供應光學鍍膜機

產品特點: 采用電阻蒸發(fā)或電子槍蒸發(fā)方式，是鍍制多層光學薄膜（如彩色膜、增透膜、反光膜、金屬膜、導電膜等）的主要機器。廣泛應用在相機鏡頭、手機鏡片、光學片等各個領域。 ? 技術參數(shù): 真空室箱體：采用SUS304不銹鋼，直徑1200*1300mm，并可根據(jù)客戶要求實際定做。 夾具方式：球面形狀或平面形狀，具體按照客戶的產品來確定。 蒸發(fā)源：采用電子槍和熱電阻蒸發(fā)源，可根據(jù)需要配置大功率

2020-04-03 0

供應電阻蒸發(fā)+磁控鍍膜機

產品特點: 該機型是在電阻蒸發(fā)鍍膜機的基礎上，配備磁控圓柱和磁控平面靶。設備即可以鍍鋁、硬鉻等金屬膜層，也可以鍍氟化鎂等非金屬膜。配備的磁控靶，可以進行離子濺射鍍鋁、銅、不銹鋼、貴金屬等，可以準確的控制膜厚，是鍍各種塑膠、陶瓷、玻璃、手機配件等材料的優(yōu)選機器，一機多用是該機型的價值所在。 ? 技術參數(shù): 真空室箱體：主要規(guī)格有1000*1200mm，1200*1500mm、1800*195

2020-04-03 0

供應磁控+多弧離子鍍膜機

產品特點: 該機型在多弧離子鍍膜機的基礎上配置圓柱靶或平面磁控靶，設備具備離子鍍的高離化率、高沉積速度的特點，同時也具備磁控濺射低溫、穩(wěn)定的優(yōu)點，適合鍍各種復合膜層，，可以做到多復合膜層一次性完成，膜層具有很高的結合力、硬度、耐磨系數(shù)，特別適合鐘表、五金刀具、工藝品廠家的IPG、IPS、刀具攙雜、復合膜層的制備。 ? 技術參數(shù): ? 真空室箱體：主要規(guī)格有800*1000mm、1000*

2020-04-03 0

供應多弧離子鍍膜機

利用真空狀態(tài)下弧光放電原理的離子鍍膜技術，是率先發(fā)展起來的真空鍍膜方式，具有沉積速率高、結合牢固、設備運行穩(wěn)定等優(yōu)點，我們在傳統(tǒng)多弧的基礎上，對靶結構、磁鐵、冷卻等進行了嚴格的改進和設計，提高了離化率、細化顆粒，膜層和基材結合更加牢固、膜層更加致密，硬度耐磨性顯著提高，厚度可以控制在0.5微米—5微米之間，是普通裝飾鍍和工具鍍膜的優(yōu)選機型。 根據(jù)市場的需求公司研制出輔助陽極、磁過濾、矩形平面靶、

2020-04-03 0

供應連續(xù)臥式鍍膜機

采用大型平面靶技術，可以在玻璃上面鍍制單質金屬膜、復合膜、電磁屏蔽膜、ITO膜，可以根據(jù)需要配置多個真空室，每個真空室根據(jù)需要配置不同的靶材，室與室之間采用獨立的真空抽氣系統(tǒng)，可以隨意調節(jié)各個真空室的氣體參數(shù)，鍍制不同的膜層，可以滿足工業(yè)化連續(xù)生產的需要。廣泛應用于玻璃、PMMA、電子屏蔽等各種鍍膜領域。 技術參數(shù)： 鍍膜產品較大尺寸：1200*2400等規(guī)格，可根據(jù)客戶的具體需求設計而設計制

2020-04-03 0

供應自動系統(tǒng)鍍膜控制

自動系統(tǒng)采用觸摸屏+PLC或PC+PLC進行控制，可以實現(xiàn)真空抽氣系統(tǒng)、電源控制系統(tǒng)、氣體壓力和進氣系統(tǒng)、參數(shù)報警系統(tǒng)等的自動化控制，對鍍膜過程中的各參數(shù)進行控制。

2020-04-03 0

供應中頻磁控離子鍍膜機

產品特點: 采用頻率為數(shù)十千赫茲的中頻電源，配備經過嚴格磁路設計的孿生靶（對靶），可以避免“打火”、“陽極消失”、“靶中毒”等現(xiàn)象，提高了離化率、濺射速率，顯著提高沉積速度，適合做化合物薄膜（如TiO2、TiN、TiC、TiCN、TiAlN等）的沉積。中頻磁控離子鍍膜機在近幾年得到了迅猛的發(fā)展，在鐘表、眼鏡、五金等裝飾度領域得到廣泛的應用。 技術參數(shù): 真空室箱體：主要規(guī)格有800*10

2020-04-03 0

供應磁控+多弧離子鍍膜機器

該機型在多弧離子鍍膜機的基礎上配置圓柱靶或平面磁控靶，設備具備離子鍍的高離化率、高沉積速度的特點，同時也具備磁控濺射低溫、穩(wěn)定的優(yōu)點，適合鍍各種復合膜層，，可以做到多復合膜層一次性完成，膜層具有很高的結合力、硬度、耐磨系數(shù)，特別適合鐘表、五金刀具、工藝品廠家的IPG、IPS、刀具攙雜、復合膜層的制備。 技術參數(shù)： 真空箱體：主要規(guī)格有800*1000mm、1000*1200mm，并可以根據(jù)客戶

2020-04-03 0