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日常生活中我們經(jīng)常會接觸到各種類型的玻璃材料,除了傳統(tǒng)的平板玻璃以外,還有超白玻璃、高硼硅玻璃等具有特殊性質(zhì)的玻璃材料,以及中空玻璃、夾膠玻璃一類的常用材料。為了讓大家進(jìn)一步認(rèn)識幕墻玻璃的維護(hù)方法與藝術(shù)玻璃的加工手法,我們搜集資料編排了這篇文章,希望能有所幫助。
幕墻的重要組成部分是玻璃,而玻璃又是易損件,因此管理和保護(hù)十分重要。
在保存的地方廣泛的流通空氣是必要的。尤其是在高溫及循環(huán)溫度周期內(nèi)更應(yīng)注意。如果條件不允許將它們存放在室內(nèi),那么應(yīng)該用防水油布或塑料覆蓋起來,以防風(fēng)吹入的雨及流入的水,并且應(yīng)定期打開罩布檢查是否水氣凝結(jié)。
玻璃必須罩上不透光的防護(hù)罩,決不能直接放在太陽光下保存。堆放各類玻璃應(yīng)以與垂直方向 5 °-7 °角直立放著,并斜靠在一個牢固的直壁上。所有玻璃的頂邊和底邊應(yīng)該用油毛氈墊上,并且用保護(hù)紙板或其他油毛氈將其分開。如果玻璃是平放著的,就必須用油毛氈蓋住表面,以防止灰塵、砂粒玻璃片或其他污染物。
在施工期間的保護(hù)。在施工中通常是用鮮艷的小旗、彩飾帶子等懸掛在玻璃附近或貼附在窗框前方、側(cè)柱或窗臺上以標(biāo)記出這是安裝玻璃的空間。決不要讓繩索直接觸到玻璃,并且也不要讓記號或涂料直接畫在玻璃表面上,如果焊接、切割噴沙或者其他可能損傷玻璃的建筑工藝在接近玻璃的地方采用,則必須應(yīng)用膠合板或塑料板作為一層嚴(yán)密的隔離層板以防止它們影響以至損壞玻璃。
冷加工類
1.鑲嵌玻璃(傳統(tǒng)鑲嵌,英式鑲嵌,金屬焊接鑲嵌)
2.化學(xué)蝕刻(圖案蒙砂,絲印圖案蒙砂,圖案凹蒙)
3.工具雕刻(各式砂輪,砂條雕刻,晶剛刻刀,電腦車花)
4.噴砂雕刻(手工刻膠紙掩模,機刻膠紙掩模,光刻掩模,漆料肌理掩模)
5.激光雕刻(電腦控制激光雕刻)
6.切割造型(刀切割,水切割)
7.粘貼造型(平面粘貼,空間粘貼,彩色玻璃和膠膜的粘貼,彩色珠/砂/條/件的粘貼,多層疊粘,貼金)
8.立線(立線彩晶,立線漆浮雕造形)
9.彩繪(噴槍彩繪,畫筆彩繪,絲印彩圖,聚晶)
10.鍍膜/鍍鏡(包括鏡畫)
11.冰花(冰花)
12.夾層(En膜夾層:花布,花紙,彩色膠膜,金屬絲網(wǎng)等)
13.噴漆(自干的油漆在常溫晾干)
14.絲印 一般叫絲網(wǎng)印刷
15洗銀/洗膜 此工序與鍍膜/鍍鏡是反向的工藝.
熱加工類
1.吹制(Blown):用管子蘸玻璃液珠后吹制:人工鋼模/機制鋼模吹制,人工自由造形:吹拉滾摔粘切.
2.鑄造(Cast):把玻璃液壓注或流入模中成形:鋼模壓鑄玻璃磚,手工澆鑄彩色玻磚,平面澆鑄藝術(shù)玻璃,失蠟精鑄,琉璃工坊.
3.壓制(Pressing):把玻璃液引出,用軋輥壓花或壓彩色肌理和底紋的玻板:機制壓花玻璃,手工壓花藝術(shù)玻璃,機制玻璃馬賽克.
4.燒結(jié):把玻璃粉等在模中高溫?zé)Y(jié)成形:泡沫玻璃或微晶玻璃等的模燒工藝品.
5.熔凝(Fusing):把玻璃全熔凝至玻液,并在其表面張力下凝聚:熔凝的玻珠,玻璃手飾和工藝品等.
6.彩釉(Enamel):使用高溫彩釉在玻璃表面上色或彩繪:彩釉色玻,彩釉彩繪.
7.疊燒:把疊層玻璃燒粘黏成一體:疊熔,疊燒,夾絲/件.
8.熔模(Ssgging):把平板玻璃燒熔,凹陷入模成形:國內(nèi)稱為“熱熔玻璃”的大部分產(chǎn)品.
9.熱彎(Slumping):把玻璃燒軟自由下垂變形:曲面熱彎,熱彎生產(chǎn)“洗手盆”,“水族箱”等.
10夾膠:用EVA膠片或PVB膠片把各種材質(zhì)粘連固化在兩層或多層玻璃中.如“夾鐵絲玻璃”、“夾植物玻璃”、“防彈玻璃”等
相關(guān)概念
玻璃是非晶無機非金屬材料,一般是用多種無機礦物(如石英砂、硼砂、硼酸、重晶石、碳酸鋇、石灰石、長石、純堿等)為主要原料,另外加入少量輔助原料制成的。它的主要成分為二氧化硅和其他氧化物。普通玻璃的化學(xué)組成是Na2SiO3、CaSiO3、SiO2或Na2O·CaO·6SiO2等,主要成分是硅酸鹽復(fù)鹽,是一種無規(guī)則結(jié)構(gòu)的非晶態(tài)固體。廣泛應(yīng)用于建筑物,用來隔風(fēng)透光,屬于混合物。另有混入了某些金屬的氧化物或者鹽類而顯現(xiàn)出顏色的有色玻璃,和通過物理或者化學(xué)的方法制得的鋼化玻璃等。有時把一些透明的塑料(如聚甲基丙烯酸甲酯)也稱作農(nóng)業(yè)生產(chǎn)體系玻璃。
掩模版(mask)簡稱掩模,是光刻工藝不可缺少的部件。掩模上承載有設(shè)計圖形,光線透過它,把設(shè)計圖形透射在光刻膠上。掩模的性能直接決定了光刻工藝的質(zhì)量。在投影式光刻機中,掩模作為一個光學(xué)元件位于會聚透鏡(condenser lens)與投影透鏡(projection lens)之間,它并不和晶圓有直接接觸。掩模上的圖形縮小4~10倍(現(xiàn)代光刻機一般都是縮小4倍)后透射在晶圓表面。為了區(qū)別接觸式曝光中使用的掩模,投影式曝光中使用的掩模又被稱為倍縮式掩模(reticle)。
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