鋁粒，鋁靶，高純鋁，高純鋁錠化學(xué)符號：Al外 觀：銀白色原 子 量：26.98154蒸發(fā)溫度：1220℃密 度：2.7g/cm3熔 點(diǎn)：660℃沸 點(diǎn)：2467℃汽化溫度：1082℃電 阻 率/μΩ•cm:2.66電阻溫度系數(shù)/℃-1:4.20×10-3溶 解 于：氫氧化鈉，堿類，稀硝酸蒸發(fā)方式：鎢絲或鉬舟蒸發(fā)源材料（絲、片）:W坩 堝:BN、TiC/C、TiB2-BN性 能：鋁膜從紫外區(qū)到紅外區(qū)具有平坦而且很高的反射率，鋁膜對基地的附著力比較強(qiáng)，由于鋁膜表面總是存在著一層透明的Al2O3薄膜的保護(hù)，所以鋁膜的機(jī)械強(qiáng)度和化學(xué)穩(wěn)定性都比較好。通常真 空蒸發(fā)制備的鋁膜呈銀灰色，但有時(shí)也呈黑色。蒸發(fā)源為電子槍，基地為氧化硅薄膜（100nm厚），蒸鍍鋁料的純度為99.999%。合金及相濕、鎢多股絞合較好；加工性能好，可加工成任意形狀；應(yīng) 用：保護(hù)膜，反射膜，增透膜用 途：超純鋁用于制造光電子存儲媒體；作為集成電路的配線；

北京石久高研金屬材料有限公司（簡稱石久高研）公司成立于2005年，是經(jīng)北京市科學(xué)技術(shù)委員會確認(rèn)的高新技術(shù)企業(yè)。地理位置優(yōu)越，交通便利。自公司成立以來受到有色金屬研究總院、中國科學(xué)院、清華大學(xué)等科研院校的大力支持，并保持著長期穩(wěn)定的合作關(guān)系。石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發(fā)料的研發(fā)和生產(chǎn)工作，為電子行業(yè)、玻璃工業(yè)、數(shù)據(jù)存儲、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業(yè)的鍍膜企業(yè)提供高品質(zhì)的靶材和蒸發(fā)料。公司擁有一流的鍍膜材料領(lǐng)域的專業(yè)人才，具有雄厚的研發(fā)、生產(chǎn)實(shí)力。隨著近年來高科技領(lǐng)域內(nèi)薄膜的興起和蓬勃發(fā)展，特別是微電子與光電子產(chǎn)業(yè)迅速發(fā)展，對鍍膜材料的要求也達(dá)到了一個(gè)新的高度，公司密切關(guān)注國內(nèi)外鍍膜及鍍膜材料的發(fā)展方向，為相關(guān)行業(yè)提供先進(jìn)、優(yōu)質(zhì)的鍍膜材料。公司是靶材、合金靶材、金屬靶材、陶瓷靶材、氧化物鍍膜材料、低溫超導(dǎo)陶瓷等產(chǎn)品專業(yè)生產(chǎn)加工的公司，擁有完整、科學(xué)的質(zhì)量管理體系。展望未來，與時(shí)俱進(jìn)。我們將始終堅(jiān)持“品質(zhì)就是生命，信譽(yù)就是效益”的經(jīng)營理念，憑借強(qiáng)大的科研實(shí)力和精良的制造設(shè)備，以及對客戶高度的責(zé)任心，相信明辰必將成為行業(yè)的領(lǐng)跑者，與廣大客戶攜手共進(jìn)，合作雙贏，一起迎接明天的輝煌。公司供應(yīng)真空濺射靶材：金屬靶材：鈦靶Ti、鋁靶Al、錫靶Sn、鉿靶Hf、鉛靶Pb、鎳靶Ni、銀靶Ag、碳靶C、釩靶V、銦靶In、鎢靶W、銅靶Cu、硅靶Si、鉭靶Ta、鋅靶Zn、鎂靶Mg、鋯靶Zr、鉻靶Cr、不銹鋼靶材S-S、鈮靶Nb、鉬靶Mo、鈷靶Co、鐵靶Fe、鍺靶Ge等……合金靶材：鐵鈷靶FeCo、鈦鎳靶TiNi、鎳鉻靶NiCr、鎳釩靶NiV、鎳鐵靶NiFe等……陶瓷靶材：一氧化硅靶SiO、二氧化硅靶SiO2、二氧化鈦靶TiO2，五氧化二鉭靶Ta2O5，五氧化二鈮靶Nb2O5，氧化鋅靶ZnO、氧化鎂靶MgO，ITO靶，硅靶Si、氟化鎂靶MgF2、氟化鈣靶CaF2純度：《99.9%—99.999%》根據(jù)客戶要求加工成各種規(guī)格尺寸的靶材。光學(xué)鍍膜材料氧化物：一氧化硅SiO、二氧化硅SiO2、一氧化鈦TiO、二氧化鈦TiO2、三氧化二鈦Ti2O3、五氧化三鈦Ti3O5、二氧化鋯ZrO2、二氧化鉿Hf02、三氧化鎢WO3、五氧化二鉭Ta2O5、五氧化二鈮Nb2O5、三氧化二鋁Al2O2、氧化鋅ZnO、氧化鎂MgO、氧化釓Gd2O2、氧化釤Sm2O3、氧化釹Nd2O3、氧化鐠Pr6O11、氧化鉍Bi2O3、氧化鉻Cr2O3、氧化鎳NiO、氧化鐵Fe2O3等…氟化物：氟化鎂MgF2、氟化鈣CaF2等…真空鍍膜材料（鍍制：復(fù)合膜，彩色膜,增透膜，透紫外膜，氣敏傳感器膜，高溫介質(zhì)膜，光學(xué)膜，激光裝置濾光片，保護(hù)膜，透明導(dǎo)電膜，變色膜，優(yōu)良的寬帶增透膜，磁性薄膜，可見光區(qū)增透膜，紅外增透膜，分光膜，多層膜，高反射膜，電阻膜，熱反射膜，冷光膜膜）高品質(zhì)真空鍍膜材料（4N-5N）：1.氧化物:一氧化硅靶材，SiO靶材,二氧化硅靶材，SiO2靶材,二氧化鈦靶材，TiO2靶材,二氧化鋯靶材，ZrO2靶材,二氧化鉿靶材，HfO2靶材,一氧化鈦靶材，TiO靶材,五氧化三鈦靶材，Ti3O5靶材，五氧化二鈮靶材，Nb2O5靶材，五氧化二鉭，Ta2O5靶材,等高純氧化物鍍膜材料。2.氟化物：氟化鎂靶材，MgF2顆粒，氟化鈣顆粒等高純氟化物。3.金屬鍍膜材料：高純鋁靶材，Al靶材，高純銅靶材，Cu靶材，高純鈦靶材，Ti靶材，高純硅靶材，Si靶材，高純銀靶材，Ag靶材，高純銦靶材，In靶材，高純鎂靶材，Mg靶材，高純鋅靶材，Zn靶材，高純鍺靶材，Ge靶材，高純鎳靶材，Ni靶材,鎳鉻合金靶材，NiCr靶材，鋅鋁合金靶材等鍍膜材料。