JP15.2A小兩軸研磨拋光機

???????(主軸、擺軸單獨分開變速)

主要用于光學玻璃、石英玻璃、晶體材料、電子之器體等脆性材料的曲面和球面、平面的研磨和拋光，以及各種高精度平面、凹凸球面模具的研磨拋光。

主要技術(shù)參數(shù)：

1、加工鏡盤直徑

≤150mm

2、曲率半徑

R≥10

3、水盆直徑

直徑300mm

4、主軸轉(zhuǎn)速

50～200轉(zhuǎn)/分

5、主軸錐度

1：8

6、擺架轉(zhuǎn)次

50～200次/分

7、擺??幅

0～120mm

8、主軸數(shù)

4軸

9、總?功?率

1.5KW

10、外形尺寸

1100×1000×1000（mm）

11、重?????量

約200kg

規(guī)格變動恕不另行通知

本公司主要經(jīng)營光學冷加工設備,平面、球面、半柱面、研磨拋光設備等。主要致力于光學冷加工、玻璃、陶瓷、硅片、機械密封件、磨具等超硬材料研磨、拋光設備的研制、開發(fā)、制造和銷售為一體的高科技型企業(yè)。本公司秉承“顧客至上，銳意進取”的經(jīng)營理念，堅持“客戶靠前”的原則為廣大客戶提供的服務。熱忱歡迎海內(nèi)外企業(yè)及志同道合的朋友前來觀光、指導、洽談，攜手合作，共同發(fā)展。

聯(lián)系人：徐倩
電話：86-510-85072226-
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地址：
網(wǎng)址：http://superxb.glass.com.cn

地區(qū)：江蘇 無錫 無錫市
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拋光機操作的關(guān)鍵是要設法得到最大的拋光速率，以便盡快除去磨光時產(chǎn)生的損傷層。同時也要使拋光損傷層不會影響最終觀察到的組織，即不會造成假組織。前者要求使用較粗的磨料，以保證有較大的拋光速率來去除磨光的損傷層，但拋光損傷層也較深；后者要求使用最細的材料，使拋光損傷層較淺，但拋光速率低。解決這個矛盾的最好的辦法就是把拋光分為兩個階段進行。粗拋目的是去除磨光損傷層，這一階段應具有最大的拋光速率，粗拋形成的表層損傷是次要的考慮，不過也應當盡可能�。黄浯问蔷珤�(或稱終拋)，其目的是去除粗拋產(chǎn)生的表層損傷，使拋光損傷減到最小。拋光機拋光時，試樣磨面與拋光盤應絕對平行并均勻地輕壓在拋光盤上，注意防止試樣飛出和因壓力太大而產(chǎn)生新磨痕。同時還應使試樣自轉(zhuǎn)并沿轉(zhuǎn)盤半徑方向來回移動，以避免拋光織物局部磨損太快在拋光過程中要不斷添加微粉懸浮液，使拋光織物保持一定濕度。濕度太大會減弱拋光的磨痕作用，使試樣中硬相呈現(xiàn)浮凸和鋼中非金屬夾雜物及鑄鐵中石墨相產(chǎn)生“曳尾”現(xiàn)象；濕度太小時，由于摩擦生熱會使試樣升溫，潤滑作用減小，磨面失去光澤，甚至出現(xiàn)黑斑，輕合金則會拋傷表面。為了達到粗拋的目的，要求轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)速較低，最好不要超過600r/min；拋光時間應當比去掉劃痕所需的時間長些，因為還要去掉變形層。粗拋后磨面光滑，但黯淡無光，在顯微鏡下觀察有均勻細致的磨痕，有待精拋消除。精拋時轉(zhuǎn)盤速度可適當提高，拋光時間以拋掉粗拋的損傷層為宜。精拋后磨面明亮如鏡，在顯微鏡明視場條件下看不到劃痕，但在相襯照明條件下則仍可見到磨痕。拋光機拋光質(zhì)量的好壞嚴重影響試樣的組織結(jié)構(gòu)，已逐步引起有關(guān)專家的重視。國內(nèi)外在拋光機的性能上作了大量的研究工作，研究出不少新機型、新一代的拋光設備，正由原來的手動操作發(fā)展成為各種各樣的半自動及全自動拋光機。下面介紹幾種常用的機械拋光機的性能和特點。拋機光專門針對鋼、鋁銅等金屬制品的表面和管類進行效果處理，幾十種原廠配件滿足不同需要，輕而易舉制造出各種精度不同的雪花紋、拉絲紋、波浪紋、啞光面、鏡面等，快速修補深度劃痕和輕微刮花，快速打磨和拋光；焊縫、水口痕、跡氧化膜、污跡和油漆等，適用於去毛刺、形成圓角，裝飾性金屬加工，在加工過程中不會形成暗影、過渡地帶和裝飾面不均勻等，是金屬制品生產(chǎn)線的重要設備。拋光機適用于以下行業(yè)：木材、家具行業(yè)如平木板、家具金屬拉手等工件砂光拉絲；五金（金屬）材料及制品鋁型材及其制品、不銹鋼制品及器皿、銅型材及制品、水暖衛(wèi)浴器材、鎖類、燈飾制品、標牌銘牌、五金工藝飾品、刀剪類、門的活葉、汽車自行車零配件、餐具類、韙扣類制品、鈕扣、皮帶扣、手機外殼、鐘表行業(yè)等工件砂光拉絲；電子零件、電子器材如電子零件、平板砂光拉絲等。