靶材的制備過程

a. 粉末合成

· 原料選擇：選用高純度的原料是確保靶材質(zhì)量的首要步驟。純度不僅影響靶材的結(jié)構(gòu)完整性，還直接關(guān)系到最終薄膜的性能。

· 粉體處理：粉末的粒度和形態(tài)對后續(xù)燒結(jié)和性能有重要影響。通過球磨等方法，可以獲得均勻且具有適宜粒徑的粉末。

b. 燒結(jié)工藝

· 溫度控制：燒結(jié)溫度的精確控制對于獲得密實且均勻的靶材是關(guān)鍵。過高或過低的溫度都會影響靶材的微觀結(jié)構(gòu)和性能。

· 氣氛調(diào)節(jié)：在特定氣氛下進行燒結(jié)（如惰性氣氛或還原氣氛），以防止材料氧化或還原，保持所需的化學狀態(tài)。

c. 成型方法

· 壓制成型：通過壓制成型，可以控制靶材的形狀和尺寸。均勻的壓力分布確保了靶材密度的一致性，這對于薄膜的均勻沉積至關(guān)重要。

· 后處理：如切割和拋光等后處理步驟，進一步確保靶材的表面平整和尺寸精度，對提升薄膜的質(zhì)量有顯著影響。

這一系列精細的制備過程，就像編織精美織物的工藝，每一道工序都不容忽視。通過對這些步驟的精心控制，不僅能制備出高質(zhì)量的氧化物靶材，還能在薄膜制備領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)更高的技術(shù)標準和更廣泛的應用前景。

公司簡介 Company Introduction北京金源新材科技有限公司是一家以研發(fā)、生產(chǎn)、銷售各類高 新材料為主的企業(yè)，公司在新材料行業(yè)技術(shù)先進，注重技術(shù)創(chuàng)新，公司秉承“誠信 務實，追求卓越”的企業(yè)精神，以“服務于 PVD 鍍膜材料”為宗旨。 主要產(chǎn)品包括高純金屬材料、磁控濺射靶材、真空蒸發(fā)鍍膜材料、 稀土材料等，產(chǎn)品廣泛應用于航空航天、太陽能光伏企業(yè)、光學鍍膜、半導體集成 電路、平板顯示、記錄介質(zhì)、表面涂層等領(lǐng)域。銷售部:13520577626/15210523788 QQ:2324865248 郵箱: sales@ginsrc.com

氧化鉺（Er2O3 ）靶材 99.99%