半導體材料可以分為晶圓材料和封裝材料，封裝材料相較于晶圓制造材料來說技術壁壘相對較低，所以我們主要講的是晶圓制造材料。半導體材料市場占比在3%左右的濺射靶材。簡單地說，靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料，通過更換不同的靶材（如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等），即可得到不同的膜系（如超硬、耐磨、防腐的合金膜等）�？萍既請螅篒TO靶材是35項卡脖子技術之一。2018年，尤特成立ITO靶材部，目前已量產(chǎn)達到國際水平的ITO靶材，打破國外對ITO靶材的壟斷，為客戶提供磁控濺射鍍膜行業(yè)全棧式服務。

國內(nèi)濺射靶材制造水平達到先進水平，但規(guī)模和體量尚小，目前處于快速成長階段。濺射靶材行業(yè)在我國起步較晚，目前仍然屬于一個較新的行業(yè)。近年來，隨著下游產(chǎn)業(yè)向轉移，國產(chǎn)靶材已開始實現(xiàn)打破。預計2022年大部分國家顯示面板整體規(guī)模將超1300億美元，LCD面板占比約70%。中小尺寸OLED滲透率快速提升，大尺寸LCD占據(jù)主流。顯示面板是靶材下游較大的應用領域。平板顯示行業(yè)主要在液晶顯示面板（LCD）和觸控屏面板兩個產(chǎn)品生產(chǎn)環(huán)節(jié)使用靶材。隨著顯示屏玻璃基板以及一些設備顯示屏的尺寸逐漸加大，顯示面板用靶材的需求也不斷加大。到2023年，國內(nèi)顯示面板用靶材市場規(guī)模有望達到246億元，占大部分國家比例達到46%。光伏靶材的主要需求來自薄膜光伏電池和異質結（HIT）電池市場規(guī)模的擴張。

太陽能電池主要包括晶體硅太陽能電池和薄膜太陽能電池， PVD 工藝主要應用于薄膜太陽能電池中。晶體硅太陽能電池效率較高、性能穩(wěn)定，且各個產(chǎn)業(yè)環(huán)節(jié)比較成熟，占據(jù)了太陽能電池市場的地位。與晶體硅太陽能電池相比，薄膜太陽能電池材料用量大大減少，從而大幅降低了制造成本和產(chǎn)品價格，同時，薄膜太陽能電池還具有制造溫度低、應用范圍大等特點。21 世紀以來，光伏產(chǎn)業(yè)迅速發(fā)展。近年來，隨著國家對環(huán)境保護、節(jié)能減排方面的重視，我國太陽能光伏產(chǎn)業(yè)在太陽能光伏產(chǎn)業(yè)發(fā)展的帶動下飛速發(fā)展。太陽能光伏產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展也給太陽能電池用濺射靶材市場帶來了巨大的成長空間， 2015 年太陽能電池用濺射靶材市場規(guī)模達 18.5 億美元，比 2014 年增長 21.7%。目前國內(nèi)太陽能電池主要以硅片涂覆型太陽能電池為主，薄膜電池的產(chǎn)量較小，因此濺射靶材市場規(guī)模仍較小， 2015 年為 7.5 億元。太陽能電池行業(yè)仍然處于產(chǎn)業(yè)上升階段，隨著國內(nèi)薄膜電池生產(chǎn)線的投產(chǎn)，我國太陽能電池用濺射靶材市場將持續(xù)增長。管材。

光伏領域對靶材的使用主要是薄膜電池和HIT光伏電池。其中光伏薄膜電池用靶材主要為方形板狀，純度要求一般在99.99%（4N）以上，僅次于半導體用靶材。目前制備薄膜電池較為常用的濺射靶材包括鋁靶、銅靶、鉬靶、鉻靶以及ITO靶、AZO靶(氧化鋁鋅)等，HIT電池主要使用ITO靶材作為其透明導電薄膜。為了有效地降低磁控濺射的電壓，以達到降低ITO薄膜電阻率的目的，可以采用一套特殊的濺射陰極結構和濺射直流電源，射頻電源合理地匹配疊裝在一套6KW的直流電源上，在不同的直流濺射功率和射頻功率下進行降低ITO薄膜濺射電壓的工藝研究。RF DC新型電源的應用和特殊濺射陰極結構的設計也能有效的降低ITO薄膜的濺射電壓。由于高能量電弧離子的作用導致ITO粒子中的In、Sn達到完全離化，從而增強沉積時的反應活性，達到減少晶體結構缺陷，電阻率的目的。材。

在安裝過程中不易變形，降低安裝難度，提高合格率。靶材按材料種類型分，可分為金屬靶材、合金靶材、化合物靶材。不同的靶材（如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等），即可得到不同的膜系（如超硬、耐磨、防腐的合金膜等）。氧化物薄膜材料在液晶面板、觸摸屏、薄膜太陽能電池、發(fā)光二極管等產(chǎn)業(yè)上獲得了廣泛應用。目前國內(nèi)氧化物薄膜材料的制備方法和技術有很多，其中主要的方法有脈沖激光沉積、磁控濺射、電子束蒸發(fā)、分子束外延等物理方法。由于磁控濺射鐵磁性靶材的難點是靶材表面的磁場達不到正常磁控濺射時要求的磁場強度，因此解決的思路是增加鐵磁性靶材表面剩磁的強度，將鐵磁性靶材的厚度減薄是解決磁控濺射鐵磁材料靶材的常見方法。如果鐵磁性靶材足夠薄。

芯片制造設備，半導體材料對于芯片產(chǎn)業(yè)的重要性也是不言而喻。半導體材料可以分為晶圓材料和封裝材料,中國的半導體行業(yè)正處于成長關鍵期，材料和技術仍依賴***，受到國際市場影響，圍繞半導體行業(yè)的焦慮在持續(xù)蔓延。2018年大部分國家半導體規(guī)模增速達12.4%。特別是存儲器市場。增速高達61.49%。一方面，存儲芯片需求旺盛，價格大幅上漲，另一方面，物聯(lián)網(wǎng)、汽車電子、AI等新應用拉動下游需求。半導體材料主要分為晶圓制造材料和封裝材料，料包括硅片（37%）、光刻膠、光刻膠配套試劑、濕電子化學品、電子氣體、P拋光材料、以及靶材等；、引線框架、樹脂、鍵合絲、錫球、以及電鍍液等。在芯片制造設備領域。美國、日本、荷蘭依然占主要地位。國內(nèi)的芯片制造與韓國和歐洲的企業(yè)相比都相距甚遠。

而射頻濺射的使用范圍更為廣泛。除可濺射導電材料外。也可濺射非導電的材料，同時還可進行反應濺射制備氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料�，F(xiàn)在很多廠家對于真空鍍膜設備的維護保養(yǎng)都不是很清楚。真空鍍膜設備每完成200個鍍膜程序以上，應清潔工作室一次。方法是：用****(NaOH)飽和溶液反復擦洗真空室內(nèi)壁，(注意人體外表不可以直接接觸****溶液，以免灼傷)目的是使鍍上去的膜料鋁(AL)與NaOH發(fā)生反應，反應后膜層脫落，并釋放出氫氣。再用清水清洗真空室和用布沾汽油清洗精抽閥內(nèi)的污垢。當粗抽泵(滑閥泵，旋片泵)連續(xù)工作一個月(雨季減半)，需更變新油。方法是：擰開放油螺栓，放掉舊油，再將泵啟動數(shù)秒，使泵內(nèi)的舊油完全排放出來。

尤其適用于和氧化物靶材。真空蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)一般由三個部分組成:真空室、蒸發(fā)源或蒸發(fā)加熱裝置、放置基板及給基板加熱裝置。在真空中為了蒸發(fā)待沉積的材料，需要容器來支撐或盛裝蒸發(fā)物，同時需要提供蒸發(fā)熱使蒸發(fā)物達到足夠高的溫度以產(chǎn)生所需的蒸汽壓。圖：真空蒸發(fā)鍍膜工作原理示意圖真空蒸發(fā)鍍膜技術具有簡單便利、操作方便、成膜速度快等特點，是應用廣泛的鍍膜技術，主要應用于光學元器件、LED、平板顯示和半導體分立器的鍍膜。光學器件應用范圍非常廣泛，主要包括智能手機、車載鏡頭、安防監(jiān)控設備、數(shù)碼相機、光碟機、投影機等，元器件及光學鏡頭。我國濺射靶材研發(fā)生產(chǎn)技術還存在一定差距，市場影響力相對有限，尤其在半導體芯片、平板顯示器、太陽能電池等領域。噴涂話。

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