供應光學平面鏡

JP06A單軸研磨拋光機主要用于直徑500mm以內(nèi)的光學平面鏡、球面鏡、非球面鏡的研磨拋光。 主要技術參數(shù)： 1、加工范圍 ≤500mm 　 2、主軸軸數(shù) 1軸 3、主軸轉(zhuǎn)速 1～50轉(zhuǎn)/分 4、主軸連接尺寸 主軸螺紋（M56×55） 定位圓Φ60 5

2011-09-22 0

供應JP04A單軸研磨拋光機

主要用于光學玻璃、石英、晶體、電子元件等脆性材料的曲面和平面零件的研磨和拋光，以及各種高精度平面、凹凸球面模具的研磨拋光。 主要技術參數(shù)： 1、加工范圍 30～400mm 　 2、水盆直徑 Φ550mm 3、主 軸 數(shù) 1 4、主軸精度 ≤0.02 5、主軸

2011-09-22 0

供應JP04.6A六軸研磨拋光機

主要用于光學玻璃、石英玻璃、晶體材料、電子之器體等脆性材料的曲面和球面、平面的研磨和拋光，以及各種高精度平面、凹凸球面模具的研磨拋光。 ? 主要技術參數(shù)： 1、加工鏡盤直徑 ≤50mm 　 2、曲率半徑 R≥5 3、水盆直徑 225mm 4、主軸轉(zhuǎn)速 150～500轉(zhuǎn)/分

2011-09-22 0

供應JP04.6A六軸研磨拋光機

主要用于光學玻璃、石英玻璃、晶體材料、電子之器體等脆性材料的曲面和球面、平面的研磨和拋光，以及各種高精度平面、凹凸球面模具的研磨拋光。 ? 主要技術參數(shù)： 1、加工鏡盤直徑 ≤50mm 　 2、曲率半徑 R≥5 3、水盆直徑 225mm 4、主軸轉(zhuǎn)速 150～500轉(zhuǎn)/分

2011-09-22 0

供應JP04.6A六軸研磨拋光機

主要用于光學玻璃、石英玻璃、晶體材料、電子之器體等脆性材料的曲面和球面、平面的研磨和拋光，以及各種高精度平面、凹凸球面模具的研磨拋光。 ? 主要技術參數(shù)： 1、加工鏡盤直徑 ≤50mm 　 2、曲率半徑 R≥5 3、水盆直徑 225mm 4、主軸轉(zhuǎn)速 150～500轉(zhuǎn)/分

2011-09-22 0

供應JP04.6A六軸研磨拋光機

主要用于光學玻璃、石英玻璃、晶體材料、電子之器體等脆性材料的曲面和球面、平面的研磨和拋光，以及各種高精度平面、凹凸球面模具的研磨拋光。 ? 主要技術參數(shù)： 1、加工鏡盤直徑 ≤50mm 　 2、曲率半徑 R≥5 3、水盆直徑 225mm 4、主軸轉(zhuǎn)速 150～500轉(zhuǎn)/分

2011-09-22 0

供應JP04.6A六軸研磨拋光機

主要用于光學玻璃、石英玻璃、晶體材料、電子之器體等脆性材料的曲面和球面、平面的研磨和拋光，以及各種高精度平面、凹凸球面模具的研磨拋光。 主要技術參數(shù)： 1、加工鏡盤直徑 ≤50mm 　 2、曲率半徑 R≥5 3、水盆直徑 225mm 4、主軸轉(zhuǎn)速 150～500轉(zhuǎn)/分

2011-09-22 0

供應CW062A平面準確環(huán)拋機

本機床屬高精度光學、電子、活塞環(huán)、機械另件等平面元件的研磨拋光設備。機床采用大功率蝸輪減速箱，大型精密回轉(zhuǎn)軸承, 變頻調(diào)速功能出力扭距大。 本機采用二種磨盤形式: 一種為花崗巖磨盤, 在不同環(huán)境溫度變化下變形量極小, 適用于研磨拋光。另一種為鑄鐵磨盤, 適用于粗磨、精磨。 本機采用三個加工工位, 配置三個修正環(huán)和一個修正盤, 用來修正工作臺面的平面度。另配三個工件環(huán)用來放置工件或修正磨盤時加在

2011-09-22 0

供應CW22A平面準確環(huán)拋機

本機床屬高精度光學、電子、陶瓷、硅片、機械另件等平面脆性元件的大型研磨拋光設備。 機床校正盤采用本公司專利(.5)減荷裝置。 可隨時控制校正盤與磨盤的接觸壓力, 保持磨盤面形的恃久性。在非工作狀態(tài)下可上下、左右移動, 由吊臂懸吊或離開磨盤, 另行存放。同時校正盤的兩個靠輪由一臺電機拖動, 并經(jīng)變頻調(diào)速, 使兩個靠輪轉(zhuǎn)速一致。 工件環(huán)有兩大一小共三個工位, 大工件環(huán)上有

2011-09-22 0