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廣州市尤特新材料有限公司

主營:濺射靶材,鍍膜靶材,金屬靶材,旋轉(zhuǎn)靶材,平面靶材,噴涂靶材,靶材,UV玻璃油墨

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  • 旋轉(zhuǎn)氧化鈦靶,氧化鈦靶材顏色,氧化鈦靶材導(dǎo)電性
    旋轉(zhuǎn)氧化鈦靶,氧化鈦靶材顏

    旋轉(zhuǎn)氧化鈦靶,以純Ti粉末、FeAl粉末、CrFe 粉末為原料制得復(fù)合粉末,在 CLAM 鋼基材表面上采用熱噴涂-激光原位合成復(fù)合工藝制備了Al2O3-TiO2復(fù)相陶瓷涂層。 為了提高金屬結(jié)構(gòu)材料表面的性能,國內(nèi)外研究學(xué)者研發(fā)了耐高溫、耐高溫梯度、耐腐蝕以及抗輻照損傷的新材料,或者通過采取適當(dāng)?shù)谋砻娓男约夹g(shù)直接在 ADS 系統(tǒng)主要候選金屬材料表面進(jìn)行表面處理,如采用先進(jìn)的表面改性技術(shù)制備高性能的涂

    2024-08-17 面議/套
  • 旋轉(zhuǎn)硅鋁靶,硅鋁靶,硅鋁鋯靶材,硅鋯鋁靶材
    旋轉(zhuǎn)硅鋁靶,硅鋁靶,硅鋁鋯靶

    旋轉(zhuǎn)硅鋁金靶,磁控濺射的應(yīng)用領(lǐng)域:新興的電子行業(yè),真空鍍膜法被大量應(yīng)用于電阻、電容和半導(dǎo)體的制造,后來這一技術(shù)又逐漸發(fā)展成為集成電路和微電子器件的細(xì)微加工領(lǐng)域,并一直應(yīng)用到現(xiàn)在;同樣新興的材料改性也需要提供大量具有特殊性能的工程材料,而在材料改性和薄膜技術(shù)方面真空電鍍又是走在了技術(shù)的****,特別是在高腐蝕、高耐溫、高度度、高潤滑等領(lǐng)域,真空鍍膜法有其強(qiáng)大的技術(shù)優(yōu)勢并將一直發(fā)展下去。伴隨著磁控濺射

    2024-08-17 0
  • 氧化物靶材,氧化鈦靶材,氧化鈦管靶
    氧化物靶材,氧化鈦靶材,氧化

    ?靶材中毒是由于在濺射過程中帶有正電的離子聚集在靶表面。然后并沒有得到中和,便出現(xiàn)靶表面負(fù)偏壓逐步下降。這所謂的靶中毒現(xiàn)象。對于影響靶材中毒的因素是什么呢?1.影響靶中毒的因素主要是反應(yīng)氣體和濺射氣體的比例,反應(yīng)氣體過量就會(huì)導(dǎo)致靶中毒。反應(yīng)濺射工藝進(jìn)行過程中靶表面濺射溝道區(qū)域內(nèi)出現(xiàn)被反應(yīng)生成物覆蓋或反應(yīng)生成物被剝離而重新暴露金屬表面此消彼長的過程。采用中頻電源或射頻電源打一個(gè)到兩個(gè)小時(shí),可以恢復(fù)。

    2024-08-16 面議/套
  • 高純鎳靶,鎳鉻合金靶,鎳鐵合金靶,鎳管靶
    高純鎳靶,鎳鉻合金靶,鎳鐵合

    ? ? ? 稀土金屬鈰靶材Ce,金屬鉻靶材Cr,金屬鈷靶材Co,金屬銅靶材Cu,稀土金屬鏑靶材Dy,稀土金屬鉺靶材Er,稀土金屬銪靶材Eu,稀土金屬釓靶材Gd,鍺靶材Ge,黃金靶材Au,金屬鉿靶材Hf,稀土金屬鈥靶材Ho,金屬銦靶材In,金屬銥靶材Ir,金屬鐵靶材Fe,金屬鑭靶材La,金屬镥靶材Lu,金屬鎂靶材Mg,金屬錳靶材Mn,難熔金屬鉬靶材Mo,稀土金屬釹靶材Nd,金屬鎳靶材Ni,難熔金屬鈮

    2024-08-16 面議/套
  • 低磁性鎳靶材 科研鎳靶 高純鎳靶材
    低磁性鎳靶材 科研鎳靶 高純

    濺射靶材制備電子薄膜的關(guān)鍵材料,也是濺射過程中的轟擊目標(biāo)。鎢濺射靶材按照化學(xué)成分可以分為純鎢濺射靶材、鎢合金濺射靶材和氧化鎢濺射靶材。2019年,產(chǎn)業(yè)鏈各環(huán)節(jié)集中度進(jìn)一步提高。多晶硅領(lǐng)域,日本日礦金屬、東曹公司,美國霍尼韋爾、普萊克斯公司,排名前五的企業(yè)產(chǎn)量約為23.7萬噸,約占全國總產(chǎn)量的69.3%,同比增長9個(gè)百分點(diǎn)日本是大部分國家主要的半導(dǎo)體材料生產(chǎn)國,并在半導(dǎo)體材料里長期保持優(yōu)勢,生產(chǎn)半導(dǎo)

    2024-08-16 面議/套
  • 高純金屬靶材,多元合金靶材,陶瓷濺射靶材,金屬膜電阻器用靶材
    高純金屬靶材,多元合金靶材,

    ITO靶材市場應(yīng)用狀況大部分國家2005 年需求563t,2007 年869t,2009 年1300t,2010 年1445t,2012 年將近2000t,每年以平均15%的增長率遞增。其中日本日礦材料公司占市場50%,日本三井礦業(yè)占25%,東曹占15%,科寧占10%,國內(nèi)靶材公司占據(jù)數(shù)額幾乎可以忽略不計(jì)。 靶材主要應(yīng)用在平板顯示、記錄媒體、光伏電池、半導(dǎo)體等領(lǐng)域。貨品的深加工技術(shù)朝高純化、精細(xì)化

    2024-08-16 面議/套
  • 鐵磁性靶材,非磁性靶材,磁控濺射靶
    鐵磁性靶材,非磁性靶材,磁控

    ITO靶材成形的工藝有冷靜壓成。ITO/Si異質(zhì)結(jié)光電器件與p-n結(jié)光電池比較具有工藝簡單,轉(zhuǎn)換效率高等特點(diǎn)。在靶材制造的過程中,需要經(jīng)歷粉末冶煉、粉末混合、壓制成型、氣氛燒結(jié)、塑性加工、熱處理、超聲探傷、機(jī)械加工、水切割、機(jī)械加工、金屬化、綁定、超聲、超聲清洗、檢驗(yàn)出貨。ITO有著多種功用,首先ITO為高帶隙材料,可用作光電池的光入射窗口,又可作為收集光電流的電極,在基底半導(dǎo)體Si上形成勢壘作為

    2024-08-16 面議/套
  • hit電池靶材,hjt電池靶材,異質(zhì)結(jié)靶材,光伏靶材
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    目前國內(nèi)氧化物薄膜材料的制備方法和技術(shù)有很多,其中主要的方法有脈沖激光沉積、磁控濺射、電子束蒸發(fā)、分子束外延等物理方法,以及化學(xué)氣相沉積、溶膠-凝膠、噴霧熱解等化學(xué)方法。在這些制備技術(shù)中,磁控濺射鍍膜技術(shù)具有易于大面積鍍膜、工業(yè)化生產(chǎn)以及薄膜品質(zhì)、成分、結(jié)構(gòu)、均勻性等易于調(diào)控的優(yōu)勢,是產(chǎn)業(yè)化制備氧化物薄膜材料的重要方法之一,以該方法制備的氧化物薄膜材料在液晶面板、觸摸屏、薄膜太陽能電池、發(fā)光二極管

    2024-08-16 面議/套
  • 氧化鋅鋁靶材,azo靶材,AZO綁定靶材
    氧化鋅鋁靶材,azo靶材,AZO綁

    ? ? 尤特制備的AZO靶材,客供太陽能光伏和Low-e玻璃鍍膜用,AZO靶材能制備比例:98:2、99:1,化學(xué)式: AZO。? ? 磁控濺射靶材廣泛應(yīng)用于用于建筑/汽車玻璃工業(yè)、薄膜太陽能工業(yè)、平面顯示工業(yè)、裝飾/功能鍍膜工業(yè)。隨著國內(nèi)靶材行業(yè)研發(fā)的投入和發(fā)展,國內(nèi)已有靶材供應(yīng)商、制造商的生產(chǎn)出來的靶材達(dá)到了進(jìn)口的水平。在廣州,尤特新材料成為全球全球較好個(gè)研制最長、最厚旋轉(zhuǎn)靶材的制造商,隨著研

    2024-08-16 面議/公斤
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