的金屬與非金屬材料。電極用橡膠圈與真空室底版密封，為了防止在加熱時電極過熱致使密封，對電極通水冷卻。電阻加熱元件采用高熔點(diǎn)的金屬鉬片制成舟狀，機(jī)械泵：機(jī)械泵是利用機(jī)械方法來獲得低真空的主要設(shè)備，也是高真空機(jī)組的前級泵。機(jī)械泵主要有圓柱形定子、偏心轉(zhuǎn)子和滑動翼片組成。機(jī)械泵不宜用于

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鎳鉻管靶 高純鎳鉻靶材 NiCr

一種高致密度的硅鋁旋轉(zhuǎn)靶材的制備方法，它具有工藝簡單、所制備的靶材品質(zhì)較佳的特點(diǎn)。本發(fā)明所采用的技術(shù)方案是：高致密度的硅鋁旋轉(zhuǎn)靶材的制備方法，包括以下步驟：(1)制備噴涂粉末；(2)預(yù)處理靶材背管；(3)對靶材背管噴涂打底層；(4)用等離子噴涂工藝在靶材背管上制備硅鋁靶材。所述步驟(1)中，制備噴涂粉末的方法為：以質(zhì)量百分比計，將90％-92％的硅粉與8％-10％的鋁粉混合后，在V型混粉機(jī)中均勻混

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Ni靶材 鎳靶材密度 鎳靶材廠

? ? 太陽能電池主要包括晶體硅太陽能電池和薄膜太陽能電池， PVD 工藝主要應(yīng)用于薄膜太陽能電池中。晶體硅太陽能電池效率較高、性能穩(wěn)定，且各個產(chǎn)業(yè)環(huán)節(jié)比較成熟，占據(jù)了太陽能電池市場的主要地位。與晶體硅太陽能電池相比，薄膜太陽能電池材料用量大大減少，從而大幅降低了制造成本和產(chǎn)品價格，同時，薄膜太陽能電池還具有制造溫度低、應(yīng)用范圍大等特點(diǎn)。21 世紀(jì)以來，大部分國家光伏產(chǎn)業(yè)迅速發(fā)展。近年來，隨著國家

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高純銦靶,銦管靶,銦靶材廠家

? ? ? ITO究竟是什么？ITO是IndiumTinOdes的縮寫，即摻錫氧化銦。是透明導(dǎo)電氧化物TCOs的一種，由于良好的導(dǎo)電性和透明性的組合性能，成為主要的透明導(dǎo)電材料。靶材的主要性能要求純度純度是靶材的主要性能指標(biāo)之一，因?yàn)榘胁牡募兌葘Ρ∧さ男阅苡绊懞艽�。不過在實(shí)際應(yīng)用中，對靶材的純度要求也不盡相同。例如，隨著微電子行業(yè)的迅速發(fā)展，硅片尺寸由6”,8“發(fā)展到12”,而布線寬度由0.5um

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氧化鋯靶材,硅鋯靶材,硅鋯靶

? ? 磁控濺射是一種物理氣相沉積的。濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料，具有設(shè)備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)。因?yàn)槭窃诘蜌鈮合逻M(jìn)行高速濺射，必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場，利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。磁控濺射靶材廣泛應(yīng)用于用于建筑/汽車玻璃工業(yè)、薄膜太陽能工業(yè)、平面顯示工業(yè)、裝飾/功能鍍膜工業(yè)。隨著國內(nèi)靶材行業(yè)研

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錫銦合金靶 高純銦靶 高純錫

? ? ? 靶材的分類方法很多，按材質(zhì)、按形狀、按應(yīng)用領(lǐng)域。按形狀可分為長靶、方靶、圓靶。按材質(zhì)可分為金屬靶材（純金屬鋁、鈦、銅、鉭等）、合金靶材（鎳鉻合金、鎳鈷合金等）、陶瓷化合物靶材（氧化物、硅化物、碳化物、硫化物等）。按應(yīng)用領(lǐng)域靶材可分為半導(dǎo)體芯片靶材、平板顯示靶材、太陽能電池靶材、信息存儲靶材、工具改性靶材、電子器件靶材、其他靶材。稀土領(lǐng)域，UVTM是全國范圍內(nèi)稀土技術(shù)能力比較一體的后起之

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99.95%高純鈮靶,鈮靶材生產(chǎn)

? ? ? 由MOCVD系統(tǒng)生成的材料體系。平板顯示器件都要用到各種類型的薄膜，沒有薄膜技術(shù)就沒有平板顯示器件。平板顯示器多由金屬電極、透明導(dǎo)電極、絕緣層、發(fā)光層組成，為了保證大面積膜層的均勻性，提高生產(chǎn)率和降低成本，幾乎所有類型的平板顯示器件都會使用大量的鍍膜材料來形成各類功能薄膜，其所使用的PVD鍍膜材料主要為濺射靶材，平板顯示器的很多性能如分辨率、透光率等都與濺射薄膜的性能密切相關(guān)。平板顯示

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氧化鋅鋁靶材廠家 氧化鋅鋁

? ? ? 難熔金屬一般指熔點(diǎn)高于1650°C并有一定儲量的金屬，包括鎢、鉭、鉬、鈮、鉿、鉻、釩、鋯和鈦，也有將熔點(diǎn)高于鋯熔點(diǎn)即1852°C的金屬稱為難熔金屬。以這些金屬為基體，添加其他元素形成的合金稱為難熔金屬合金。[0003]作為濺射靶材使用的難熔金屬主要指鎢鉬鉭鈮。難熔金屬材料作為濺射已經(jīng)運(yùn)用在包括液晶顯示器、薄膜太陽能光伏、智能玻璃在內(nèi)的多個領(lǐng)域。其中難熔金屬旋轉(zhuǎn)靶材是制造難熔金屬薄膜的必

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