玻璃鍍膜靶材,PET鍍膜靶材,

? ? ? 鈦及鈦合金具有不錯的物理、化學(xué)和機械性能，在各領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用。通過制備鈦涂層可顯著提高零部件表面耐腐蝕性。采用超音速等離子噴涂技術(shù)（SAPS）制備了鈦涂層，結(jié)果表明：制備的鈦涂層均勻致密，孔隙率平均為 1.7%，沉積效率平均為 52%，涂層中主要為 Ti相，O含量小于3%、N 含量小于 5%,制備的鈦涂層性能較好，與低壓等離子噴涂、冷噴涂相比較，涂層制備成本更低，操作更便捷，在工業(yè)應(yīng)用

2024-08-20 面議/套

電子電路用硅靶材,4N硅靶材,

? ? ? 磁控濺射是制備薄膜材料的主要技術(shù)，也是PVD的一種。它通過在PVD設(shè)備中用離子對目標物進行轟擊，使得靶材中的金屬原子以一定能量逸出，從而在晶圓表面沉積，濺鍍形成金屬薄膜，其中被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料。稱為濺射靶材。氮化物是在電子和光電子應(yīng)用方面有較大潛力的新型半導(dǎo)體材料,它在室溫下具有高電子遷移率和良好導(dǎo)電性的優(yōu)勢。是目前大部分國家半導(dǎo)體研究的****和熱點，是研制微電子

2024-08-20 面議/條

旋轉(zhuǎn)銀靶材,濺射銀靶材,銀靶

旋轉(zhuǎn)銀靶，主要用于Low-E玻璃膜系，薄膜太陽能電池電極膜系,TFT,半導(dǎo)體。近年，冷噴涂作為一種新型噴涂工藝被用在金屬表面制備高質(zhì)量的金屬涂層。與傳統(tǒng)的熱噴涂工藝相比，冷噴涂工藝的典型特點是利用較低的工作氣體溫度（室溫~600 ℃）形成涂層，因此，可利用冷噴涂工藝的優(yōu)勢在不改變噴涂原材料組織結(jié)構(gòu)的前提下制備涂層。研究人員用AZ31鎂合金作為基體，噴涂粉末分別用粒徑為25mm和40mm鋁粉。研究發(fā)

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不銹鋼靶材廠家,供應(yīng)不銹鋼

? ? ? 靶材，特別是高純度濺射靶材應(yīng)用于電子元器件制造的物理-氣相沉積工藝（PVD）、太陽能電池等表面電子薄膜的關(guān)鍵材料。所謂濺射，是制備薄膜材料的主要技術(shù)，也是PVD的一種。它通過在PVD設(shè)備中用離子對目標物進行轟擊，使得靶材中的金屬原子以一定能量逸出，從而在晶圓表面沉積，濺鍍形成金屬薄膜，其中被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料。稱為濺射靶材。 ? ? ? 薄膜太陽能電池比傳統(tǒng)的晶體硅太

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硅靶材密度,硅靶材摻磷,硅靶

硅的原子結(jié)構(gòu)決定了硅原子具有一定的導(dǎo)電性，但由于硅晶體中沒有明顯的自由電子，因此導(dǎo)電率不及金屬，且隨溫度升高而增加，因而具有半導(dǎo)體性質(zhì)。微電子領(lǐng)域?qū)Π胁臑R射薄膜的品質(zhì)和電阻要求是相當苛刻的。硅片制造商對靶材的要求是大尺寸、高純度、低偏析和細晶粒，這就要求所制造的靶材具有更好的微觀結(jié)構(gòu)。電阻率是硅靶材產(chǎn)品的重要參數(shù)之一，除特殊用途外，絕大多數(shù)硅靶材電阻率要求越低越好，開始應(yīng)用時電阻率要求在0.1-0

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空心管靶,空心靶材,旋轉(zhuǎn)銀靶

? ? ? 平板顯示靶材技術(shù)要求也很高，它要求材料高純度、面積大、均勻性程度高。鋁、銅、鉬、鉻等，主要應(yīng)用于薄膜太陽能電池，太陽能靶材技術(shù)要求高、應(yīng)用范圍大。信息存儲靶材的原材料有鉻基、鈷基合金等，用于光驅(qū)、光盤、機械硬盤、磁帶等。信息存儲靶材具備高存儲密度、高傳輸速度等特性。濺射靶材種類繁多，就ITO導(dǎo)電玻璃中使用硅靶.鋁靶.鈮靶等三種以上。根據(jù)應(yīng)用領(lǐng)域的不同，靶材的材料、形狀也會有所差異。根據(jù)

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銅背板,銅背板定制,銅背板源

? ? ? 預(yù)計在2021年異質(zhì)結(jié)的產(chǎn)能會提升至10.5GW。隨著異質(zhì)結(jié)技術(shù)的逐漸成熟，也可和其他光伏電池技術(shù)相結(jié)合，例如異質(zhì)結(jié) I電池、異質(zhì)結(jié)鈣鈦礦疊層電池。作為行業(yè)內(nèi)率先布局異質(zhì)結(jié)的企業(yè)之一，東方日升在HJT技術(shù)研發(fā)、量產(chǎn)等方面均具備****優(yōu)勢。其推出的行業(yè)內(nèi)首半片HJT組件產(chǎn)品，效率高達21.9%，溫度系數(shù)為-0.24%/℃。用準確儀器設(shè)備在半導(dǎo)體芯片各個功能層上鍍覆一層薄薄的透明金屬導(dǎo)電

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陶瓷靶,AZO靶,AZO靶材廠家

? ? ? AZO靶材是其中一種制造高科技節(jié)能玻璃鍍膜材料。銀銅合金靶材供應(yīng)。陶瓷靶材。UVTM擁有真空等離子噴涂、真空熔煉爐、數(shù)控線切割、熱等靜壓等生產(chǎn)設(shè)備，熱噴涂、難熔金屬及液晶材料生產(chǎn)線。公司在大力拓展市場的同時，不斷完善內(nèi)部體制。尤特新材在2009年率先在同行業(yè)中通過了ISO2008質(zhì)量體系認證。為滿足高等客戶嚴格要求，公司與多所國內(nèi)高校、研究院、業(yè)內(nèi)相關(guān)人士進行交流和合作，并建立了400

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旋轉(zhuǎn)AZO靶材,AZO旋轉(zhuǎn)靶材,AZ

? ? 20世紀90年代以來靶材已蓬勃發(fā)展成為一個專業(yè)化產(chǎn)業(yè)，中國及亞太地區(qū)靶材的需求占有世界70%以上的市場份額。大量不同的沉積技術(shù)用來沉積生長各種薄膜 ，而靶材是制作薄膜的關(guān)鍵，品質(zhì)的好壞對薄膜的意義重大。目前高等品質(zhì)靶材主要由:日本、德國和美國生產(chǎn)，我國靶材產(chǎn)業(yè)起步較晚，在產(chǎn)品質(zhì)量與精細標準上與國外有不少的差距，國內(nèi)也有許多大學(xué)及研究機構(gòu)對靶材積極投入了大量鉆研與開發(fā)，經(jīng)過這幾年的發(fā)展也涌現(xiàn)

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