磁控/蒸發(fā)兩用鍍膜設(shè)備：

此設(shè)備利用磁控濺射陰極輝光放電將原子（靶材）離化沉積在基材上（物理氣相沉積PVD）和真空中利用電阻加熱法將金屬絲熔融或金屬分子汽化，對(duì)基材、手機(jī)殼等塑料表面進(jìn)行金屬化、利用特定薄膜涂層實(shí)現(xiàn)產(chǎn)品不導(dǎo)電和電磁屏蔽的作用，以滿(mǎn)足現(xiàn)行手機(jī)的高端電子產(chǎn)品制造行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)；

設(shè)備集中了等離子體處理，高端陰極磁控濺射，、電阻蒸發(fā)鍍膜裝置，大裝載量轉(zhuǎn)架和自動(dòng)化控制技術(shù)，工作可靠、重復(fù)性一致性良好、沉積速率高快，附著力好，膜層品質(zhì)細(xì)膩等，鍍制的薄膜致密硬度高，磨擦系數(shù)低，可保持原有工件表面光潔，具有韌性好，不易破裂脫落。設(shè)備實(shí)現(xiàn)鍍膜工藝全自動(dòng)化控制。在基材表面利用真空鍍膜方法進(jìn)行涂層，具有生產(chǎn)成本低、產(chǎn)品合格率高、綠色環(huán)保等特點(diǎn)，主要適用于電腦、手機(jī)、高端工業(yè)（家用）電子電器、航空等領(lǐng)域，，可鍍制復(fù)合金屬膜、合金膜、透明（半透明）膜、不導(dǎo)電膜、電磁屏蔽膜及特殊膜層等。

型號(hào)JTZ-1000 JTZ-1200 JTZ-1300 JTZ1400

真空室尺寸￠1400×1400MM ￠1200×1500MM ￠1300×1800MM ￠1400×1800MM

制膜種類(lèi) 金屬膜、半透明膜、不導(dǎo)電膜、電磁屏蔽膜、介質(zhì)膜等

電源類(lèi)型 電阻蒸發(fā)電源、直流磁控電源、射頻電源

濺射及電極結(jié)構(gòu) 圓柱磁控靶、平面矩形靶、孿生靶、蒸發(fā)電極

真空室結(jié)構(gòu) 立式雙開(kāi)門(mén)、立式單開(kāi)門(mén)、后置抽氣系統(tǒng)/臥式單開(kāi)門(mén)、側(cè)置抽氣系統(tǒng)

極限真空 4.0×10-4PA

真空系統(tǒng)組成 擴(kuò)散泵+羅茨泵+機(jī)械泵+維持泵

抽氣時(shí)間 從大氣抽至8.5×10-3PA，小于或等于15分鐘

工件運(yùn)動(dòng)方式 公自轉(zhuǎn)/變頻調(diào)速

控制方式 手動(dòng)/自動(dòng)一體化式，觸摸屏+PLC

備注 以上設(shè)備可按客戶(hù)實(shí)際及特殊工藝要求設(shè)計(jì)訂做

東莞市莞真真空設(shè)備有限公司服務(wù)于中國(guó)真空制造業(yè)各領(lǐng)域,我公司是一家有經(jīng)驗(yàn)真空應(yīng)用及設(shè)備開(kāi)發(fā)制造的高科技企業(yè)。 本公司擁有一批真空行業(yè)資歷豐富相關(guān)人士、工程師及售后服務(wù)者。致力于真空設(shè)備的研發(fā)設(shè)計(jì)和提供完善的真空設(shè)備解決方案及售后服務(wù)。嚴(yán)格要求生產(chǎn)及管理，確保研發(fā)制造的產(chǎn)品安全、質(zhì)優(yōu)、可靠！務(wù)求先進(jìn)的技術(shù)、的品質(zhì)、有經(jīng)驗(yàn)周到的服務(wù)。 本公司所制造的真空設(shè)備已成功廣泛應(yīng)用到塑膠、工藝禮品、電子、玩具、鞋材、五金、陶瓷、飾品、汽車(chē)等行業(yè)。 以人為本！誠(chéng)實(shí)守信！開(kāi)拓創(chuàng)新！用戶(hù)至上是莞真真空設(shè)備的發(fā)展精力，歡迎各界朋友選擇莞真，選擇莞真你我共贏，共同創(chuàng)造美好未來(lái)！

供應(yīng)汽車(chē)燈具鍍膜機(jī)