帶 * 為必填項(xiàng) 關(guān)閉
旋轉(zhuǎn)鉻靶 旋轉(zhuǎn)鉻靶價(jià)格 廣東旋轉(zhuǎn)鉻靶 旋轉(zhuǎn)鉻靶廠家
訂貨量(套)
價(jià)格(不含稅)
1
2100.00元/套
供應(yīng)標(biāo)題:旋轉(zhuǎn)鉻靶 旋轉(zhuǎn)鉻靶價(jià)格 廣東旋轉(zhuǎn)鉻靶 旋轉(zhuǎn)鉻靶廠家
價(jià)格:電儀
發(fā)布公司:廣州市尤特新材料有限公司
供貨總量:9999
聯(lián)系人:楊永添
發(fā)貨地點(diǎn):廣東 廣州 花都區(qū)
發(fā)布時(shí)間:2024年08月29日
有效期至:2024年10月28日
在線詢盤:在線詢盤
產(chǎn)品綜合信息質(zhì)量:未計(jì)算
- :43989
- :13
相關(guān)推薦:
基本信息
真空鍍膜機(jī)的發(fā)展相當(dāng)迅速,隨著生產(chǎn)率的提高,生產(chǎn)費(fèi)用大大降低,已經(jīng)為真空鍍膜產(chǎn)品的普遍使用鋪平了道路。以卷繞式真空鍍膜機(jī)為例,剛開發(fā)時(shí)可鍍的薄膜基材寬度是150mm,目前已達(dá)2253mm;木硗驳木韽绞1000mm,卷繞速度750m/min。自動(dòng)裝卸的半連續(xù)卷繞式真空鍍膜機(jī)鍍膜占整個(gè)周期的75%,操作只占25%。隨著計(jì)測(cè)技術(shù)、控制技術(shù)的進(jìn)步和電子計(jì)算機(jī)的應(yīng)用,卷繞式真空鍍膜機(jī)正向著高度自動(dòng)化和高度可靠性的方向發(fā)展。真空鍍膜機(jī)真空鍍膜機(jī)能夠沉積的鍍膜層厚度范圍為0.01-0.2,可以在這個(gè)范圍內(nèi)選擇,有的還可以鍍多層膜,滿足多種需要。日本****提出沉積兩種不同鍍膜材料的卷繞式蒸鍍裝置。
芯片制造設(shè)備,半導(dǎo)體材料對(duì)于芯片產(chǎn)業(yè)的重要性也是不言而喻。半導(dǎo)體材料可以分為晶圓材料和封裝材料,中國(guó)的半導(dǎo)體行業(yè)正處于成長(zhǎng)關(guān)鍵期,材料和技術(shù)仍依賴****,受到國(guó)際市場(chǎng)影響,圍繞半導(dǎo)體行業(yè)的焦慮在持續(xù)蔓延。2018年大部分國(guó)家半導(dǎo)體規(guī)模增速達(dá)12.4%。特別是存儲(chǔ)器市場(chǎng)。增速高達(dá)61.49%。一方面,存儲(chǔ)芯片需求旺盛,價(jià)格大幅上漲,另一方面,物聯(lián)網(wǎng)、汽車電子、AI等新應(yīng)用拉動(dòng)下游需求。半導(dǎo)體材料主要分為晶圓制造材料和封裝材料,料包括硅片(37%)、光刻膠、光刻膠配套試劑、濕電子化學(xué)品、電子氣體、P拋光材料、以及靶材等;、引線框架、樹脂、鍵合絲、錫球、以及電鍍液等。在芯片制造設(shè)備領(lǐng)域。美國(guó)、日本、荷蘭依然占主要地位。國(guó)內(nèi)的芯片制造與韓國(guó)和歐洲的企業(yè)相比都相距甚遠(yuǎn)。
UVTM靶材事業(yè)部在2007年成立,致力于生產(chǎn)高品質(zhì)的磁控濺射靶材,公司擁有粉末冶金、冶煉澆注、3D噴涂、冷等靜壓等多套靶材制備設(shè)備和工藝技術(shù)。主要生產(chǎn)銷售陶瓷靶材(ITO靶材、AZO靶材、氧化鈮靶材等)、金屬靶材(高純銀靶、鈮靶、銅靶等)和合金靶材(鎳鉻合合金靶、銀銅合金靶、銅鋅合金靶等),產(chǎn)品遠(yuǎn)銷20多個(gè)國(guó)家和地區(qū)。濺射靶材的要求較傳統(tǒng)材料行業(yè)高,一般要求如,尺寸、平整度、純度、各項(xiàng)雜質(zhì)含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸與缺陷控制;較高要求或特殊要求包含:表面粗糙度、電阻值、晶粒尺寸均勻性、成份與籌備均勻性等。
濺射鍍膜和蒸發(fā)鍍膜的對(duì)比:濺射鍍膜工藝可重復(fù)性好、膜厚可控制,可在大面積基板材料上獲得厚度均勻的薄膜,所制備的薄膜具有純度高、致密性好、與基板材料的結(jié)合力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn),已成為制備薄膜材料的主要技術(shù)之一,各種類型的濺射薄膜材料已得到廣泛的應(yīng)用,因此,對(duì)濺射靶材這一具有高附加值的功能材料需求逐年增加,濺射靶材亦已成為目前市場(chǎng)應(yīng)用量大的PVD鍍膜材料。蒸發(fā)鍍膜簡(jiǎn)單便利、操作方便、成膜速度快。從工藝制造角度上來(lái)看,蒸鍍材料的制造復(fù)雜度要遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于濺射靶材,蒸發(fā)鍍膜常用于小尺寸基板材料的鍍膜。
什么是磁控濺射鍍膜靶材?磁控濺射鍍膜是一種新型的物相鍍膜方式,就是用電子系統(tǒng)把電子發(fā)射并聚焦在被鍍的材料上,使其被濺射出來(lái)的原子遵循動(dòng)量轉(zhuǎn)換原理以較高的動(dòng)能脫離材料飛向基片淀積成膜。這種被鍍的材料就叫濺射靶材。其中,鋁靶、銅靶用于導(dǎo)電層薄膜。銀銅合金靶材供應(yīng)產(chǎn)地:陜西寶雞材質(zhì):Ag、Cu晶粒度:100um產(chǎn)品用途:銀銅合金靶材主要用于真空濺射鍍膜。銀銅合金優(yōu)勢(shì):有良好的導(dǎo)電性、流動(dòng)性和浸潤(rùn)性、較好的機(jī)械性能、硬度高,耐磨性和抗熔焊性。有偏析傾向。用真空中頻爐熔煉,鑄錠經(jīng)均勻化退火后可冷加工成板材、片材和絲材。作空氣斷路器、電壓控制器、電話繼電器、接觸器、起動(dòng)器等器件的接點(diǎn),導(dǎo)電環(huán)和定觸片。真空釬料。整流子器,還可制造裝飾品和餐具等。Nb純度:99.97%晶粒度:100um工藝:熱軋,冷軋,堿洗,剪切而成。應(yīng)用領(lǐng)域:鈮靶材具有耐腐蝕。
廣州市尤特新材料有限公司基本信息
公司網(wǎng)址:http://UVTMCOM.glass.com.cn
聯(lián)系人:楊永添
電話:86-020-22968888-115
移動(dòng)電話:18026253787
傳真:86-020-22968899-
地址:廣州市花都區(qū)花山鎮(zhèn)華僑科技工業(yè)園華輝路4號(hào)
網(wǎng)址:http://UVTMCOM.glass.com.cn
產(chǎn)品屬性:
計(jì)量單位:套 供貨總量:9999 最小起訂量:1 產(chǎn)品單價(jià):2100.00 品牌: 規(guī)格型號(hào): 包裝說(shuō)明: