面板用ito靶材,ito靶材定制,

?ITO靶材產(chǎn)業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀及其對(duì)我國(guó)觸控面板產(chǎn)業(yè)的影響。如何燒制是個(gè)問(wèn)題,而燒結(jié)大尺寸的ITO靶材就意味著需要大型的爐子。首先需要把氧化銦和氧化錫粉末按嚴(yán)格的比例混合，然后生產(chǎn)加工成地板磚的形狀，1700攝氏度的高溫?zé)�制，形成的黑灰色陶瓷半�?dǎo)體就是ITO靶材。 全球銦的保有量只有1.6萬(wàn)噸，中國(guó)的銦保有量約1萬(wàn)噸，到62%。接下來(lái)是秘魯?shù)?80噸、加拿大的560噸、美國(guó)的450噸，分別占全球保有量的

2024-08-29 面議/套

旋轉(zhuǎn)鉻靶 旋轉(zhuǎn)鉻靶價(jià)格 廣東

真空鍍膜機(jī)的發(fā)展相當(dāng)迅速，隨著生產(chǎn)率的提高，生產(chǎn)費(fèi)用大大降低，已經(jīng)為真空鍍膜產(chǎn)品的普遍使用鋪平了道路。以卷繞式真空鍍膜機(jī)為例，剛開(kāi)發(fā)時(shí)可鍍的薄膜基材寬度是150mm，目前已達(dá)2253mm�；�材卷筒的卷徑是1000mm，卷繞速度750m/min。自動(dòng)裝卸的半連續(xù)卷繞式真空鍍膜機(jī)鍍膜占整個(gè)周期的75%，操作只占25%。隨著計(jì)測(cè)技術(shù)、控制技術(shù)的進(jìn)步和電子計(jì)算機(jī)的應(yīng)用，卷繞式真空鍍膜機(jī)正向著高度自動(dòng)化和高

2024-08-29 面議/套

廣州靶材 廣州靶材價(jià)格 銀靶

? ? ? 高溫納米陶瓷涂層是將復(fù)合稀土納米陶瓷漿料噴涂于金屬或者非金屬表面，經(jīng)干燥固化升溫后，星騁復(fù)合稀土納米陶瓷薄膜層，納米陶瓷層具有不錯(cuò)的高溫穩(wěn)定性、抗腐蝕能力和硬度及非浸潤(rùn)性的表面力學(xué)性能。高溫納米陶瓷材料涂層的作用機(jī)理如下：（1）致密的陶瓷薄膜隔絕了基質(zhì)與外部環(huán)境的接觸，同時(shí)發(fā)揮了納米陶瓷層的舒緩反應(yīng)性，耐高溫腐蝕、耐磨損等性能，附著在基材表面，一體提升基材性能和可靠性，有效防止基材的氧

2024-08-29 面議/套

氧化鈮靶材,噴涂氧化鈮靶材,

旋轉(zhuǎn)氧化鈮靶（NbOxSputteringTarget）主要用于光學(xué)玻璃、平面顯示行業(yè)、建筑玻璃鍍膜行業(yè)、薄膜光伏太陽(yáng)能電池電較膜系等，可生產(chǎn)狗骨型，或按客戶要求定制靶材。在半導(dǎo)體材料行業(yè)中，國(guó)產(chǎn)靶材替代國(guó)外靶材已經(jīng)嶄露頭角，呈現(xiàn)定點(diǎn)打破局面，正是需要社會(huì)資金大力投入奮力追趕之關(guān)鍵時(shí)刻。價(jià)格也昂貴，這方面的要求明顯高于平面顯示器、太陽(yáng)能電池等其他應(yīng)用領(lǐng)域。在硅片的正面和背面制造非常精細(xì)的電路，將光

2024-08-27 面議/套

合肥濺射靶材,濺射靶材,濺射

大部分國(guó)家應(yīng)用于筆記型計(jì)算機(jī)及平板計(jì)算機(jī)的觸控面板模塊產(chǎn)值估計(jì)將達(dá)到57億美元，年增長(zhǎng)率將超30%。觸控面板的產(chǎn)業(yè)鏈很長(zhǎng)，主要包括AMOLED、玻璃基板、玻璃硬化、薄膜基材、驅(qū)動(dòng)IC、ITO靶材、ITO膜、玻璃傳感器、薄膜傳感器、玻璃模組、薄膜模組等子行業(yè)。濺射靶材及濺射技術(shù)的同步發(fā)展，較大地滿足了各種新型電子元器件發(fā)展的需求。 半導(dǎo)體芯片行業(yè)用的金屬濺射靶材，主要種類包括：銅、鉭、鋁、鈦、鈷和鎢

2024-08-27 面議/套

平面鋁釹靶材,鋁釹合金靶材,

鋁釹靶材主要是用于平面顯示器、觸摸屏的玻璃基板電極層的鍍膜。目前主要是 用真空熔煉和熱壓燒結(jié)方法研發(fā)和生產(chǎn)小尺寸平面靶，大尺寸靶是通過(guò)小尺寸拼接形成。 由于不是一體化（需要拼接）容易產(chǎn)生電弧放電，因此成膜質(zhì)量差，難以真實(shí)應(yīng)用到高質(zhì)量 的顯示屏、觸摸屏上。盡管，人們已經(jīng)采用真空熔煉生產(chǎn)空心鋁釹靶靶管，并通過(guò)銦焊綁定 到不銹鋼背管上生產(chǎn)鋁釹旋轉(zhuǎn)靶材。由于銦焊料昂貴（占整個(gè)靶材成本50% )導(dǎo)致鋁釹 旋

2024-08-27 0

硅靶材,多晶硅靶,單晶硅吧,

濺射靶材主要應(yīng)用在平板顯示、記錄媒體、光伏電池、半導(dǎo)體等領(lǐng)域。其中，在濺射靶材應(yīng)用領(lǐng)域中，半導(dǎo)體芯片對(duì)濺射靶材的金屬材料純度、內(nèi)部微觀結(jié)構(gòu)等方面都設(shè)定了極其苛刻的標(biāo)準(zhǔn)。高純靶材主要用于對(duì)材料純度、穩(wěn)定性要求更高的領(lǐng)域，像集成電路、平板顯示器、太陽(yáng)能電池、記錄媒體、智能玻璃等行業(yè)。在濺射靶材應(yīng)用領(lǐng)域中，半導(dǎo)體芯片對(duì)濺射靶材的要求是比較高的，要求靶材純度很高，一般在5N（99.999%）以上。隨著電子

2024-08-27 面議/套

鍍膜靶材,鈦鋁合金靶,鋁鈦合

? 鈦鋁合金靶材主要用于五金裝飾的耐磨、耐腐蝕硬膜，LOW-E鍍膜玻璃，半導(dǎo)體電子加工尺寸:長(zhǎng)度:4000MM厚度:6-10MM，直型、狗骨型，對(duì)于貨品靶材，若剩余下的高純殘靶若以普通廢料進(jìn)行處理，將會(huì)是對(duì)稀貴材料的較大浪費(fèi)；同時(shí)，靶材從原材料到加工成成品，成材率一般只有40%-80%，大量的余料和殘屑需要更新循環(huán)利用。對(duì)于貨品靶材，由于材料價(jià)格昂貴，迫切需要對(duì)加工過(guò)程的余料殘屑的提純?cè)倮�用及�?duì)殘

2024-08-27 面議/條

鉭靶材,平面鉭靶材,綁定鉭靶

靶材如何應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)？半導(dǎo)體芯片行業(yè)用的金屬靶材，主要種類包括：鉭、銅、鉭、鋁、鈦、鈷和鎢等高純靶材，以及鎳鉑、鎢鈦等合金類的靶材。濺射靶材種類繁多，就ITO導(dǎo)電玻璃中使用硅靶.鋁靶.鈮靶等三種以上。濺射靶材根據(jù)材料可分為金屬材料(純金屬鋁/鈦/銅/鉭等)、合金材料(鎳鉻/鎳鈷合金等)、無(wú)機(jī)非金屬(陶瓷化合物：氧化物/硅化物/碳化物等)、濺射靶材種類繁多，就ITO導(dǎo)電玻璃中使用硅靶.鋁靶.鈮靶

2024-08-27 面議/套