在靶材的寬度方向上，靶材的區(qū)域蝕刻程度比非區(qū)域要嚴(yán)重很多，導(dǎo)致靶材區(qū)域被蝕刻到厚度達(dá)到需要更換靶材的程度時，非區(qū)域還剩有相當(dāng)厚的靶材而得不到有效利用，靶材整體的利用率一般在30%左右，而無法得到很好地提升�？梢姡F(xiàn)有的磁場移動的方法仍有進(jìn)一步改進(jìn)的空間。在電子和光電子應(yīng)用方面有較大潛力的新型半導(dǎo)體材料,它在室溫下具有高電子遷移率和良好導(dǎo)電性的優(yōu)勢。是目前大部分國家半導(dǎo)體研究的****和熱點，是研制微電子器件、光電子器件的新型半導(dǎo)體材料。它具有寬的直接帶隙、強的原子鍵、高的熱導(dǎo)率、化學(xué)穩(wěn)定性好(幾乎不被任何酸腐蝕)等性質(zhì)和強的抗輻照能力。半導(dǎo)體硅用于制作半導(dǎo)體器件�？傮w來講，硅主要用來制作高純半導(dǎo)體、耐高溫材料、光導(dǎo)纖維通信材料、農(nóng)業(yè)生產(chǎn)體系硅化合物、合金等。

濺射靶材被廣泛應(yīng)用于航空航天、電子電氣、建筑、運輸、能源、化工、紡織、食品、輕工、、農(nóng)業(yè)等行業(yè)。半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)對濺射靶材和濺射薄膜的品質(zhì)要求非常高，隨著更大尺寸的硅晶圓片制造出來，相應(yīng)地要求濺射靶材也朝著大尺寸、高純度的方向發(fā)展，同時也對濺射靶材的晶粒晶向控制提出了更高的要求。硅的原子結(jié)構(gòu)決定了硅原子具有一定的導(dǎo)電性，但由于硅晶體中沒有明顯的自由電子，因此導(dǎo)電率不及金屬，且隨溫度升高而增加，因而具有半導(dǎo)體性質(zhì)。國際上通常把商品硅分成金屬硅和半導(dǎo)體硅，金屬硅主要用來制作多晶硅、單晶硅、硅鋁合金及硅鋼合金的化合物。鋁靶、銅靶用于導(dǎo)電層薄膜。在半導(dǎo)體芯片制造的金屬化工藝過程中，氧化鎢薄膜是一種被廣泛研究的功能材料。

芯片行業(yè)擁有一條超長的產(chǎn)業(yè)鏈。其整體可分為設(shè)計、制造、封裝、四大環(huán)節(jié)。除了在設(shè)計領(lǐng)域，華為海思擁有一定的打破能力，其他三個環(huán)節(jié)，尤其是在制造環(huán)節(jié)，國內(nèi)廠商的能力仍有較大的提升空間。盡管全世界各大廠生產(chǎn)的材料幾乎都能99.99%的純度，但卻唯有日本廠商的材料能將純度達(dá)到99.999%。半導(dǎo)體材料主要分為晶圓制造材料和封裝材料，化學(xué)品、電子氣體、P拋光材料、以及靶材等；芯片封裝材料包括封裝基板（39%）、引線框架、樹脂、鍵合絲、錫球、以及電鍍液等。磷化銦靶材(InP)，鉛靶材(PbAs)，銦靶材(InAs)。UVTM成立于2003年，是一家集高品質(zhì)濺射靶材的研發(fā)，制造，銷售，服務(wù)于一體的國家高新技術(shù)企業(yè)。

中國及亞太地區(qū)靶材的需求占有世界70%以上的市場份額。研究用大量不同的沉積技術(shù)用來沉積生長各種薄膜。其中靶材是制作薄膜的關(guān)鍵，靶材品質(zhì)的好壞對薄膜的意義重大。要由:日本、德國和美國生產(chǎn)，我國靶材產(chǎn)業(yè)起步較晚，在產(chǎn)品質(zhì)量與精細(xì)標(biāo)準(zhǔn)上與國外有不少的差距，積極投入了大量鉆研與開發(fā)，經(jīng)過這幾年的發(fā)展，涌現(xiàn)了一批在靶材行業(yè)的公司。在國內(nèi)占據(jù)了大部分中低端靶材市場份額。市場需求的變化，中高等靶材成為鍍膜行業(yè)必不可缺的部分。近年來，靶材供應(yīng)商開始加大研發(fā)和投入，UVTM成立于二00三年。國內(nèi)集成電路產(chǎn)業(yè)一直受制于人，每年大量從海外****，****金額居所有****商品中位，超過市場上熟知的貨品和鐵礦石等資源品。

靶材產(chǎn)品包括AZO靶、鋁及其合金靶材、鈦靶、銅靶、鉭靶、ITO靶、氧化鋁鋅等。磁場方向與靶面陰極平行。形成環(huán)形磁場，該磁場與電場E正交．當(dāng)真空室內(nèi)充入氬氣后。20世紀(jì)90年代以來靶材已蓬勃發(fā)展成為一個專業(yè)化產(chǎn)業(yè)，隨著消費電子等終端應(yīng)用的飛速發(fā)展，高純度濺射靶材的市場銷售額日益擴(kuò)大。和超大規(guī)模集成電路芯片的制造對濺射靶材金屬純度的要求相比，太陽能電池用鋁靶的金屬純度略低，99.995%（4N5）以上。的濺射靶材相比，我國濺射靶材研發(fā)生產(chǎn)技術(shù)還存在一定差距，市場影響力相對有限，尤其在半導(dǎo)體芯片、平板顯示器、太陽能電池等領(lǐng)域，生產(chǎn)廠商所控制或壟斷。隨著濺射靶材朝著更高純度、更大尺寸的方向發(fā)展。我國濺射靶材生產(chǎn)企業(yè)只有不斷進(jìn)行研發(fā)創(chuàng)新。

通過將濺射靶材研發(fā)成果產(chǎn)業(yè)化，積極參與濺射靶材的國際化市場競爭，我國濺射靶材生產(chǎn)企業(yè)在技術(shù)和市場方面都取得了長足的進(jìn)步，改變了高純?yōu)R射靶材長期依賴****的不利局面。目前，包括長沙鑫康在內(nèi)的一些國內(nèi)企業(yè)已經(jīng)掌握了高純?yōu)R射靶材生產(chǎn)的關(guān)鍵技術(shù)，積累了較為豐富的產(chǎn)業(yè)經(jīng)驗，擁有了一定的市場知名度，獲得了大部分國家知名客戶的認(rèn)可�；诖蟛糠謬也少�、銷售體系觀念，在大部分國家范圍采購具競爭力的原料進(jìn)行生產(chǎn)銷售，能為用戶提供優(yōu)質(zhì)的選擇。產(chǎn)品廣銷美、日、德、韓、英、法、東南亞及世界各地。日本在電子行業(yè)的上游材料領(lǐng)域占據(jù)優(yōu)勢，在硅晶圓材料、光罩、靶材等重要的細(xì)分子領(lǐng)域的市場份額都超過50%。到?jīng)_擊而停產(chǎn)，括韓國在內(nèi)的世界其他地區(qū)半導(dǎo)體企業(yè)就將遇到材料供應(yīng)難題。半導(dǎo)體材料主要分為晶圓制造材料和封裝材料，光刻膠、光刻膠配套試劑、濕電子化學(xué)品、電子氣體、P拋光材料、以及靶材等；在國內(nèi)占據(jù)了大部分中等和要求不高的靶材市場份額。

廣州市尤特新材料有限公司（以下簡稱“尤特”），成立于2003年，位于羊城廣州的北面-花都,占地總面積約3萬平方米。尤特是一家專注于時尚消費電子產(chǎn)業(yè)、節(jié)能綠色環(huán)保產(chǎn)業(yè)、新材料新技術(shù)開發(fā)和應(yīng)用的重要高新技術(shù)企業(yè)。尤特以生產(chǎn)信息存儲記錄材料為起點，經(jīng)過10多年的開拓與發(fā)展，產(chǎn)業(yè)技術(shù)不斷迭代與升級，尤特的技術(shù)及應(yīng)用涉獵范圍逐步擴(kuò)大，其中主要包括：真空鍍膜靶材；環(huán)保（UV/水性）材料；觸控顯示材料；印刷技術(shù)及材料；信息存儲材料、導(dǎo)電散熱材料等。尤特一直倡導(dǎo)“新材料、促環(huán)保、美生活”企業(yè)使命。尤特遵循科學(xué)體系管理，先后通過《質(zhì)量管理體系》、《環(huán)境管理體系》、《職業(yè)健康與安全管理體系》認(rèn)證并有效運行，產(chǎn)品符合全部環(huán)境及安全標(biāo)準(zhǔn)；獲得SONY GP綠色合作伙伴全部認(rèn)證等。尤特重視產(chǎn)品研發(fā)及技術(shù)創(chuàng)新，先后與"武漢大學(xué)"、"華南理工大學(xué)"、"中南大學(xué)"等高校、研究所建立"產(chǎn)學(xué)研"合作機(jī)制，并承擔(dān)多項省市立項的科研項目，公司目前已擁有幾十項自主研發(fā)新興材料及工藝的知識產(chǎn)權(quán)，是廣州市扶持科技型要點培育上市企業(yè)。尤特先后獲得相關(guān)機(jī)構(gòu)的授予多個榮譽：如“國家生產(chǎn)力促進(jìn)獎、國家有名商標(biāo)、廣東省守合同重信用企業(yè)、廣東省雇主責(zé)任示范企業(yè)、廣州市安全生產(chǎn)標(biāo)準(zhǔn)化達(dá)標(biāo)企業(yè)、廣州市工程技術(shù)研發(fā)中心、廣州科技小巨人企業(yè)、地方納稅企業(yè)”等榮譽。尤特全體同仁秉承“創(chuàng)造價值，分享價值“的核心價值觀，借鑒以往成功管理運營經(jīng)驗，持續(xù)深挖磁控濺射鍍膜材料下游應(yīng)用市場，不斷拓寬市場應(yīng)用領(lǐng)域，做優(yōu)做強鍍膜材料產(chǎn)業(yè),將公司打造為--磁控濺射靶材行業(yè)者。

主營行業(yè)：化工原料、輔料//玻璃油墨 化工原料、輔料//其它 公司注冊地址：廣州市尤特新材料有限公司 法人代表：周志宏
員工人數(shù)：200-500人 廠房面積： 年營業(yè)額：
年進(jìn)口額： 年出口額： 主要市場：
客戶群：
公司名稱:廣州市尤特新材料有限公司
注冊資本:人民幣2000萬元/年-人民幣5000萬元/年 公司網(wǎng)址：http://UVTMCOM.glass.com.cn

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