GP55-2S型兩軸研磨拋光機主要用于光學(xué)大平面鏡、棱鏡、透鏡、晶體、凹凸球面、金屬模具的研磨拋光。本設(shè)備特點：運轉(zhuǎn)速度低，扭矩大，運行平穩(wěn)，主軸、擺軸各自獨立運動，避免同轉(zhuǎn)速調(diào)速困難的弊病，是光學(xué)加工的理想設(shè)備。 主要技術(shù)參數(shù)：

1.

主軸數(shù)

2

2.

加工范圍

400 mm

3.

偏心輪直徑

260 mm

4.

主軸轉(zhuǎn)速

0—80 r/min

5.

偏心盤轉(zhuǎn)速

0—60 r/min

6.

主軸跳動

≤0.01 mm

7.

機床功率

1.6 KW

8.

機床重量

800 KG

9.

外形尺寸

2000mm×1100mm×1150mm

本公司提供兩軸透鏡磨拋機、下調(diào)斜軸機、高拋機、柱面機、單面加壓拋光機、四軸透鏡拋光機、壓桿機等各種光學(xué)冷加工設(shè)備，也可根據(jù)客戶需求定制。

主營產(chǎn)品：拋光機+研磨機+高拋機+環(huán)拋機+單軸機+磨拋機+單面拋++++++ 公司成立年份：
公司網(wǎng)址：http://xlmoe.glass.com.cn

地區(qū)：江蘇 無錫 無錫市
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產(chǎn)品屬性：
計量單位： 供貨總量： 最小起訂量：0 產(chǎn)品單價： 品牌： 規(guī)格型號：GP55-2S 包裝說明：

拋光機操作的關(guān)鍵是要設(shè)法得到最大的拋光速率，以便盡快除去磨光時產(chǎn)生的損傷層。同時也要使拋光損傷層不會影響最終觀察到的組織，即不會造成假組織。前者要求使用較粗的磨料，以保證有較大的拋光速率來去除磨光的損傷層，但拋光損傷層也較深；后者要求使用最細(xì)的材料，使拋光損傷層較淺，但拋光速率低。解決這個矛盾的最好的辦法就是把拋光分為兩個階段進(jìn)行。粗拋目的是去除磨光損傷層，這一階段應(yīng)具有最大的拋光速率，粗拋形成的表層損傷是次要的考慮，不過也應(yīng)當(dāng)盡可能�。黄浯问蔷珤�(或稱終拋)，其目的是去除粗拋產(chǎn)生的表層損傷，使拋光損傷減到最小。拋光機拋光時，試樣磨面與拋光盤應(yīng)絕對平行并均勻地輕壓在拋光盤上，注意防止試樣飛出和因壓力太大而產(chǎn)生新磨痕。同時還應(yīng)使試樣自轉(zhuǎn)并沿轉(zhuǎn)盤半徑方向來回移動，以避免拋光織物局部磨損太快在拋光過程中要不斷添加微粉懸浮液，使拋光織物保持一定濕度。濕度太大會減弱拋光的磨痕作用，使試樣中硬相呈現(xiàn)浮凸和鋼中非金屬夾雜物及鑄鐵中石墨相產(chǎn)生“曳尾”現(xiàn)象；濕度太小時，由于摩擦生熱會使試樣升溫，潤滑作用減小，磨面失去光澤，甚至出現(xiàn)黑斑，輕合金則會拋傷表面。為了達(dá)到粗拋的目的，要求轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)速較低，最好不要超過600r/min；拋光時間應(yīng)當(dāng)比去掉劃痕所需的時間長些，因為還要去掉變形層。粗拋后磨面光滑，但黯淡無光，在顯微鏡下觀察有均勻細(xì)致的磨痕，有待精拋消除。精拋時轉(zhuǎn)盤速度可適當(dāng)提高，拋光時間以拋掉粗拋的損傷層為宜。精拋后磨面明亮如鏡，在顯微鏡明視場條件下看不到劃痕，但在相襯照明條件下則仍可見到磨痕。拋光機拋光質(zhì)量的好壞嚴(yán)重影響試樣的組織結(jié)構(gòu)，已逐步引起有關(guān)專家的重視。國內(nèi)外在拋光機的性能上作了大量的研究工作，研究出不少新機型、新一代的拋光設(shè)備，正由原來的手動操作發(fā)展成為各種各樣的半自動及全自動拋光機。下面介紹幾種常用的機械拋光機的性能和特點。拋機光專門針對鋼、鋁銅等金屬制品的表面和管類進(jìn)行效果處理，幾十種原廠配件滿足不同需要，輕而易舉制造出各種精度不同的雪花紋、拉絲紋、波浪紋、啞光面、鏡面等，快速修補深度劃痕和輕微刮花，快速打磨和拋光；焊縫、水口痕、跡氧化膜、污跡和油漆等，適用於去毛刺、形成圓角，裝飾性金屬加工，在加工過程中不會形成暗影、過渡地帶和裝飾面不均勻等，是金屬制品生產(chǎn)線的重要設(shè)備。拋光機適用于以下行業(yè)：木材、家具行業(yè)如平木板、家具金屬拉手等工件砂光拉絲；五金（金屬）材料及制品鋁型材及其制品、不銹鋼制品及器皿、銅型材及制品、水暖衛(wèi)浴器材、鎖類、燈飾制品、標(biāo)牌銘牌、五金工藝飾品、刀剪類、門的活葉、汽車自行車零配件、餐具類、韙扣類制品、鈕扣、皮帶扣、手機外殼、鐘表行業(yè)等工件砂光拉絲；電子零件、電子器材如電子零件、平板砂光拉絲等。