鋅錫靶材,旋轉(zhuǎn)鋅錫管靶,鋅錫

? ? ? 芯片對濺射靶材的要求非常之高要求靶材純度很高一般在5N（99.999%）以上。5N就是表示有5個9，4N表示有4個9即99.99%，哪個純度更高一看就明白了。在提純領(lǐng)域，小數(shù)點(diǎn)后面每多一個9，難度是呈指數(shù)級別的增加，技術(shù)門檻也就更高。應(yīng)用與市場格局到這里，知道了高純?yōu)R射靶材，知道了金屬靶材的鋁、鈦、銅、鉭那怎么判斷哪個金屬應(yīng)用幾寸晶圓上哪個用在先進(jìn)制造工藝上？半導(dǎo)體晶圓制造中200mm

2024-08-08 面議/套

氧化鋅錫靶材 TZO靶材 鋅錫

靶材的技術(shù)發(fā)展趨勢與下游應(yīng)用產(chǎn)業(yè)的薄膜技術(shù)發(fā)展趨勢息息相關(guān)。不斷研發(fā)滿足薄膜性能要求的新型靶材發(fā)展。經(jīng)過多年的科技攻關(guān)和產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用，目前國內(nèi)高純?yōu)R射靶材生產(chǎn)企業(yè)已經(jīng)逐漸掌握關(guān)鍵技術(shù)門檻，結(jié)束了零的局面，生產(chǎn)能力，可以預(yù)見未來會達(dá)到高速發(fā)展時期。 隨著消費(fèi)電子等終端應(yīng)用的飛速發(fā)展，高純度濺射靶材的市場銷售額日益擴(kuò)大。中國及亞太地區(qū)靶材的需求占有世界70%以上的市場份額。研究用大量不同的沉積技術(shù)用來沉

2024-08-08 面議/套

鍍膜靶材,陶瓷靶材,氧化鋅錫

真空鍍膜設(shè)備的結(jié)構(gòu)你了解嗎？比如：真空室結(jié)構(gòu)：立式開門真空系統(tǒng)：分子泵 羅茨泵 旋片泵機(jī)組極限真空度：優(yōu)于6.6×10-4Pa（空載冷態(tài)）抽氣從大氣至6.6×10-3Pa≤12分鐘從大氣至6×10-2Pa≤5分鐘靶源配置：6套電弧靶、2對中頻濺射控制方式：手動型/PLC半自動型/工控機(jī)全自動型（客戶自選）可鍍制膜層：TiN、TiC、TiO、TiCN、TiAlN、TiAlCN、CrC、ZrN、以及N

2024-08-08 面議/套

99.99%高純鋁靶 高純鋁靶材

高純靶材主要用于對材料純度、穩(wěn)定性要求更高的領(lǐng)域，像集成電路、平板顯示器、太陽能電池、記錄媒體、智能玻璃等行業(yè)。在濺射靶材應(yīng)用領(lǐng)域中，半導(dǎo)體芯片對濺射靶材的要求是比較高的，要求靶材純度很高，一般在5N（99.999%）以上。半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)對濺射靶材和濺射薄膜的品質(zhì)要求非常高，隨著更大尺寸的硅晶圓片制造出來，相應(yīng)地要求濺射靶材也朝著大尺寸、高純度的方向發(fā)展，同時也對濺射靶材的晶粒晶向控制提出了更高的要求

2024-08-08 面議/套

旋轉(zhuǎn)靶材廠家 廣州旋轉(zhuǎn)靶材

通威股份的光伏電站是一體化的，由于屬于分布式光伏發(fā)電，這種新模式的上網(wǎng)電價比較高，利潤可觀。通威股份的硅材料目前產(chǎn)能達(dá)到6.5萬噸，今年達(dá)到8萬噸，明年大概是11萬噸。每噸成本在4萬左右，目前市場價格在6-8萬，公司的毛利達(dá)到28%。根據(jù)中國濺射靶材行業(yè)市場數(shù)據(jù)顯示：靶材在半導(dǎo)體材料中占比約為2.5-3%。上海和廣州是全國經(jīng)濟(jì)中心城市，是國際有名的港口城市，也是長三角的****城市。這里人才匯集、

2024-08-08 面議/套

991ITO靶材,973ITO靶材,955I

?IT目前，氧化物薄膜材料的主要成型方法主要有： ? ? ? ?1. 熱等靜壓法是將粉末或預(yù)先壓成的素坯裝入包套后，再將套內(nèi)抽真空焊接密封，放入高壓容器內(nèi)，使粉末在高溫及等方壓力下燒結(jié)，成型和燒結(jié)同時進(jìn)行 。在ITO靶材的發(fā)展中，早期采用的熱等靜壓技術(shù)難以獲得高密度、大尺寸的材料。隨著常壓燒結(jié)方法的出現(xiàn)，熱等靜壓法制備的靶材尺寸偏小、密度偏低、失氧率高且該方法設(shè)備偏貴、成本偏高的缺點(diǎn)，使熱等靜壓法

2024-08-08 面議/套

多弧銅靶材,多弧靶材,圓餅銅

半導(dǎo)體內(nèi)部是由長達(dá)數(shù)萬米的金屬配線而組成，而濺射靶材則是用于制作這些配線的關(guān)鍵消耗材料。如蘋果A10處理器，指甲蓋大小的芯片上密布著上萬米金屬導(dǎo)線，這些密布的電路必須要對高純度的金屬靶材通過濺射的方式形成。濺射靶材是半導(dǎo)體晶圓制造環(huán)節(jié)核心的高難度材料，芯片對濺射靶材的要求非常之高，要求靶材純度很高，一般在5N（99.999%）以上。5N就是表示有5個9，4N表示有4個9即99.99%，哪個純度更高

2024-08-08 面議/套

ito靶材廠家 旋轉(zhuǎn)靶材廠家

? ? ?在氦氣或氮?dú)獗Ｗo(hù)氣氛下，通過送粉裝置將CuSe粉體送到超音速冷噴涂技術(shù)槍，高速氣流將CuSe粉體按掃描方式逐層噴射在基體表面，每層1～5μm，直至CuSe堆積層的厚度達(dá)到5～20mm，冷卻至室溫，其中，冷噴涂****處氣體壓強(qiáng)為2～3MPa，氣體溫度為100～200℃；工作氣加熱到200～300℃，增壓至3～5MPa；噴射距離為30～55mm。 ? ? ?當(dāng)前難熔金屬以及合金旋轉(zhuǎn)靶材的加

2024-08-07 面議/套

平面靶材 氧化銦粉報價 氧化

? ? ? 目前大部分國家高等靶材市場主要分布于韓國、、中國、日本，中國有超過20家靶材生產(chǎn)企業(yè)，依靠國內(nèi)的巨大市場潛力和利好的產(chǎn)業(yè)政策，以及產(chǎn)品價格優(yōu)勢，國內(nèi)的靶材制造商已經(jīng)在國內(nèi)市場占有一定的市場份額，并逐步在個別細(xì)分領(lǐng)域搶占了部分國際大廠的市場空間。UVTM擁有多年開發(fā)和工作經(jīng)驗(yàn)的納米材料，并擁有冷噴涂技術(shù)生產(chǎn)金屬合金靶材，其制備的靶材Sn和O含量均略低于國產(chǎn)靶材。UVTM還是靶材綁定方面的

2024-08-07 面議/千克