磁控濺射中試線基本參數(shù)基片較大尺寸:356mm × 406mm濺射室極限真空:排氣性能:基片加熱:較高溫度400℃,均勻性±5%以內(nèi)濺射陰極:平面陰極3條 500mm(H)×125mm(L)×9mm(T)?旋轉(zhuǎn)陰極2對 500mm(H)×133mm(ID)濺射電源:直流電源(10kW),中頻電源(10kW)磁控濺射中試線用途金屬膜代加工,工藝授權(quán)(各種顏色可調(diào)金屬/非金屬膜;衣服,燈,空調(diào)等顏色可
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