熔煉合金金屬：

產(chǎn)品名稱	化學(xué)符號(hào)	純度（%）	熔點(diǎn)(℃)	密度(g/cm³)	規(guī)格形態(tài)（顆粒、塊材、絲材）
高純鋁	Al	4N6；5N	660	2.7	φ3*3mm；φ6*6mm；φ1.0mm
高純硼	B	3N	2300	2.31	≠1-10mm
高純鉍	Bi	4N	271.4	9.79	≠1-6mm
高純鎘	Cd	4N	321.1	8.65	≠1-10mm
高純鈷	Co	3N5	1495	8.9	≠1-10mm
高純鉻	Cr	3N5	1890	7.2	≠3-5mm
高純銅	Cu	4N；5N	1083	8.92	φ3*3mm；φ6*6mm；φ1.0mm
高純鐵	Fe	3N5	1535	7.86	φ4*4mm；φ1.0mm
高純鍺	Ge	5N5	937	5.35	≠3-6mm
高純銦	In	4N5	157	7.3	≠3-5mm
高純鎂	Mg	3N5	651	1.74	φ4mm球形
高純錳	Mn	3N	1244	7.2	≠1-10mm
高純鉬	Mo	3N5	2617	10.22	φ6*6mm
高純鈮	Nb	3N5	2468	8.55	φ3*3mm；φ6*6mm
高純鎳	Ni	3N8；4N5	1453	8.9	φ3*3mm；φ6*6mm
高純鉛	Pb	5N	328	11.34	≠1-6mm
高純銻	Sb	5N	630.7	6.68	≠1-10mm
高純鈧	Sc	3N	1814	2.98	≠1-10mm
高純硒	Se	4N	217	4.28	≠1-5mm
高純硅	Si	5N	1410	2.42	≠1-5mm
高純錫	Sn	4N	232	7.75	≠2-4mm
高純鉭	Ta	3N5	2996	16.60	φ3*3mm；φ6*6mm
高純碲	Te	4N	425	6.25	≠1-6mm
高純鈦	Ti	2N7；5N	1675	4.5	φ3*3mm；φ6*6mm
高純釩	V	3N	1919	6.11	≠1-10mm；5*5*5mm
高純鎢	W	3N5	3410	19.3	φ6*6mm
高純釔	Y	3N	1522	4.47	≠1-10mm
高純鋅	Zn	4N5	419	7.14	≠1-6mm
高純鋯	Zr	2N7	1477	6.4	φ2*3mm
高純鉿	Hf	3N5	2233	13.31	φ2*5mm
高純鑭	La	3N	921	6.17	≠1-10mm
高純鈰	Ce	3N	799	6.7	≠1-10mm
高純釤	Sm	3N	1072	7.54	≠1-10mm
高純銪	Eu	3N	822	5.26	≠1-10mm
高純釓	Gd	3N	1311	7.9	≠1-10mm
高純鋱	Tb	3N	3230	8.22	≠1-10mm
高純鏑	Dy	3N	1412	8.55	≠1-10mm
高純鉺	Er	3N	1522	8.8	≠1-10mm
高純鐿	Yb	3N	824	6.98	≠1-10mm
高純鈥	Ho	3N	1474	8.79	≠1-10mm
高純镥	Lu	3N	1663	9.84	≠1-10mm

北京眾誠新材科技專業(yè)從事高純金屬材料生產(chǎn)加工，采用區(qū)域熔煉法，真空熔煉法，熱等靜壓燒結(jié)，電解精煉法提純等工藝，高純金屬純度達(dá)到99.9%-99.999%，產(chǎn)品純度高，質(zhì)量穩(wěn)定。

高純單質(zhì)金屬濺射靶材（3N-5N）：鋁靶Al、鉻靶Cr、銅靶Cu、鎳靶Ni、鋯靶Zr、鉻靶Cr、鈦靶Ti、鋁靶Al、錫靶Sn、釩靶V、銻靶Sb、銦靶、硼靶B、鎢靶W、錳靶Mn、鉍靶Bi、石墨靶C、硅靶Si、鉭靶Ta、鋅靶Zn、鎂靶Mg、鈮靶Nb、鉬靶Mo等高純單質(zhì)金屬濺射靶材。高純陶瓷化合物濺射靶材（3N-4N）：ITO靶、AZO靶、IGZO靶、氧化鎂靶MGO、氧化釔靶Y2O3、氧化鐵靶Fe2O3、氧化鎳靶Ni2O3、氧化鉻靶Cr2O3、氧化鋅靶ZnO、硫化鋅靶ZnS、二硼化鈦靶TiB2、氧化鎂靶MgO、碳化硼靶BC、氮化硼靶BN、碳化硅靶SiC、三氧化二釔靶Y2O3、五氧化二釩靶V2O5、氧化鋅靶ZnO、硫化鋅靶ZnS、硫化鉬靶MoS、硫化鎢靶WS、氧化鋁靶Al2O3、鈦酸鍶靶SrTiO3、五氧化二鉭靶Ta2O5、五氧化二鈮靶Nb2O5等高密度陶瓷濺射靶材。備注：眾誠新材生產(chǎn)的陶瓷靶材采用先進(jìn)的陶瓷生產(chǎn)工藝；惰性氣體保護(hù)熱等靜壓燒結(jié)技術(shù)，相對(duì)密度大于95-99％，可以提供靶材的金屬化處理及綁定服務(wù)。

多元合金靶靶材（3N-4N）：鎳釩合金靶Ni-V，鎳鉻合金靶Ni-Cr，鈦鋁合金靶Ti-Al，硅鋁合金靶Si-Al，銅銦合金靶Cu-In，銅鎵合金靶Cu-Ga，銅銦鎵合金靶Cu-In–Ga，銅銦鎵硒靶Cu-In–Ga-Se，鋅鋁合金靶Zn-Al，鎢鈦W-Ti，鐵鈷Fe-Co等高純合金濺射靶材。備注：眾誠新材生產(chǎn)的高純合金濺射靶材：晶粒度小150-60um，相對(duì)密度高（99-99.9％），純度高（99.9-99.99％），可以提供靶材的金屬化處理及綁定服務(wù)。

高純單質(zhì)熔煉鍍膜材料（純度3N-5N，顆粒尺寸3*3mm、6*6mm、2*5mm等，絲材φ1.0mm、φ0.5mm等）：金Au、銀Ag、鉑Pt、鈀Pd、鋁Al、鉻Cr、銅Cu、鎳Ni、鋯Zr、鉻Cr、鈦Ti、鈷Co、錫Sn、釩V、銻Sb、銦In、硼B(yǎng)、鎢W、錳Mn、鉍Bi、硅Si、鉭Ta、鋅Zn、鎂Mg、鈮Nb、鉬Mo等高純單質(zhì)金屬顆粒。

陶瓷化合物蒸發(fā)顆粒（純度3N-4N，尺寸1-3mm）：一氧化硅、二氧化硅、一氧化鈦、二氧化鈦、三氧化二鈦、五氧化三鈦、二氧化鋯、二氧化鉿、二氧化鈰、三氧化鎢、五氧化二鉭、五氧化二鈮、三氧化二鈧、三氧化二鋁、三氧化二銦、氧化鐿、氧化鋅、氧化鎂、氧化鈣、氧化鉍、氧化鉻、氧化鎳、氧化銅、氧化鐵、氧化釩、氟化鎂、氟化鈣、氟化鑭、氟化鐿、氟化釔、氟化鋇、硫化物、硫化鋅、硫化鈣、硫化銻等陶瓷蒸發(fā)顆粒。

主營產(chǎn)品：濺射靶材,蒸鍍材料,非晶合金金屬,半導(dǎo)體材料,高純金屬材料,金銀鋁銅鈦鎳,鎢鉬鉭鈮 公司成立年份：2016
公司網(wǎng)址：http://bjzcxc.glass.com.cn

聯(lián)系人：蔣先生
電話：-010-53320957-
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地址：城西路87號(hào)新龍大廈A座
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產(chǎn)品屬性：
計(jì)量單位：千克 供貨總量：10000 最小起訂量：1 產(chǎn)品單價(jià)：100.00 品牌： 規(guī)格型號(hào)： 包裝說明：

熱反射玻璃一般是在玻璃表面鍍一層或多層諸如鉻、鈦或不銹鋼等金屬或其化合物組成的薄膜，使產(chǎn)品呈豐富的色彩，對(duì)于可見光有適當(dāng)?shù)耐干渎剩瑢?duì)紅外線有較高的反射率，對(duì)紫外線有較高吸收率，因此，也稱為陽光控制玻璃，主要用于建筑和玻璃幕墻；低輻射玻璃是在玻璃表面鍍由多層銀、銅或錫等金屬或其化合物組成的薄膜系，產(chǎn)品對(duì)可見光有較高的透射率，對(duì)紅外線有很高的反射率，具有良好的隔熱性能，主要用于建筑和汽車、船舶等交通工具，由于膜層強(qiáng)度較差，一般都制成中空玻璃使用；導(dǎo)電膜玻璃是在玻璃表面涂敷氧化銦錫等導(dǎo)電薄膜，可用于玻璃的加熱、除霜、除霧以及用作液晶顯示屏等；鍍膜玻璃的生產(chǎn)方法很多，主要有真空磁控濺射法、真空蒸發(fā)法、化學(xué)氣相沉積法以及溶膠—凝膠法等。磁控濺射鍍膜玻璃利用磁控濺射技術(shù)可以設(shè)計(jì)制造多層復(fù)雜膜系，可在白色的玻璃基片上鍍出多種顏色，膜層的耐腐蝕和耐磨性能較好，是目前生產(chǎn)和使用最多的產(chǎn)品之一。真空蒸發(fā)鍍膜玻璃的品種和質(zhì)量與磁控濺射鍍膜玻璃相比均存在一定差距，已逐步被真空濺射法取代。化學(xué)氣相沉積法是在浮法玻璃生產(chǎn)線上通入反應(yīng)氣體在灼熱的玻璃表面分解，均勻地沉積在玻璃表面形成鍍膜玻璃。該方法的特點(diǎn)是設(shè)備投入少、易調(diào)控，產(chǎn)品成本低、化學(xué)穩(wěn)定性好，可進(jìn)行熱加工，是目前最有發(fā)展前途的生產(chǎn)方法之一。溶膠—凝膠法生產(chǎn)鍍膜玻璃工藝簡(jiǎn)單，穩(wěn)定性也好，不足之處是產(chǎn)品光透射比太高，裝飾性較差。