科研實驗專用氧化鎳靶材NiO磁控濺射靶材電子束鍍膜蒸發(fā)料

產(chǎn)品介紹

氧化鎳（NiO）為綠色粉末狀固體，熔點：1980±20℃，密度：6.67g/cm³，不溶于水，不溶于堿液，為堿性氧化物，溶于酸和氨水。用作搪瓷的密著劑和著色劑，陶瓷和玻璃的顏料。在磁性材料生產(chǎn)中用于生產(chǎn)鎳鋅鐵氧體等，以及用作制造鎳鹽原料、鎳催化劑并在冶金、顯像管中應用。用作電子元件材料、催化劑、搪瓷涂料和蓄電池材料。

產(chǎn)品參數(shù)

中文名 氧化亞鎳 化學式 NiO

分子量 74.71 熔點 1984℃

密度 6.67g/cm

支持靶材定制，請?zhí)峁┌胁漠a(chǎn)品的元素、比例（重量比或原子比）、規(guī)格，我們會盡快為您報價！！

服務項目：靶材成份比例、規(guī)格、純度均可按需定制�？蒲袉挝回浀礁犊睿|量保證，售后無憂！

產(chǎn)品附件：發(fā)貨時產(chǎn)品附帶裝箱單/質檢單/產(chǎn)品為真空包裝

適用儀器：多種型號磁控濺射、熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)設備

質量控制：嚴格控制生產(chǎn)工藝，采用輝光放電質譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢測手段，分析雜質元素含量保證材料的高純度與細小晶粒度；可提供質檢報告。

加工流程：熔煉→提純→鍛造→機加工→檢測→包裝出庫

陶瓷化合物靶材本身質脆且導熱性差，連續(xù)長時間濺射易發(fā)生靶裂情況，綁定背靶后，可提高化合物靶材的導熱性能，提高靶材的使用壽命。我們強烈建議您，選購陶瓷化合物靶材一定要綁定銅背靶！

我公司采用高純銦作為焊料，銦焊厚度約為0.2mm，高純無氧銅作為背靶。

注意：高純銦的熔點約為156℃，靶材工作溫度超過熔點會導致銦熔化！綁定背靶不影響靶材的正常使用！

建議：陶瓷脆性靶材、燒結靶材，高功率下濺射易碎，建議濺射功率不超過3W/cm2。

北京晶邁中科材料技術有限公司創(chuàng)建于2016年,是國內有色金屬行業(yè)綜合性研究開發(fā)公司。 現(xiàn)有員工100余人。我公司光學鍍膜材料中心以國內的技術，多年來一直有經(jīng)驗從事光學鍍膜材料及濺射靶材的研發(fā)與生產(chǎn)。靶材包括各種氧化物、硫化物、氟化物、碲化物、硒化物、硼化物、復合物、金屬及合金等，也可根據(jù)您的要求量身定做。通過嚴格控制生產(chǎn)、并持續(xù)改進、穩(wěn)步發(fā)展，致力為客戶提供的產(chǎn)品。 公司現(xiàn)有靶材熱壓爐；真空蒸餾裝置，電解槽，單晶爐，區(qū)熔裝置，CVD（化學氣象沉積）裝置，PVD（物理氣象沉積）裝置，移動式加熱裝置等多種高純金屬和化合物生產(chǎn)研發(fā)設備；提純工藝包括：真空蒸餾；精餾；區(qū)域熔煉；電解；化學氣象沉積；物理氣象沉積；熱擴散；單晶提拉法等。純度從99.9%-99.99999%,公司先后研發(fā)的蒸發(fā)材料、濺射靶材系列產(chǎn)品，產(chǎn)品涉及工具/裝飾鍍膜、玻璃鍍膜、光學鍍膜、平面顯示/觸摸屏鍍膜、薄膜太陽能鍍膜等多個領域廣泛應用到國內外眾多知名太陽能、航空航天、生物健康、軍工微電子、信息儲存、汽車、船舶、裝飾、工業(yè)鍍膜、新能源企業(yè)當中。 自有設備：真空熱壓爐，真空中頻感應熔煉爐，冷坩堝懸浮熔煉爐，非自耗真空電弧爐，真空高溫加熱爐，真空燒結爐，真空蒸餾爐，定向凝固，區(qū)域熔煉爐，多溫區(qū)加熱爐，單晶爐，高溫燒結爐，單溫區(qū)，雙溫區(qū)、多溫區(qū)液相、氣相合成爐、氧化爐、加工設備。 北京晶邁中科材料技術有限公司幾年來已先后與國內幾十家知名高校、中科院等研究院所建立了長期友好的合作關系，并與這些科研單位有密切的學術交流和技術合作項目，并遠銷歐洲、美國、日本、韓國等，在鍍膜行業(yè)擁有良好的聲譽。

氧化鎳靶材NiO磁控濺射靶材

產(chǎn)品屬性：
計量單位：個 供貨總量：10 最小起訂量：1 產(chǎn)品單價：1000.00 品牌： 規(guī)格型號： 包裝說明：