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液晶玻璃窯爐磚材侵蝕及后期運(yùn)行安全對(duì)策

來源:網(wǎng)絡(luò) 2018/7/9 15:56:32

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  措施:穩(wěn)定窯內(nèi)液流的同時(shí)優(yōu)化流液洞及鉑金喉管設(shè)計(jì)。流液洞底部與窯爐池底鋪面磚齊平,清理流液洞下部渦流。流液洞處插入帶法蘭的鉑金喉管,法蘭位于窯爐外部,緊貼池壁磚外側(cè),窯爐外部流液洞兩側(cè)設(shè)置冷卻風(fēng)管。伸入窯爐內(nèi)部的鉑金喉管,沿池壁磚內(nèi)表面在喉管外部加焊鉑金擋板。降低流液洞磚侵蝕速度。

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  圖3窯內(nèi)玻璃液流向

  2.3加料變化導(dǎo)致的侵蝕及措施

  窯內(nèi)玻璃液流動(dòng)對(duì)耐火材料侵蝕不可避免,其侵蝕速度主要受玻璃液流動(dòng)速度、窯爐運(yùn)行溫度及液流穩(wěn)定性影響。玻璃液流動(dòng)速度與窯爐出料量緊密聯(lián)系,出料量越大對(duì)應(yīng)窯內(nèi)玻璃液流速越快;窯爐運(yùn)行溫度則直接關(guān)乎窯爐運(yùn)行工藝。在窯爐運(yùn)行過程中這兩項(xiàng)指標(biāo)基本維持在指定數(shù)值范圍內(nèi),波動(dòng)幅度小且波動(dòng)頻次低。窯爐加料卻因加料方式及加料設(shè)備的原因,料山呈現(xiàn)周期性的坍塌、堆積變化,進(jìn)而導(dǎo)致窯內(nèi)玻璃液流存在頻繁變化,加劇爐體侵蝕,通常表現(xiàn)為池壁磚液位線附近侵蝕嚴(yán)重。

  措施:優(yōu)化加料設(shè)備,減小加料造成的料山波動(dòng)的大小及頻次。具體為對(duì)加料落點(diǎn)進(jìn)行延伸,減小料堆面積,減少料山波動(dòng),穩(wěn)定窯內(nèi)玻璃液位,降低液位線附近磚材的侵蝕速度,同時(shí)減小因料山變化造成的配合料對(duì)耐火材料的沖刷侵蝕。其中加料落點(diǎn)的調(diào)整應(yīng)根據(jù)窯爐實(shí)際情況制定合理的調(diào)整距離,不同運(yùn)行時(shí)期對(duì)應(yīng)的加料落點(diǎn)位置存在差異,每次調(diào)整距離不應(yīng)超過30 mm,調(diào)整效果觀察時(shí)間不應(yīng)低于3天。

  2.4工藝變化造成的侵蝕及措施

  隨著窯爐運(yùn)行時(shí)間的延長,窯爐后期其磚體侵蝕量越來越大,磚材越來越薄,窯爐散熱量增加。同時(shí)窯爐運(yùn)行后期為了減緩窯爐侵蝕速度,會(huì)適當(dāng)提高窯爐冷卻風(fēng)量,進(jìn)一步加劇了爐體熱量的散失。為了維持窯爐工藝的穩(wěn)定性,窯爐能量供給增加,電助熔加載功率加大,電較磚表面溫度升高,導(dǎo)致電較磚及其周圍池壁磚侵蝕速度加大,為窯爐后期運(yùn)行安全帶來非常大隱患。

  措施:窯爐運(yùn)行后期優(yōu)化窯爐能量分配。提高燃?xì)馓峁┠芰空急,減小電能占比,降低電助熔功率,降低電較磚表面溫度,減緩電較磚及池壁磚侵蝕速度。優(yōu)化窯爐能量期間,為穩(wěn)定窯爐工藝,維持各區(qū)能量平衡及溫度梯度,可適當(dāng)調(diào)整各區(qū)的燃料及電助熔功率占比。優(yōu)化窯爐能量占比的調(diào)整對(duì)窯爐工藝影響非常大,期間應(yīng)時(shí)刻關(guān)注窯爐工藝變化及生產(chǎn)變化情況,盡量減小調(diào)整幅度及頻次,總?cè)細(xì)饽苷急炔粦?yīng)高于38%,避免因工藝調(diào)整造成的產(chǎn)品產(chǎn)量及質(zhì)量的下降。

  2.5其他

  配合料中含有的有害雜質(zhì)進(jìn)入窯內(nèi),窯爐砌筑質(zhì)量,窯爐運(yùn)行工藝溫度制定,耐火材料制造品質(zhì)、加工質(zhì)量等也是造成爐體侵蝕加劇的影響因素,在相關(guān)文獻(xiàn)中關(guān)于以上影響因素已做出大量分析,文中不再做討論。

  本文對(duì)優(yōu)化窯爐結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)、磚材選型,調(diào)整冷卻風(fēng)壓、風(fēng)溫,增加冷卻風(fēng)數(shù)量及冷卻面積,增加冷卻水包等延緩窯爐本體侵蝕速度的措施不再做贅述。

  3、結(jié)語

  液晶玻璃窯爐磚材侵蝕不可避免,生產(chǎn)過程中需結(jié)合窯爐特征及磚材特性,在不同的窯爐運(yùn)行階段采取合理的措施,確保窯爐后期運(yùn)行安全,延長窯爐使用壽命。

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