高純銅粒，銅靶

化學符號：Cu原 子 量：63.546外觀純銅：紫紅色金屬熔 點：1083.4℃沸 點：2567℃密 度：8.92g/cm3蒸 發(fā) 源（絲、片）：鎢、鉭、鉬、鈮坩 堝：Mo、C、Al2O3在10-4Torr蒸發(fā)溫度：1017℃ 薄膜的機械和化學性質(zhì)：膜層附著不好，利用中間層Cr可增加附著力；性 能：質(zhì)地堅韌、有延展并有順磁性,高純銅具有良好的導電性、延展性、抗腐蝕能力和表面性能；6N銅在近350K時軟化而4N銅在440K時軟化；銅在干燥的空氣中不易被氧化，但銅子含有CO2的潮濕 空氣中，表面與空氣中CO2生成一層有毒的堿式碳酸銅（銅綠）這層膜保護銅不在被CO2腐蝕；在空氣中加熱時表面會與O2形成黑色氧化銅；在鹽酸和稀硫酸中不易被溶解，但是銅能溶于具有氧化作用的硝酸或含有氧化劑的鹽酸中；還溶于氨水。高純銅在極低的溫度下具有高的導熱性，在8K時6N銅的熱導率為3.0×104W/（m•K）,而4N銅在18K時的熱導率為3.1×103W/（m•K）。高純銅具有優(yōu)良的加工性能，可以被拉成很細的銅絲，也可以被壓制成很薄的銅箔。如果高純銅中硫含量極低，則在600-700K時銅的脆性將消失，而這時普通的銅的脆性還存在。而如雜質(zhì)氧含量很低時，高純銅的氫脆現(xiàn)象也消失。應(yīng) 用：保護膜，反射膜，增透膜

北京石久高研金屬材料有限公司（簡稱石久高研）公司成立于2005年，是經(jīng)北京市科學技術(shù)委員會確認的高新技術(shù)企業(yè)。地理位置優(yōu)越，交通便利。自公司成立以來受到有色金屬研究總院、中國科學院、清華大學等科研院校的大力支持，并保持著長期穩(wěn)定的合作關(guān)系。石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發(fā)料的研發(fā)和生產(chǎn)工作，為電子行業(yè)、玻璃工業(yè)、數(shù)據(jù)存儲、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業(yè)的鍍膜企業(yè)提供高品質(zhì)的靶材和蒸發(fā)料。公司擁有一流的鍍膜材料領(lǐng)域的專業(yè)人才，具有雄厚的研發(fā)、生產(chǎn)實力。隨著近年來高科技領(lǐng)域內(nèi)薄膜的興起和蓬勃發(fā)展，特別是微電子與光電子產(chǎn)業(yè)迅速發(fā)展，對鍍膜材料的要求也達到了一個新的高度，公司密切關(guān)注國內(nèi)外鍍膜及鍍膜材料的發(fā)展方向，為相關(guān)行業(yè)提供先進、優(yōu)質(zhì)的鍍膜材料。公司是靶材、合金靶材、金屬靶材、陶瓷靶材、氧化物鍍膜材料、低溫超導陶瓷等產(chǎn)品專業(yè)生產(chǎn)加工的公司，擁有完整、科學的質(zhì)量管理體系。展望未來，與時俱進。我們將始終堅持“品質(zhì)就是生命，信譽就是效益”的經(jīng)營理念，憑借強大的科研實力和精良的制造設(shè)備，以及對客戶高度的責任心，相信明辰必將成為行業(yè)的領(lǐng)跑者，與廣大客戶攜手共進，合作雙贏，一起迎接明天的輝煌。公司供應(yīng)真空濺射靶材：金屬靶材：鈦靶Ti、鋁靶Al、錫靶Sn、鉿靶Hf、鉛靶Pb、鎳靶Ni、銀靶Ag、碳靶C、釩靶V、銦靶In、鎢靶W、銅靶Cu、硅靶Si、鉭靶Ta、鋅靶Zn、鎂靶Mg、鋯靶Zr、鉻靶Cr、不銹鋼靶材S-S、鈮靶Nb、鉬靶Mo、鈷靶Co、鐵靶Fe、鍺靶Ge等……合金靶材：鐵鈷靶FeCo、鈦鎳靶TiNi、鎳鉻靶NiCr、鎳釩靶NiV、鎳鐵靶NiFe等……陶瓷靶材：一氧化硅靶SiO、二氧化硅靶SiO2、二氧化鈦靶TiO2，五氧化二鉭靶Ta2O5，五氧化二鈮靶Nb2O5，氧化鋅靶ZnO、氧化鎂靶MgO，ITO靶，硅靶Si、氟化鎂靶MgF2、氟化鈣靶CaF2純度：《99.9%—99.999%》根據(jù)客戶要求加工成各種規(guī)格尺寸的靶材。光學鍍膜材料氧化物：一氧化硅SiO、二氧化硅SiO2、一氧化鈦TiO、二氧化鈦TiO2、三氧化二鈦Ti2O3、五氧化三鈦Ti3O5、二氧化鋯ZrO2、二氧化鉿Hf02、三氧化鎢WO3、五氧化二鉭Ta2O5、五氧化二鈮Nb2O5、三氧化二鋁Al2O2、氧化鋅ZnO、氧化鎂MgO、氧化釓Gd2O2、氧化釤Sm2O3、氧化釹Nd2O3、氧化鐠Pr6O11、氧化鉍Bi2O3、氧化鉻Cr2O3、氧化鎳NiO、氧化鐵Fe2O3等…氟化物：氟化鎂MgF2、氟化鈣CaF2等…真空鍍膜材料（鍍制：復(fù)合膜，彩色膜,增透膜，透紫外膜，氣敏傳感器膜，高溫介質(zhì)膜，光學膜，激光裝置濾光片，保護膜，透明導電膜，變色膜，優(yōu)良的寬帶增透膜，磁性薄膜，可見光區(qū)增透膜，紅外增透膜，分光膜，多層膜，高反射膜，電阻膜，熱反射膜，冷光膜膜）高品質(zhì)真空鍍膜材料（4N-5N）：1.氧化物:一氧化硅靶材，SiO靶材,二氧化硅靶材，SiO2靶材,二氧化鈦靶材，TiO2靶材,二氧化鋯靶材，ZrO2靶材,二氧化鉿靶材，HfO2靶材,一氧化鈦靶材，TiO靶材,五氧化三鈦靶材，Ti3O5靶材，五氧化二鈮靶材，Nb2O5靶材，五氧化二鉭，Ta2O5靶材,等高純氧化物鍍膜材料。2.氟化物：氟化鎂靶材，MgF2顆粒，氟化鈣顆粒等高純氟化物。3.金屬鍍膜材料：高純鋁靶材，Al靶材，高純銅靶材，Cu靶材，高純鈦靶材，Ti靶材，高純硅靶材，Si靶材，高純銀靶材，Ag靶材，高純銦靶材，In靶材，高純鎂靶材，Mg靶材，高純鋅靶材，Zn靶材，高純鍺靶材，Ge靶材，高純鎳靶材，Ni靶材,鎳鉻合金靶材，NiCr靶材，鋅鋁合金靶材等鍍膜材料。

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