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日用玻璃環(huán)氧系材料試驗超高等電子技術(shù)

來源: 作者:佚名 2004/4/17 11:06:00

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   據(jù)日本樹脂業(yè)機構(gòu)消息,日本研究開發(fā)高等技術(shù)的技術(shù)研究協(xié)會日前發(fā)表了"非常高密度電子SI(system integration)技術(shù)"的成果,并稱采用玻璃環(huán)氧系材料進行了試驗。  
    該協(xié)會說,ASET主要在電子領(lǐng)域開發(fā)2010年以后所需要的基礎(chǔ)技術(shù)。非常高密度電子SI由3種技術(shù)構(gòu)成:將半導(dǎo)體電子元件進行非常高密度3維安裝的技術(shù),光電復(fù)合安裝技術(shù),較佳布線結(jié)構(gòu)設(shè)計關(guān)聯(lián)技術(shù)。其中光電復(fù)合安裝技術(shù)的研究目標(biāo)是實現(xiàn)超過100Gb/s的高速光傳輸路徑,其中引人注目的是,以低成本為中心推進的光導(dǎo)波路薄膜轉(zhuǎn)印技術(shù)! 
    據(jù)說過去在光電復(fù)合電路板將性能要求不同的元件安裝在同一塊電路板上,導(dǎo)致材料及工藝成本較高。而在轉(zhuǎn)印方式的技術(shù)中,分別在不同的制造工序上形成光導(dǎo)波路的薄膜與電路板,較后再將薄膜轉(zhuǎn)印到電路板上。因此光導(dǎo)波路的薄膜不再需要選用耐焊錫爐等高溫環(huán)境的材料?梢允褂肞MM以及PMMA,因此簡化制造工序。  
    實驗中使用的電路板采用了玻璃環(huán)氧系材料,在其上面加工形成BuildUp層。然后再將膜厚50μm的光導(dǎo)波路薄膜(單模形式)"轉(zhuǎn)印"到該電路板上。由于電路板上加工有焊錫電阻(Solder Resistor)從而形成了15-17μm左右的凹凸?fàn)畋砻,通過使用粘接劑可以清理凹凸,使光導(dǎo)波路薄膜平坦層疊。其結(jié)果,在光導(dǎo)波路薄膜上面只有納米級的粗糙度,因此估計在其上面還可以很容易地重疊數(shù)層的光導(dǎo)波路薄膜。 

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