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??????適合范圍:該系列產(chǎn)品配套于研磨機(jī)、拋光機(jī)用盤。合成樹脂銅盤適用于光學(xué)玻璃、陶瓷、藍(lán)寶石、水晶、單晶硅片、石英芯片、陶瓷片、砷化鎵等薄脆金屬或非金屬材料的研磨。?????? 適用設(shè)備:本產(chǎn)品為海德研磨設(shè)備配套生產(chǎn),也廣泛適用于進(jìn)口研磨設(shè)備和同行研磨設(shè)備。 直徑:380mm——610mm——810mm——910mm——1500mm 孔徑:200mm——500mm 基體厚度:45mm—
2015-08-11 面議/個適用范圍: 該系列產(chǎn)品配套于研磨機(jī)、拋光機(jī)用盤,主要適用于玻璃、單晶硅片、石英芯片、陶瓷片、砷化鎵等薄脆金屬或非金屬材料的研磨。?????? 適用設(shè)備:適用于進(jìn)口研磨設(shè)備和同行研磨設(shè)備,詳情請咨詢海德客服人員。 直徑:380mm——610mm——810mm——910mm——1500mm 孔徑:200mm——500mm 基體厚度:45mm——100mm 粒度:30目——6000目
2015-08-11 面議/個玻璃減薄機(jī)主要用途: 非常適合于工件硬度比較高,厚度超薄,且加工精度要求高的產(chǎn)品。如:LED藍(lán)寶石襯底、光學(xué)玻璃晶片、石英晶片、硅片、諸片、陶瓷片、鎢鋼片等各種材料的快速減薄。 工作原理: 1.本系列橫向研磨機(jī)為精密磨削設(shè)備,由真空主軸吸附工件與金剛石磨輪作相反方向高速磨削,金剛石磨輪前后擺動。該方法磨削阻力小、工件不會破損,而且磨削均勻生產(chǎn)效率高。 特 點(diǎn): 1.可使工件加工厚度減薄到0.02m
2015-08-11 面議/臺研磨機(jī)適用范圍 觸屏玻璃、蓋板玻璃、硅片、陶瓷片等非金屬的雙面研磨拋光 .不銹鋼.鋁合金,鉬片等金屬材質(zhì)雙面研磨拋光。 研磨機(jī)性能特點(diǎn) 1、本機(jī)主體采用一次成型工藝,合理的結(jié)構(gòu)大大提升整機(jī)剛性度 2、上盤系統(tǒng)設(shè)計(jì)了三點(diǎn)平衡系統(tǒng),保證了上盤落下時與下盤的平行度 3、齒圈,太陽輪、液盆同步齒輪抬升,任意位置自鎖可停 4、拋光機(jī)供液系統(tǒng)采用雙通道冷卻,有效降低拋光過程中盤面的溫度 5、工作
2015-08-10 面議/臺光學(xué)玻璃拋光皮優(yōu)選深圳海德研磨,海德研磨自主研發(fā),工藝領(lǐng)先全世界。 產(chǎn)品用途:用于對玻璃,藍(lán)寶石,石英,金屬材料等的精磨和精拋。 產(chǎn)品規(guī)格:可根據(jù)規(guī)格定做任意規(guī)格,可按照要求貼背膠或者不貼背膠。 此種拋光布拋光效果好,可適應(yīng)各種材質(zhì)的研磨和拋光,拋光后精度可達(dá)0.0002,可至完美的鏡面效果。各種拋光布,拋光墊,拋光皮的制作,經(jīng)驗(yàn)豐富,質(zhì)美價廉! 產(chǎn)品規(guī)格有:230*230(mm)、3
2015-08-05 面議/張二氧化硅拋光液: 我公司以自主研發(fā)生產(chǎn)的高純二氧化硅磨料為基礎(chǔ)開發(fā)出硅片粗拋光用拋光液,此款拋光液稀釋比高、拋光后表面易清洗。產(chǎn)品被廣泛應(yīng)用于各種行業(yè)中。 檢測項(xiàng)目 檢測方法 指標(biāo)值 外觀 目測 乳白色液體 固含量(%) 重量法 40±2 pH值(20℃)
2015-08-05 面議/公斤關(guān)于本網(wǎng)| 大事記|玻璃展會|熱點(diǎn)搜索|玻璃人才|玻璃名錄|站點(diǎn)地圖|活動推廣|隱私聲明|版權(quán)聲明|玻璃供應(yīng)|聯(lián)系我們|English
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