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高純銅靶,銅靶材源頭廠家,銅合金靶材,銅靶材價格
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2700.00元/套
供應(yīng)標(biāo)題:高純銅靶,銅靶材源頭廠家,銅合金靶材,銅靶材價格
價格:電儀
發(fā)布公司:廣州市尤特新材料有限公司
供貨總量:9999
聯(lián)系人:楊永添
發(fā)貨地點:廣東 廣州 花都區(qū)
發(fā)布時間:2024年08月23日
有效期至:2024年10月22日
在線詢盤:在線詢盤
產(chǎn)品綜合信息質(zhì)量:未計算
基本信息
在靶材領(lǐng)域,日本的日礦金屬、霍尼韋爾、東曹、普萊克斯占據(jù)了大部分市場。相比之下,甚至是整個韓國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈在半導(dǎo)體材料方面幾無建樹,而且導(dǎo)致了對于日本半導(dǎo)體材料的高度依賴。去年日韓貿(mào)易戰(zhàn)中,日本列入限制出口名單的高純度材料,其主要用途為半導(dǎo)體的濕式刻蝕。盡管全世界各大廠生產(chǎn)的材料幾乎都能99.99%的純度,但卻唯有日本廠商的材料能將純度達(dá)到99.999%。濺射工藝屬于物理氣相沉積(PVD)技術(shù)的一種,是制備電子薄膜材料的主要技術(shù)之一。在電子信息產(chǎn)業(yè)的發(fā)展過程中,金屬薄膜的制備十分重要。濺射工藝?yán)秒x子源產(chǎn)生的離子,在真空中加速聚集成高速離子流,轟擊固體表面,離子和固體表面的原子發(fā)生動能交換,使固體表面的原子離開靶材并沉積在基材表面,從而形成納米(或微米)薄膜。被轟擊的固體是濺射法沉積薄膜的原材料,稱為濺射靶材。靶材質(zhì)量的好壞對薄膜的性能起著至關(guān)重要的決定作用,因此,靶材是濺射過程的關(guān)鍵材料。ito靶。
ITO靶材成形的工藝有冷靜壓成。ITO/Si異質(zhì)結(jié)光電器件與p-n結(jié)光電池比較具有工藝簡單,轉(zhuǎn)換效率高等特點。在靶材制造的過程中,需要經(jīng)歷粉末冶煉、粉末混合、壓制成型、氣氛燒結(jié)、塑性加工、熱處理、超聲探傷、機(jī)械加工、水切割、機(jī)械加工、金屬化、綁定、超聲、超聲清洗、檢驗出貨。ITO有著多種功用,首先ITO為高帶隙材料,可用作光電池的光入射窗口,又可作為收集光電流的電極,在基底半導(dǎo)體Si上形成勢壘作為SIS結(jié)的一層以及抗反射層。銦是中國在儲量上占據(jù)優(yōu)勢的資源。磁控濺射一般分為二種:直流濺射和射頻濺射。其中直流濺射設(shè)備原理簡單,在濺射金屬時,其速率也快。而射頻濺射的使用范圍更為廣泛。除可濺射導(dǎo)電材料外。也可濺射非導(dǎo)電的材料,同時還可進(jìn)行反應(yīng)濺射制備氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。靶材。ito話。
控濺射靶材廣泛應(yīng)用于用于建筑/汽車玻璃工業(yè)、薄膜太陽能工業(yè)、平面顯示工業(yè)、裝飾/功能鍍膜工業(yè)。隨著國內(nèi)靶材行業(yè)研發(fā)的投入和發(fā)展,國內(nèi)已有靶材供應(yīng)商、制造商的生產(chǎn)出來的靶材達(dá)到了***的水平。在廣州,尤特新材料成為大部分國家大部分國家個研制長、厚旋轉(zhuǎn)靶材的制造商,隨著研發(fā)的持續(xù)投入,國內(nèi)靶材行業(yè)的未來值得期待。提高生產(chǎn)線換靶效率新型陰極靶結(jié)構(gòu)透明導(dǎo)電氧化物(TCO)薄膜因其導(dǎo)電性和透光性兼顧的特性。被廣泛應(yīng)用于光學(xué)、電子、信息等技術(shù)領(lǐng)域.?靶材的優(yōu)劣對TCO薄膜的品質(zhì)有重要的影響,相關(guān)人士建議選擇靶材時請選擇尤特新材料靶材。新材料,促環(huán)保,美生活。TCO薄膜制備的方式ZnO陶瓷靶材AZO靶材金屬鈮靶材。
目前制備薄膜電池較為常用的濺射靶材包括鋁靶、銅靶、鉬靶、鉻靶以及ITO靶、AZO靶(氧化鋁鋅)等,HIT電池主要使用ITO靶材作為其透明導(dǎo)電薄膜。靶材也逐步向國產(chǎn)化方向努力;設(shè)備***替代降低投資成本。隨著消費者對大尺寸電視及智能手機(jī)需求的增長,平板顯示器尺寸迅速加大,推動平板顯示器行業(yè)規(guī)模不斷加大,市場規(guī)模增速達(dá)到20%。硬盤容量快速增長帶動帶動上游靶材需求增長。未來幾年HDD的出貨總?cè)萘恳廊粫3衷鲩L態(tài)勢,長率達(dá)到18%。受機(jī)械硬盤出貨容量增長的帶動,記錄媒體靶材需求穩(wěn)定增長。薄膜太陽能電池效率存在提升空間,靶材需求。硅電池的效率已經(jīng)接近其理論值,而薄膜太陽能電池的效率在逐年提高。據(jù)預(yù)測,年會呈現(xiàn)逐年遞增的趨勢,并于2023年打破395億美元大關(guān)。平板顯示靶材需求增加。目前,UVTM已掌握了銅、鋁等濺射靶材原材料提純的核心技術(shù)。
通過改變靶材的濺鍍面形狀及厚度,來調(diào)整靶材與基材之間的磁場,使電壓平穩(wěn),從而使靶材的預(yù)濺鍍縮短,提高了靶材的使用率,薄膜質(zhì)量提高。高真空鍍膜機(jī)一般由以下幾部分組成:真空系統(tǒng)、高真空鍍膜工作室、電氣控制與安全保護(hù)系統(tǒng)。采用電阻加熱,可加熱蒸發(fā)各種非難熔的金屬與非金屬材料。電極用橡膠圈與真空室底版密封,為了防止在加熱時電極過熱致使密封,對電極通水冷卻。電阻加熱元件采用高熔點的金屬鉬片制成舟狀,機(jī)械泵:機(jī)械泵是利用機(jī)械方法來獲得低真空的主要設(shè)備,也是高真空機(jī)組的前級泵。機(jī)械泵主要有圓柱形定子、偏心轉(zhuǎn)子和滑動翼片組成。機(jī)械泵不宜用于抽蒸汽;轉(zhuǎn)動方向必須是順時針方向;停止工作后要防止“返油”,故在抽氣口裝有電磁閥。擴(kuò)散泵:當(dāng)機(jī)械泵的極限真空不能滿足工作要求時,通常采用油擴(kuò)散真空泵來獲得高真空。
綜合優(yōu)勢顯著。濺射薄膜制備的源頭材料,又稱濺射靶材。PVD鍍膜目前主要有三種形式,分別是濺射鍍膜、蒸發(fā)鍍膜以及離子鍍膜。綜合而言,蒸鍍薄膜的密度較差,只能達(dá)到理論密度的95%,鍍膜的附著力也較差,但是蒸鍍的鍍膜速率較快。離子鍍不但密度較高、晶粒較小,而且鍍膜與基板的附著力也是三種鍍膜中較大的,只是離子鍍膜較大的缺點是基板必需是導(dǎo)電材料,并且鍍膜時基板的溫度會升高到攝氏幾百度,上述的缺點使離子鍍的應(yīng)用受到很大的限制。目前,濺射是制備薄膜材料的主要技術(shù)之一,用濺射靶材沉積的薄膜致密度高,與基材之間的附著性好,所以從理論而言,濺射鍍膜的性質(zhì),牢固度都比熱蒸發(fā)和電子束蒸發(fā)薄膜好。產(chǎn)品包括金屬靶材(釕、金、銀、銠、銥、合金)、金屬靶材、陶瓷/氧化物靶材公司擁有雄厚的技術(shù)力量、現(xiàn)代化的準(zhǔn)確設(shè)備和先進(jìn)的檢測手段。
廣州市尤特新材料有限公司基本信息
公司網(wǎng)址:http://UVTMCOM.glass.com.cn
聯(lián)系人:楊永添
電話:86-020-22968888-115
移動電話:18026253787
傳真:86-020-22968899-
地址:廣州市花都區(qū)花山鎮(zhèn)華僑科技工業(yè)園華輝路4號
網(wǎng)址:http://UVTMCOM.glass.com.cn
產(chǎn)品屬性:
計量單位:套 供貨總量:9999 最小起訂量:1 產(chǎn)品單價:2700.00 品牌: 規(guī)格型號: 包裝說明: