Low-E玻璃又稱低輻射鍍膜玻璃,是在玻璃表面鍍上以銀為基礎的若干層金屬或其化合物薄膜,這些膜層具有對可見光高透過及對中遠紅外線高反射的特性,具有良好的節(jié)能效果和光學性能。真空磁控濺射法(PVD)也稱離線法,可以實現(xiàn)復雜膜系Low-E玻璃的大規(guī)模量產(chǎn),成為近年來Low-E玻璃的主流生產(chǎn)工藝。
相比傳統(tǒng)的熱反射鍍膜玻璃,Low-E玻璃的鍍膜層數(shù)多也更薄,特別是近年來雙銀/三銀Low-E玻璃的推廣,有的產(chǎn)品需要沉積多達20多層不同材料的薄膜,這就對每層薄膜的質量和均勻性提出了非?量痰囊蟆H绻荒芎芎玫目刂茊螌颖∧さ馁|量和均勻性,這么多層薄膜累加后的顏色、透光率等光學不均勻性就會非常明顯。因此對現(xiàn)有的PVD鍍膜工藝來說,提高鍍膜的質量和均勻性是一個非常關鍵的課題。
1工藝氣體布氣均勻性
作為膜層均勻性控制的主要手段之一,工藝氣體布氣均勻性非常重要。我們采用如下二種方法確保工藝氣體沿玻璃板寬方向分布的均勻性:
1)布氣管路分為主管和輔管,主管由3個質量流量計分別控制Ar、O2、N2氣的供氣量,輔管根據(jù)陰較寬度分為3~7段,每段由一個質量流量計單獨控制工藝氣體流量