旋轉(zhuǎn)鋅鋁靶材,澆注鋅鋁合金

旋轉(zhuǎn)鋅鋁靶 Rotatable ZnAl target，應(yīng)用：主要用于制作ZnO.Al2O3 膜，廣泛用于TCO玻璃，熱反射玻璃，Low-E玻璃膜。氧化鋅是一種透明導(dǎo)電膜材料。以ZnO粉末和Al_2O_3粉末為主要原料,以常壓、空氣氣氛燒結(jié)為手段制備透明導(dǎo)電膜用ZnO陶瓷靶材。研究結(jié)果表明:粉末成型壓力為3MP時(shí),靶材電學(xué)性能佳;當(dāng)Al:Zn原子比為4.100時(shí),ZnO的電阻率低,達(dá)4.1×10~

2024-08-30 面議/公斤

鎳鉻合金靶材,鎳鉻靶材,NiCr

目前，國(guó)內(nèi)外鎳鉻合金靶材在純度方面的差距顯著，國(guó)內(nèi)所生產(chǎn)的鎳鉻合金靶材能達(dá)到4N級(jí)，而日本相關(guān)靶材廠家制備的鎳鉻靶可以達(dá)到5N以上。超高純、高利用率與良好的濺射沉積均勻性是高質(zhì)量靶材所追求的優(yōu)良特性，因此在靶材基本制備方法的基礎(chǔ)上，需要不斷優(yōu)化工藝提高靶材質(zhì)量，具體地，從高純化、提高磁透率(PTF)以及組織結(jié)構(gòu)控制等方面提高靶材質(zhì)量，將成為鎳鉻合金靶材制備工藝的發(fā)展趨勢(shì)。 靶材的組織結(jié)構(gòu)控制也與濺

2024-08-30 面議/千克

高純鎳鉻靶材 鎳鉻合金靶材

? ? 半導(dǎo)體是對(duì)靶材組成、結(jié)構(gòu)和性能要求級(jí)高的領(lǐng)域。中國(guó)半導(dǎo)體靶材市場(chǎng)增長(zhǎng)迅速。尤特新材主要產(chǎn)品為各種高純?yōu)R射靶材，包括鋁靶、鈦靶、鉭靶、鎢鈦靶等，這些產(chǎn)品主要應(yīng)用于超大規(guī)模集成電路芯片、液晶面板、薄膜太陽(yáng)能電池制造的物理氣相沉積(PVD)工藝，用于制備電子薄膜材料。目前，公司產(chǎn)品主要應(yīng)用于半導(dǎo)體、平板顯示器及太陽(yáng)能電池等領(lǐng)域。在超大規(guī)模集成電路用高純金屬靶材領(lǐng)域，公司成功打破美國(guó)、日本跨國(guó)公司

2024-08-29 面議/套

鍍膜靶材,濺鍍靶材,濺射靶材

? ? ? 國(guó)外對(duì)高純金屬材料的開發(fā)研究較早，日本、美國(guó)、英國(guó)和俄羅斯等國(guó)家意志以來(lái)都十分重視高純金屬材料的研制、生產(chǎn)和應(yīng)用。其生產(chǎn)的高純金屬材料品種齊全、質(zhì)量好、產(chǎn)量大，產(chǎn)品純度較高可達(dá)6N以上。尤特新材料，多年來(lái)致力于對(duì)貴重金屬材料的研發(fā)和生產(chǎn)，為客戶提供一站式的解決方案，公司擁有成熟的貨品靶材的循環(huán)回收利用的技術(shù)及設(shè)備，有效為客戶提高材料利用效率和節(jié)約資源。靶材的利用率達(dá)到70%以上，并成為

2024-08-29 面議/套

綁定硅靶,綁定ITO靶,綁定鉭

? ? 尤特新材的薄膜材料，可分為濺射靶材、蒸鍍材料與鍍膜配件三大產(chǎn)品線，主要應(yīng)用于光學(xué)、光通信、平板顯示、觸控面板、集成電路、LED芯片、Low-E玻璃、裝飾鍍膜、工具鍍膜、光伏、光磁存儲(chǔ)等領(lǐng)域。UVTM扎根于中國(guó)本土市場(chǎng)，同時(shí)積極拓展海外市場(chǎng)，產(chǎn)品遠(yuǎn)銷日本、韓國(guó)、新加坡、美國(guó)、德國(guó)等國(guó)家，并與大部分國(guó)家知名光電技術(shù)企業(yè)建立了長(zhǎng)期的戰(zhàn)略合作伙伴關(guān)系，是目前國(guó)內(nèi)薄膜材料行業(yè)設(shè)備先進(jìn)、技術(shù)水平高、產(chǎn)

2024-08-29 面議/套

銅背板綁定,綁定銅背板,靶材

? ? ? 綁定式磁控濺射旋轉(zhuǎn)靶材，包括背管(I)和固定套結(jié)在背管(I)外壁的靶管(3)，其特征在于:所述固定套結(jié)在背管(I)外壁的靶管(3)為至少一個(gè)，所述背管(I)外壁設(shè)有開口槽(2)，靶管(3)通過(guò)填充在開口槽(2)內(nèi)的無(wú)銦釬焊材料旋轉(zhuǎn)加熱焊接固定在背管(I)夕卜壁。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述綁定式磁控濺射旋轉(zhuǎn)靶材，其特征在于:所述開口槽(2)為半圓形螺旋槽。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述綁定式磁控濺射

2024-08-29 面議/套

高純鈮靶材,金屬鈮靶材,鈮靶

? ? ? 中國(guó)集成電路材料現(xiàn)狀如何？靶材是薄膜制備的關(guān)鍵原料之一，半導(dǎo)體在靶材應(yīng)用中約占10%。2016年靶材市場(chǎng)增速達(dá)到20%，2017年-2019年仍將保持復(fù)合增速13%，到2018年大部分國(guó)家靶材市場(chǎng)空間達(dá)到983億元，超越大部分國(guó)家金屬鈷和碳酸鋰合計(jì)941億元的市場(chǎng)，未來(lái)潛力巨大。高純金和高純銀因具有接觸電阻小，熱阻低，熱效應(yīng)力小和可靠性高等優(yōu)點(diǎn)，其靶材材料廣泛應(yīng)用于背面金屬化系統(tǒng)、汽車

2024-08-29 面議/套

高純銀靶材廠家 濺射銀靶 銀

芯片制造對(duì)濺射靶材金屬純度的要求較高，通常要達(dá)到99.9995%以上，而平板顯示器、太陽(yáng)能電池分別要求達(dá)到99.999%、99.995%以上即可。除了純度之外，芯片對(duì)濺射靶材內(nèi)部微觀結(jié)構(gòu)等也設(shè)定了極其苛刻的標(biāo)準(zhǔn)，需要掌握生產(chǎn)過(guò)程中的關(guān)鍵技術(shù)，并經(jīng)過(guò)長(zhǎng)期實(shí)踐才能制成符合工藝要求的產(chǎn)品。半導(dǎo)體制造流程當(dāng)中，濺射靶材無(wú)疑是重中之重的原材料，其質(zhì)量和純度對(duì)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的后續(xù)生產(chǎn)質(zhì)量起著關(guān)鍵性作用。非常高純

2024-08-29 面議/套

TFT用靶材,半導(dǎo)體靶材,面板

半導(dǎo)體材料主要分為晶圓制造材料和封裝材料，制造材料包括硅片（37%）、光刻膠、光刻膠配套試劑、濕電子化學(xué)品、電子氣體、CMP拋光材料、以及靶材等；（39%）、引線框架、樹脂、鍵合絲、錫球、以及電鍍液等。在國(guó)內(nèi)占據(jù)了大部分中等和要求不高的靶材市場(chǎng)份額。國(guó)內(nèi)靶材公司的發(fā)展趨勢(shì)如何？目前全球高端靶材市場(chǎng)主要分布于韓國(guó)、寶島、中國(guó)、日本，主要供應(yīng)商在日本，韓國(guó)。 中國(guó)市場(chǎng)目前年消耗ITO靶材約300噸，但

2024-08-29 面議/千克