ATON 磁控鍍膜線

? 1、設(shè)備名稱：ATON 1600 真空磁控濺射鍍膜線 2、產(chǎn)地：美國應(yīng)用材料公司 3、功能：該系統(tǒng)專門針對光伏太陽能所需要的SIN層鍍膜設(shè)計，分為7個真空室：進料室、緩沖室、傳輸過渡室、濺射室1+濺射室2、傳輸過渡室、緩沖室、出料室。系統(tǒng)整體設(shè)計嚴(yán)格，采用分子泵高真空機組，配備高濺射效率的平面靶或旋轉(zhuǎn)靶，采用直流濺射。 設(shè)備也可以應(yīng)用在ITO膜、SIO2膜、金屬膜，應(yīng)用于如太陽能、LO

2015-10-12 面議/臺

旋轉(zhuǎn)陰較靶

旋轉(zhuǎn)陰極 特點： 1、采用獨特的磁路設(shè)計，突破傳統(tǒng)模式，更符合磁控濺射的理念。 2、采用獨特的結(jié)構(gòu)設(shè)計，冷卻充分，可滿足大功率、大電流使用要求。 3、更高的濺射率，離子密度更強。 4、更高的利用率，高達70以上。 5、尺寸范圍：靶材外尺寸70、100、150、250，保持一致的均勻性 6、使用范圍：如TI、AL、NI、CR、AZO、ITO等。 ? 使用領(lǐng)域：裝飾鍍、工具鍍、ITO

2015-10-12 0

大平面陰較濺射靶

大平面濺射陰極 特點： 1、?采用獨特的磁路設(shè)計，突破傳統(tǒng)模式，更符合磁控濺射的理念。 2、?采用獨特的結(jié)構(gòu)設(shè)計，可以內(nèi)置、外置，更符合使用要求。 3、磁鐵不被冷卻水包圍，減少腐蝕，且保證磁力線的有效曲線分布。 4、獨特的布氣方式，更加保膜層濺射的均勻性，其等離子狀態(tài)更加平衡。 5、?更高的濺射率，離子密度更強。 6、?更高的利用率，高達40%以上。 7、?尺寸范圍：可在300-3

2015-10-12 0

真空鍍膜流水線轉(zhuǎn)讓或合作

一、公司現(xiàn)有設(shè)備介紹： 1、德國馮阿登納真空濺射鍍膜流水線（VON ARDENNE WM 60），該設(shè)備有7個真空箱體，連續(xù)式鍍膜方式，配備4個陰極濺射，可鍍工件尺寸：1200mm*600mm ，配套冷水機組，全自動過程及工藝控制。 2、美國應(yīng)用材料真空磁控鍍膜流水線（APPLIED? MATERIALS），該設(shè)備有5個真空箱體，連續(xù)式鍍膜方式，配備4個陰極濺射，可鍍工件尺寸：1800mm*1

2015-10-12 0

供應(yīng)真空連續(xù)鍍膜生產(chǎn)線

1、英文名稱：VON ARDENNE WM 60 HCM INLINE-SPUTTERANLAGE 2、中文名稱：馮阿登納真空濺射鍍膜流水線 3、產(chǎn)地：德國 4、規(guī)格：WM 60 5、功能：適合玻璃連續(xù)鍍膜，如太陽能、LOW-E、裝飾性膜層，另可以使用于壓克力，不銹鋼板，特殊材料表面處理等。 6、簡要介紹： 6.1、主體結(jié)構(gòu)：7組真空箱體，連續(xù)式，長度12.6米 6.2、真空泵

2015-10-12 0

ITO真空鍍膜生產(chǎn)線

ITO導(dǎo)電玻璃真空鍍膜流水線 該系統(tǒng)專門針對玻璃鍍ITO膜設(shè)計，分為9個真空室：進料室、輝光清洗室、過渡室、SIO2濺射室、過渡室、ITO濺射室、傳輸室、緩沖室、出料室。系統(tǒng)整體設(shè)計嚴(yán)格，采用分子泵高真空機組，可配備高濺射效率的平面靶或旋轉(zhuǎn)靶，采用直流濺射或中頻濺射，可以率的濺射AL膜、ITO膜、SIO2膜、銀膜、鉻膜、TiO膜等。 一、工藝膜系： 單面結(jié)構(gòu)：Glass/ ITO/SiO2/

2015-10-12 面議/套

供應(yīng)low-e玻璃鍍膜線二手

預(yù)真空室具有雙層基片承載盤升降機，使得裝卸基片和濺射工藝同時進行，從而實現(xiàn) “in-line”連續(xù)在線工作方式。由上至下濺射方式，12”x12”尺寸的基片承載盤，可放置不同尺寸及形狀的基片�；�片承載盤單次/多次掃描沉積方式，準(zhǔn)確地控制沉積膜的厚度，不需要膜厚檢測器，避免了因膜厚檢測器的測量誤差以及傳感器的消耗，節(jié)省了運行成本。生產(chǎn)量：9個4” 基片/次，6個6” 基片/次，1個12” 基片/次。

2015-10-12 0

供應(yīng)ITO鍍膜生產(chǎn)線

預(yù)真空室具有雙層基片承載盤升降機，使得裝卸基片和濺射工藝同時進行，從而實現(xiàn) “in-line”連續(xù)在線工作方式。由上至下濺射方式，12”x12”尺寸的基片承載盤，可放置不同尺寸及形狀的基片�；�片承載盤單次/多次掃描沉積方式，準(zhǔn)確地控制沉積膜的厚度，不需要膜厚檢測器，避免了因膜厚檢測器的測量誤差以及傳感器的消耗，節(jié)省了運行成本。生產(chǎn)量：9個4” 基片/次，6個6” 基片/次，1個12” 基片/次。

2015-10-12 0