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平板產(chǎn)業(yè):往上游延伸 向下一代發(fā)展

來源:中國電子報 2009/10/23 0:00:00

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  平板產(chǎn)業(yè)受到工藝技術(shù)和設(shè)備的制約,特別是TFT的工藝制程與集成電路相當(dāng),潔凈技術(shù)尤為重要。記者從“2009中國(無錫)潔凈工程高峰論壇”上了解到,隨著集成電路制造技術(shù)的不斷升級,大部分國家主流廠商已經(jīng)進(jìn)入納米時代,制造集成電路所需的潔凈廠房的設(shè)計建造和節(jié)能創(chuàng)新也需要不斷提升,為先進(jìn)工藝產(chǎn)品的生產(chǎn)提供保障。在平板顯示領(lǐng)域,TFT-LCD第6代到第8代生產(chǎn)線已經(jīng)成為主流,在數(shù)萬平方米的潔凈廠房內(nèi)實現(xiàn)自動化生產(chǎn),也對潔凈室的設(shè)計建造技術(shù)提出新的要求。今年7月1日,國家標(biāo)準(zhǔn)《電子工業(yè) 潔 凈 廠 房 設(shè) 計 規(guī) 范 》(GB50472)正式實施,這是我國專針對電子工業(yè)領(lǐng)域的潔凈廠房設(shè)計推出的靠前個國家標(biāo)準(zhǔn),它將幫助企業(yè)優(yōu)化潔凈室的設(shè)計與建造。

  在本次高峰論壇上,來自國內(nèi)優(yōu)異的潔凈室設(shè)計建造企業(yè)和集成電路、平板顯示器制造企業(yè)的相關(guān)人士向與會各界人士介紹了潔凈室領(lǐng)域的較新技術(shù)與成功案例。

  據(jù)國家標(biāo)準(zhǔn)《電子工業(yè)潔凈廠廠房設(shè)計規(guī)范》主編陳霖新介紹,45nm非常大規(guī)模集成電路生產(chǎn)要求控制潔凈室的空氣潔凈度為ISO1級或2級,控制微粒粒徑為0.03μm。隨著集成度的不斷提高,加工尺寸日益微細(xì)化,這不僅要求達(dá)到十分嚴(yán)格的空氣潔凈度等級標(biāo)準(zhǔn),而且要確保在整個產(chǎn)品生產(chǎn)過程中,微粒不黏附在芯片上、芯片不受化學(xué)污染物的污染、芯片表面不受損傷。

  “電子潔凈廠房的施工特點是造價貴、工期短、品質(zhì)要求高、復(fù)雜度和整合度高。”中國電子系統(tǒng)工程公司第二建設(shè)有限公司總工程師施紅平在演講中表示,“對于潔凈廠房的施工而言,必須克服高空作業(yè)、大面積精度控制和全過程潔凈施工控制等難題。”

  中芯全部上海廠務(wù)處資歷豐富經(jīng)理陳玉峰則強(qiáng)調(diào):“氣態(tài)分子級污染物(AMC)是危害生產(chǎn)工藝并導(dǎo)致成品率降低的分子態(tài)化學(xué)物質(zhì),會在半導(dǎo)體制造多個關(guān)鍵工藝上造成各種危害,影響產(chǎn)品質(zhì)量。隨著半導(dǎo)體制造技術(shù)的發(fā)展,對AMC的控制將越來越嚴(yán)格。而單一的采用化學(xué)過濾器去除AMC的控制方法受許多條件的限制,并且會大幅提高運(yùn)行成本。因此應(yīng)該從設(shè)計選址、設(shè)備選型、改進(jìn)工藝流程等多方面進(jìn)行考慮。”

 

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