大部分國(guó)家正廣泛采用電磁感應(yīng)用于烹飪，據(jù)行業(yè)分析公司TechNavio分析，從現(xiàn)在到2018年，電磁爐市場(chǎng)將以6.83%的年復(fù)合增長(zhǎng)率發(fā)展。然而，感應(yīng)烹飪的方式因不同地區(qū)遵循它們獨(dú)特的發(fā)展路徑而大有不同。在歐洲，多單元、半橋諧振爐灶正越來(lái)越普遍。但在亞洲卻不同。例如，每年數(shù)百萬(wàn)單個(gè)單元、準(zhǔn)諧振爐灶被銷(xiāo)售給中國(guó)消費(fèi)者，而采用準(zhǔn)諧振電感拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)的電飯煲在韓國(guó)見(jiàn)證了相當(dāng)大的市場(chǎng)吸引力。IH技術(shù)的工作原理是通過(guò)電磁線圈接通交變電流，直接對(duì)金屬內(nèi)膽進(jìn)行加熱，升溫更迅速；而且很多高等IH電飯煲引入更復(fù)雜的多級(jí)線圈，實(shí)現(xiàn)了對(duì)整個(gè)內(nèi)膽的環(huán)繞加熱，能夠均勻加熱。這樣，在普通的電熱盤(pán)加熱式的電飯煲中常見(jiàn)的鍋邊米又干又硬，中間的米松軟無(wú)力的情況，就不會(huì)出現(xiàn)了。一鍋米飯煮熟后，整鍋米飯非常均勻。米飯好吃多了。

早期的電飯煲，就是我們以前常見(jiàn)的那種，原理很簡(jiǎn)單，在鍋底部有一個(gè)加熱盤(pán)，就像個(gè)電爐子，給上面的鋁鍋加熱。它的熱源只集中在底部中心，加熱不均勻。這樣的電飯鍋只能簡(jiǎn)單滿(mǎn)足把米飯做熟的基本功能，根本談不上什么口感。那么，國(guó)外的電飯鍋好在哪里呢？高等電飯煲的核心技術(shù): 內(nèi)鍋的材料和工藝至關(guān)重要，現(xiàn)在高等電飯煲普遍使用灰鑄鐵鍋體加上粉體冷噴涂工藝，鑄造時(shí)要保留高含碳量、留有真空氣孔，工藝探索非常復(fù)雜。比較起普通的鋁合金鍋體，較好印象就是這個(gè)灰鑄鐵的鍋體沉甸甸的，用料非常充足。這種材質(zhì)工藝的好處是什么呢？簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)，就是加熱均勻，蓄熱好、涼得慢，而且它還能真實(shí)做到不粘，清洗養(yǎng)護(hù)都非常方便。

近年來(lái)，國(guó)內(nèi)的幾大電飯鍋品牌都在加大研發(fā)力度，IH電磁加熱技術(shù)基本趨于成熟，現(xiàn)在的難點(diǎn)在如何打破內(nèi)鍋工藝。實(shí)際上，在廣州，已有新材料公司掌握了該項(xiàng)噴涂工藝，并成功通過(guò)各項(xiàng)測(cè)試，實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)，隨著電飯鍋生產(chǎn)商和新材料研究中心的研發(fā)和合作，相信在不久在將來(lái)，“中國(guó)鐵器”將挑戰(zhàn)“南部鐵器”，成為中國(guó)制造的強(qiáng)而有力的一環(huán)，挑戰(zhàn)日本電飯煲技術(shù)的霸者地位。為滿(mǎn)足客戶(hù)并適應(yīng)市場(chǎng)的需求，我們投資1500萬(wàn)元，對(duì)生產(chǎn)設(shè)備進(jìn)行新設(shè)備引進(jìn)、設(shè)備改良和淘汰舊設(shè)備。淘汰一批舊金屬加工生產(chǎn)設(shè)備，并引進(jìn)一條冷噴涂技術(shù)生產(chǎn)線，采用冷噴涂技術(shù)制備高性能金屬（以及合金），其材質(zhì)包括銀、鉻、銅等金屬和銀合金、銅合金、鋅合金等合金材料。改造后涂層質(zhì)量?jī)?yōu)于鑄造和熱噴涂，低氧含量＜1000PPM，密度大于97%。

長(zhǎng)率達(dá)到18%。受機(jī)械硬盤(pán)出貨容量增長(zhǎng)的帶動(dòng)，記錄媒體靶材需求穩(wěn)定增長(zhǎng)。薄膜太陽(yáng)能電池效率存在提升空間，靶材需求。硅電池的效率已經(jīng)接近其理論值，而薄膜太陽(yáng)能電池的效率在逐年提高。據(jù)預(yù)測(cè)，年會(huì)呈現(xiàn)逐年遞增的趨勢(shì)，并于2023年打破395億美元大關(guān)。平板顯示靶材需求增加。目前，UVTM已掌握了銅、鋁等濺射靶材原材料提純的核心技術(shù)。HIT電池結(jié)構(gòu)，中間襯底為N型晶體硅，通過(guò)PECVD方法在P型a-Si和c-Si之間插入一層10nm厚的i-a-Si本征非晶硅，在形成pn結(jié)的同時(shí)。背面為20nm厚的本征a-Si：H和N型a-Si：H層，在鈍化表面的同時(shí)可以形成背表面場(chǎng)。由于非晶硅的導(dǎo)電性較差，射技術(shù)濺射TCO膜進(jìn)行橫向?qū)щ姟?/p>

光記錄靶材主要指在光盤(pán)制造中使用到的濺射靶材。結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單的光盤(pán)主要由基板、記錄層、反射層、保護(hù)層和印刷層組成，數(shù)超過(guò)10層，有記錄層、反射板和保護(hù)層。國(guó)外濺射靶材生產(chǎn)商數(shù)量眾多，但是側(cè)重不同，在各個(gè)細(xì)分市場(chǎng)各有優(yōu)勢(shì)。目前制備薄膜電池較為常用的濺射靶材包括鋁靶、銅靶、鉬靶、鉻靶以及ITO靶、AZO靶(氧化鋁鋅)等，HIT電池主要使用ITO靶材作為其透明導(dǎo)電薄膜。靶材也逐步向國(guó)產(chǎn)化方向努力;設(shè)備****替代降低投資成本。隨著消費(fèi)者對(duì)大尺寸電視及智能手機(jī)需求的增長(zhǎng)，平板顯示器尺寸迅速加大，推動(dòng)平板顯示器行業(yè)規(guī)模不斷加大，市場(chǎng)規(guī)模增速達(dá)到20%。硬盤(pán)容量快速增長(zhǎng)帶動(dòng)帶動(dòng)上游靶材需求增長(zhǎng)。未來(lái)幾年HDD的出貨總?cè)萘恳廊粫?huì)保持增長(zhǎng)態(tài)勢(shì)。

預(yù)燒后的密度為75%。對(duì)合金錠進(jìn)行外徑加工后放入等溫?cái)D壓模具，擠壓溫度為1700°C，擠壓后的管坯尺寸為內(nèi)徑130_，外徑為160_，密度為99.1%。擠壓成型的管坯通過(guò)貼合工序，與不銹鋼襯管結(jié)合，獲得鉬鈮合金旋轉(zhuǎn)靶材。大部分國(guó)家的微電子領(lǐng)域，年平均的發(fā)展速度大約為4%到5%。中國(guó)微電子領(lǐng)域一直都保持在13%到14%的發(fā)展水平。沒(méi)有微電子領(lǐng)域的快速發(fā)展，就不可能有相關(guān)的領(lǐng)域裝備和材料的進(jìn)步。大部分國(guó)家封裝市場(chǎng)中心基本集中于東南亞，27%，僅馬來(lái)西亞就貢獻(xiàn)了13%。菲律賓則是大部分國(guó)家被動(dòng)元器件，特別是MLCC的主要生產(chǎn)基地，隨著集成電路的線寬越來(lái)越窄，對(duì)材料提出了更高的需求，足以支撐集成電路技術(shù)指標(biāo)的躍升。基等合金。

銅銀合金靶材,銅鋁合金靶材,銅鎳合金靶材

地區(qū)：廣東 廣州 花都區(qū)
網(wǎng)址: http://UVTMCOM.glass.com.cn

產(chǎn)品屬性：
計(jì)量單位：套 供貨總量：9999 最小起訂量：1 產(chǎn)品單價(jià)：3100.00 品牌： 規(guī)格型號(hào)： 包裝說(shuō)明：