靶材，特別是高純度濺射靶材應用于電子元器件制造的物理-氣相沉積工藝（PVD）、太陽能電池等表面電子薄膜的關鍵材料。所謂濺射，是制備薄膜材料的主要技術，也是PVD的一種。它通過在PVD設備中用離子對目標物進行轟擊，使得靶材中的金屬原子以一定能量逸出，從而在晶圓表面沉積，濺鍍形成金屬薄膜，其中被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料,稱為濺射靶材。

薄膜太陽能電池比傳統的晶體硅太陽能電池具有更加廣闊的市場空間。大部分國家光伏累計裝機容量不斷增長,給太陽能電池用濺射靶材市場帶來了較大的成長空間。高純?yōu)R射靶材是典型的技術密集型產業(yè),產品技術含量高,研發(fā)生產設備專用性強。大部分國家靶材市場主要由日美公司所掌控,市場集中度較高。日礦金屬是大部分國家的靶材供應商，靶材銷售額約占大部分國家市場的30%，霍尼韋爾在并購JohnsonMattey、整合高純鋁、鈦等原材料生產廠后，占到大部分國家市約20%的份額，此外，東曹和普萊克斯分別占20%和10%。對靶材用量較大的行業(yè)主要有半導體集成電路、平板顯示器、太陽能電池、磁記錄介質、光學器件等（這些就是按應用分類的）。其中，高純度濺射靶材主要用于對材料純度、穩(wěn)定性要求更高的領域。

近年，冷噴涂作為一種新型噴涂工藝被用在金屬表面制備高質量的金屬涂層。熱噴涂就是把某種材料經加熱加速噴射到工件的表面上形成涂層，以獲得某種需要性能的材料表面改性與強化技術。早發(fā)展的是熱噴涂技術。的要求不斷提高，需要在保證噴涂材料高速噴射、致密沉積、良好結合的同時盡量降低加熱溫度。薄膜材料在半導體集成電路（VLSI）、光碟、平面顯示器以及工件的表面涂層等方面都得到了廣泛的應用。利用冷噴涂技術生產金屬合金靶材，可大大提高防護壽命，物膜，能有效阻止腐蝕介質向內部滲透，并保持較低的腐蝕速率。冷噴涂技術制備的涂層具有氧化物含量低、涂層熱應力小、硬度高、結合強度好。鋯靶材鋯管靶鋯靶材價格氧化鋯靶材（UVTM）詳細介紹廣州尤特是一家專業(yè)從事高純鋯金屬靶材及氧化鋯陶瓷靶材研發(fā)、生產、銷售的高新技術企業(yè)。光學鍍膜、等離子切割、非晶材料及硬質合金等領域。

平板顯示靶材技術要求也很高，它要求材料高純度、面積大、均勻性程度高。鋁、銅、鉬、鉻等，主要應用于薄膜太陽能電池，太陽能靶材技術要求高、應用范圍大。信息存儲靶材的原材料有鉻基、鈷基合金等，用于光驅、光盤、機械硬盤、磁帶等。信息存儲靶材具備高存儲密度、高傳輸速度等特性。濺射靶材種類繁多，就ITO導電玻璃中使用硅靶.鋁靶.鈮靶等三種以上。根據應用領域的不同，靶材的材料、形狀也會有所差異。根據形狀可分為長(正)方體形、圓柱體形、無規(guī)則形以及實心、空心靶材。柱形磁控測射靶的優(yōu)點是結構緊湊，靶材利用率較平面矩形靶高。指甲蓋大小的芯片上密布著上萬米金屬導線，這些密布的電路必須要對高純度的金屬靶材通過濺射的方式形成。

是制備薄膜材料的主要技術，也是PVD的一種。它通過在PVD設備中用離子對目標物進行轟擊，使得靶材中的金屬原子以一定能量逸出，從而在晶圓表面沉積，濺鍍形成金屬薄膜，其中被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料。稱為濺射靶材。氮化物是在電子和光電子應用方面有較大潛力的新型半導體材料,它在室溫下具有高電子遷移率和良好導電性的優(yōu)勢。是目前大部分國家半導體研究的****和熱點，是研制微電子器件、光電子器件的新型半導體材料。它具有寬的直接帶隙、強的原子鍵、高的熱導率、化學穩(wěn)定性好(幾乎不被任何酸腐蝕)等性質和強的抗輻照能力。顯示行業(yè)主要在顯示面板和觸控屏面板兩個產品生產環(huán)節(jié)需要使用靶材濺射鍍膜。用于高清電視、筆記本電腦等。

主要產品：磁控濺射靶材，分為陶瓷靶材、金屬靶材、合金靶材。應用領域：應用于平面顯示工業(yè)、薄膜太陽能工業(yè)、半導體鍍膜工業(yè)、建筑/汽車玻璃工業(yè)和裝飾/功能鍍膜工業(yè)。采用氧化鋯和氧化釔（穩(wěn)定劑）粉料為原料，其重量份配比：300目氧化鋯100份，1400目氧化鋯90～110份，穩(wěn)定劑30～50份。所述穩(wěn)定劑為氧化釔或氧化鈰，或者，采用復合穩(wěn)定劑，即氧化釔添加適量氧化鈰（占氧化釔重量1～10%），或氧化鈰添加適量氧化釔（占氧化鈰重量1～8%）。并將上述原料混合均勻，獲得混合配料。鎳鉻靶材。靶材，特別是高純度濺射靶材應用于電子元器件制造的物理-氣相沉積工藝（PVD）、太陽能電池等表面電子薄膜的關鍵材料。所謂濺射。

主營產品：濺射靶材,鍍膜靶材,金屬靶材,旋轉靶材,平面靶材,噴涂靶材,靶材,UV玻璃油墨 公司成立年份：2003
公司網址：http://UVTMCOM.glass.com.cn

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