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在線CVD技術在低輻射玻璃上的優(yōu)勢

來源:秦皇島耀華玻璃 2007/3/5 0:00:00

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    低輻射玻璃根據(jù)生產工藝不同分為在線CVD技術與離線真空磁控濺射技術。
    離線真空磁控濺射工藝,是在玻璃表面鍍上具有低輻射作用的金屬銀功能膜,兩側必須加上多層介質膜作為保護和過渡膜層,膜層與玻璃通過物理鍵結合。
    這種“軟鍍膜”產品有下列局限:膜層容易受到劃傷或損壞;由于銀較易氧化,膜層在接觸到空氣后會退化,因而其壽命有限;在短時間內必須將鍍膜后的玻璃合成中空;如進行鋼化等深加工時一般在鍍膜之前完成。
    在線LOW-E采用具有較有優(yōu)勢水平的在線CVD技術,在浮法玻璃生產過程中,當玻璃處于近700℃高溫時,在表面上鍍上半導體金屬氧化物,膜層同玻璃通過化學鍵結合,成為玻璃表面的一部分。因而具有很好的化學穩(wěn)定性和熱穩(wěn)定性。
    這種“硬鍍膜”產品具有如下特性:可單片使用;膜層牢固,耐用,實現(xiàn)較久節(jié)能;在合成中空時無需除去邊部膜層,可像普通浮法玻璃一樣進行熱彎、鋼化等深加工和儲存。

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