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? 產(chǎn)品特點(diǎn): ? ????采用電阻式蒸發(fā)原理,把被蒸發(fā)物質(zhì)加熱到一定溫度,在高真空狀態(tài)下,蒸汽的原子和分子從蒸發(fā)源表面逸出,直接到達(dá)被鍍材料表面成膜的方式。具有沉積速度快、溫度低的特點(diǎn)。是各種塑料產(chǎn)品、薄膜產(chǎn)品真空鍍鋁的優(yōu)選設(shè)備,鍍鋁后的塑料產(chǎn)品可以處理成金、銀、紅、紫、藍(lán)、灰、黑等各種鮮艷顏色,改變產(chǎn)品的外觀品質(zhì),提高產(chǎn)品的檔次,廣泛應(yīng)用在玩具、工藝品、電子、鐘表、家具、PET、PT薄膜
2011-10-14 0?? 產(chǎn)品特點(diǎn): ? ???采用電阻蒸發(fā)或電子槍蒸發(fā)方式,是鍍制多層光學(xué)薄膜(如彩色膜、增透膜、反光膜、金屬膜、導(dǎo)電膜等)的主要機(jī)器。廣泛應(yīng)用在相機(jī)鏡頭、手機(jī)鏡片、光學(xué)片等各個(gè)領(lǐng)域。 技術(shù)參數(shù): 真空室箱體:采用SUS304不銹鋼,直徑1200*1300mm,并可根據(jù)客戶要求實(shí)際定做。 夾具方式?:球面形狀或平面形狀,具體按照客戶的產(chǎn)品來(lái)確定。 蒸發(fā)源:采用電子槍和熱電阻蒸發(fā)
2011-10-14 0???? 產(chǎn)品特點(diǎn): ? 該機(jī)型是在電阻蒸發(fā)鍍膜機(jī)的基礎(chǔ)上,配備磁控圓柱和磁控平面靶。設(shè)備即可以鍍鋁、硬鉻等金屬膜層,也可以鍍氟化鎂等非金屬膜。配備的磁控靶,可以進(jìn)行離子濺射鍍鋁、銅、不銹鋼、貴金屬等,可以準(zhǔn)確的控制膜厚,是鍍各種塑膠、陶瓷、玻璃、手機(jī)配件等材料的優(yōu)選機(jī)器,一機(jī)多用是該機(jī)型的價(jià)值所在。 ? 技術(shù)參數(shù): 真空室箱體:主要規(guī)格有1000*1200mm,1200*1500
2011-10-14 0?? 產(chǎn)品特點(diǎn): ? ????采用頻率為數(shù)十千赫茲的中頻電源,配備經(jīng)過(guò)嚴(yán)格磁路設(shè)計(jì)的孿生靶(對(duì)靶),可以避免?“打火”、“陽(yáng)極消失”、“靶中毒”等現(xiàn)象,提高了離化率、濺射速率,顯著提高沉積速度,適合做化合物薄膜(如TiO2、TiN、TiC、TiCN、TiAlN等)的沉積。中頻磁控離子鍍膜機(jī)在近幾年得到了迅猛的發(fā)展,在鐘表、眼鏡、五金等裝飾度領(lǐng)域得到廣泛的應(yīng)用。 ? 技術(shù)參數(shù): 真空
2011-10-14 0? 產(chǎn)品特點(diǎn): 利用真空狀態(tài)下弧光放電原理的離子鍍膜技術(shù),是率先發(fā)展起來(lái)的真空鍍膜方式,具有沉積速率高、結(jié)合牢固、設(shè)備運(yùn)行穩(wěn)定等優(yōu)點(diǎn),我們?cè)趥鹘y(tǒng)多弧的基礎(chǔ)上,對(duì)靶結(jié)構(gòu)、磁鐵、冷卻等進(jìn)行了嚴(yán)格的改進(jìn)和設(shè)計(jì),提高了離化率、細(xì)化顆粒,膜層和基材結(jié)合更加牢固、膜層更加致密,硬度耐磨性顯著提高,厚度可以控制在0.5微
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