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東莞市莞真真空設備有限公司

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主營:真空鍍膜設備,蒸發(fā)磁控濺射鍍膜設備,多弧離子鍍膜設備,環(huán)保電鍍設備,真空表面處理設備,PVD離子鍍膜設備,中頻磁控多功能真空鍍膜設備,金屬專項使用電鍍設備,蒸發(fā)鍍膜設備,塑料專項使用電鍍設備,手機外殼按鍵鍍膜設備,衛(wèi)浴潔具鍍膜設備

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供應衛(wèi)浴潔具電鍍設備

  • 供應衛(wèi)浴潔具電鍍設備
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    價格(不含稅)

  • 面議

  • 供應標題:供應衛(wèi)浴潔具電鍍設備

    價格:電儀

    發(fā)布公司:東莞市莞真真空設備有限公司

    供貨總量:1000

    聯(lián)系人:肖梯文

    發(fā)貨地點:廣東 東莞 東莞市

    發(fā)布時間:2011年12月21日

    有效期至:2012年01月21日

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    在線詢盤:在線詢盤

    產(chǎn)品綜合信息質(zhì)量:

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基本信息

多功能離子鍍膜設備:

該系列設備主要是(集)直流磁控濺射,中頻濺射和電弧電子蒸發(fā)三種技術融合一體,結(jié)合線性離化脈沖偏壓可使沉積顆料細化,膜層各項性能提高,能在金屬制品及非金屬表面鍍制合金膜、化合物膜、多層復合膜等。經(jīng)公司技術人員多年專注研發(fā),通過特有的陰極電弧離子和非平衡磁控系統(tǒng),并開發(fā)出整套PROPOWER系列計算機自動控制系統(tǒng),使鍍膜膜層附著力致密度、從復度一致性好等特點,解決了人工手動操作復雜性、膜層顏色不一致等問題。廣泛適用于手表、手機殼、五金、潔具、餐具及要求耐磨起硬的刀具、模具等。鍍制Tin、TiCN、CrN、TiALN、TiCrN、ZrN、TiNC及各類金屬石膜(DLC)。

1、磁控濺射的原理是基于陰極輝光放電理論,把陰極表面磁場擴展到接近工件表面,提高了濺射原子離化率。既保留磁控濺射的細膩又增強了表面光澤度。

2、電弧等離子體蒸發(fā)源性能可靠,在優(yōu)化陰極及磁場結(jié)構(gòu)鍍膜時可在30A電流下工作,鍍膜膜層和基底界面產(chǎn)生原子擴散,又具有離子束輔助沉積的特點。

型號JTZ-800 JTL-1000 JTL-1250

真空室尺寸¢800×1000MM ¢1000×1000MM ¢1250×1100MM

鍍膜方式及主要配置

六個多弧源+一套圓柱靶+一套平面矩形磁控濺射靶

八個多弧源+一對孿生(中頻)磁控濺射靶+一套平面矩形磁控濺射靶

十二個多弧源+一對孿生(中頻)磁控濺射靶+兩套平面矩形磁控濺射靶

鍍膜方式及主要配置

電弧電源、直流磁控電源、中頻磁控電源、燈絲電源、脈沖電源、線性離化源

工藝氣體控制 質(zhì)量流量計+電磁陶瓷閥

真空室結(jié)構(gòu) 立式側(cè)(單)開門結(jié)構(gòu),后置抽氣系統(tǒng),雙層水冷

真空系統(tǒng)組成 分子泵+羅茨泵+機械泵(5.0×10-4PA)

工件烘烤溫度 常溫到500度可調(diào)可控(PID控溫),輻射加熱

工件運動方式 公自轉(zhuǎn)變頻調(diào)速,0~20轉(zhuǎn)/分

測量方式 數(shù)顯復合真空計:測量范圍從大氣至1.0×10-5PA

控制方式 手動/自動/PC/PLC+HMI/PC四種方式可選

備注 以上設備可按客戶實際及特殊工藝要求設計訂做

東莞市莞真真空設備有限公司基本信息

主營行業(yè): 公司注冊地址: 法人代表:肖梯文
員工人數(shù): 廠房面積: 年營業(yè)額:
年進口額: 年出口額: 主要市場:,,
客戶群:
公司名稱:東莞市莞真真空設備有限公司
注冊資本: 公司網(wǎng)址:http://guanzhenzhenkong.glass.com.cn

主營產(chǎn)品:真空鍍膜設備+蒸發(fā)磁控濺射鍍膜設備+多弧離子鍍膜設備+環(huán)保電鍍設備+真空表面處理設備+PVD離子鍍膜設備+中頻磁控多功能真空鍍膜設備+金屬專項使用電鍍設備+蒸發(fā)鍍膜設備+塑料專項使用電鍍設備+手機外殼按鍵鍍膜設備+衛(wèi)浴潔具鍍膜設備 公司成立年份:
公司網(wǎng)址:http://guanzhenzhenkong.glass.com.cn

地區(qū):廣東 東莞 東莞市
網(wǎng)址: http://guanzhenzhenkong.glass.com.cn

供應衛(wèi)浴潔具電鍍設備產(chǎn)品概況

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