靶材的技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)與下游應(yīng)用產(chǎn)業(yè)的薄膜技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)息息相關(guān)。不斷研發(fā)滿足薄膜性能要求的新型靶材發(fā)展。經(jīng)過(guò)多年的科技攻關(guān)和產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用，目前國(guó)內(nèi)高純?yōu)R射靶材生產(chǎn)企業(yè)已經(jīng)逐漸掌握關(guān)鍵技術(shù)門檻，結(jié)束了零的局面，生產(chǎn)能力，可以預(yù)見(jiàn)未來(lái)會(huì)達(dá)到高速發(fā)展時(shí)期。

隨著消費(fèi)電子等終端應(yīng)用的飛速發(fā)展，高純度濺射靶材的市場(chǎng)銷售額日益擴(kuò)大。中國(guó)及亞太地區(qū)靶材的需求占有世界70%以上的市場(chǎng)份額。研究用大量不同的沉積技術(shù)用來(lái)沉積生長(zhǎng)各種薄膜。其中靶材是制作薄膜的關(guān)鍵，靶材品質(zhì)的好壞對(duì)薄膜的意義重大。磁控膜玻璃出現(xiàn)脫膜現(xiàn)象幾大原因：原片存放因素，玻璃表面越新鮮，表面活性越大，與膜層的結(jié)合力越強(qiáng)，反之則差。使用存放期過(guò)長(zhǎng)的玻璃，由于玻璃表面霉變和附著的污物會(huì)大量增加。

磁控濺射靶材廣泛應(yīng)用于用于建筑/汽車玻璃工業(yè)、薄膜太陽(yáng)能工業(yè)、平面顯示工業(yè)、裝飾/功能鍍膜工業(yè)。隨著國(guó)內(nèi)靶材行業(yè)研發(fā)的投入和發(fā)展，國(guó)內(nèi)已有靶材供應(yīng)商、制造商的生產(chǎn)出來(lái)的靶材達(dá)到了進(jìn)口的水平。在廣州，尤特新材料成為全球全球較好個(gè)研制最長(zhǎng)、最厚旋轉(zhuǎn)靶材的制造商，隨著研發(fā)的持續(xù)投入，國(guó)內(nèi)靶材行業(yè)的未來(lái)值得期待。磁控濺射是一種物理氣相沉積的。濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料，具有設(shè)備簡(jiǎn)單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)。因?yàn)槭窃诘蜌鈮合逻M(jìn)行高速濺射，必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過(guò)在靶陰極表面引入磁場(chǎng)，利用磁場(chǎng)對(duì)帶電粒子的約束來(lái)提高等離子體密度以增加濺射率

平面靶材主要產(chǎn)品目錄 Planar Target List

1. 鉻靶（Cr Target）

2. 硅靶（Si Target）

3. 鈦靶（Ti Target ）

4. 石墨靶（C Target）

5. 銀靶（ Ag Target）

6. 銅靶（ Cu Target）

7. 鈦鋁合金靶（TiAl Alloy Target）

8. 鎳鉻合金靶（NiCr Alloy Target）

9. 氧化鈦靶（TiOx Target）

10. 鉬鈮靶 （MoNb Target)

11. 鋁釹靶 （AlNd Target)

12. 氧化鈮靶 (NbOx Target）

13. 氧化鋅鋁靶 (AZO Target)

14. 氧化鋅靶 (i-ZnO Target )

15. 鉬靶 (Mo Target)

主營(yíng)行業(yè)：化工原料、輔料//玻璃油墨 化工原料、輔料//其它 公司注冊(cè)地址：廣州市尤特新材料有限公司 法人代表：周志宏
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