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錳鈷靶材,錳鈷合金靶材,錳靶材,鈷靶材
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1
2990.00元/套
供應(yīng)標(biāo)題:錳鈷靶材,錳鈷合金靶材,錳靶材,鈷靶材
價(jià)格:電儀
發(fā)布公司:廣州市尤特新材料有限公司
供貨總量:9999
聯(lián)系人:楊永添
發(fā)貨地點(diǎn):廣東 廣州 花都區(qū)
發(fā)布時(shí)間:2024年09月02日
有效期至:2024年11月01日
在線詢盤:在線詢盤
產(chǎn)品綜合信息質(zhì)量:未計(jì)算
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基本信息
在將金屬提純到相當(dāng)高的純度后,往往還需配比其他金屬元素才能投入使用,在這個(gè)過(guò)程中,需要經(jīng)過(guò)熔煉、合金化和鑄造等步驟:通過(guò)精煉高純金屬,去除氧氣、氮?dú)獾榷嘤鄽怏w;再加入少量合金元素,使其與高純金屬充分結(jié)合并均勻分布;后將其鑄造成沒有缺陷的錠材,滿足生產(chǎn)加工過(guò)程中對(duì)金屬成份、尺寸大小的要求。需要將化學(xué)提純和物理提純結(jié)合使用。合金靶材:鐵鈷靶FeCo、鋁硅靶AlSi、鈦硅靶TiSi、鉻硅靶CrSi、鋅鋁靶ZnAl、鈦鋅靶材TiZn、鈦鋁靶TiAl、鈦鋯靶TiZr、鈦硅靶TiSi、鈦鎳靶TiNi、鎳鉻靶NiCr、鎳鋁靶NiAl、鎳釩靶NiV、鎳鐵靶NiFe等。陶瓷靶材ITO靶、氧化鎂靶、氧化鐵靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化鈦靶、氧化鉻靶、氧化鋅靶、硫化鋅靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化鈰靶、二氧化鋯靶、五氧化二鈮靶、二氧化鈦靶、二氧化鋯靶。
大部分國(guó)家靶材市場(chǎng)空間持續(xù)擴(kuò)大,面板應(yīng)用是國(guó)產(chǎn)替代賽道。20世紀(jì)90年代以來(lái),隨著消費(fèi)電子等終端應(yīng)用市場(chǎng)的飛速發(fā)展。繼TCL科技旗下華星光電20億元入股日本面板企業(yè)JOLED,布局噴墨印刷OLED領(lǐng)域之后。TCL科技或?qū)⒊鲑Y100億拿下中電熊貓。中國(guó)電子計(jì)劃出售中電熊貓三條液晶面板產(chǎn)線的股份,京東方出價(jià)60億元-70億元,而TCL科技愿意以100億元左右收購(gòu)中電熊貓,中國(guó)電子選擇出價(jià)更高的TCL科技。
而且上下游供應(yīng)鏈維持良好,ITO導(dǎo)電膜產(chǎn)業(yè)處于大部分國(guó)家的領(lǐng)導(dǎo)地位。2008年大部分國(guó)家ITO導(dǎo)電膜產(chǎn)品供不應(yīng)求,隨著市場(chǎng)需求的逐步擴(kuò)大,及行業(yè)技術(shù)的逐漸發(fā)展,韓國(guó)企業(yè)陸續(xù)進(jìn)入,包括韓國(guó)LG化學(xué),SKC等企業(yè)。具備一定技術(shù)實(shí)力的中國(guó)地區(qū)企業(yè)。大陸企業(yè)也紛紛進(jìn)入這一行業(yè)。在靶材應(yīng)用領(lǐng)域中,半導(dǎo)體芯片對(duì)靶材的金屬材料純度、內(nèi)部微觀結(jié)構(gòu)等方面都設(shè)定了極其苛刻的標(biāo)準(zhǔn),需要掌握生產(chǎn)過(guò)程中的關(guān)鍵技術(shù)并經(jīng)過(guò)長(zhǎng)期實(shí)踐才能制成符合工藝要求的產(chǎn)品。因此,半導(dǎo)體芯片對(duì)靶材的要求是比較高的,一般要求靶材的純度要在99.999%以上,價(jià)格也昂貴。中國(guó)超過(guò)韓國(guó)成為大部分國(guó)家大的LCD生產(chǎn)大國(guó);2019年,韓國(guó)宣布繼續(xù)減少LCD產(chǎn)能轉(zhuǎn)戰(zhàn)OLED市場(chǎng),中國(guó)持續(xù)布局OLED、LCD顯示器、導(dǎo)電玻璃以及太陽(yáng)能電池等。
ITO靶材成形的工藝有冷靜壓成。ITO/Si異質(zhì)結(jié)光電器件與p-n結(jié)光電池比較具有工藝簡(jiǎn)單,轉(zhuǎn)換效率高等特點(diǎn)。在靶材制造的過(guò)程中,需要經(jīng)歷粉末冶煉、粉末混合、壓制成型、氣氛燒結(jié)、塑性加工、熱處理、超聲探傷、機(jī)械加工、水切割、機(jī)械加工、金屬化、綁定、超聲、超聲清洗、檢驗(yàn)出貨。ITO有著多種功用,首先ITO為高帶隙材料,可用作光電池的光入射窗口,又可作為收集光電流的電極,在基底半導(dǎo)體Si上形成勢(shì)壘作為SIS結(jié)的一層以及抗反射層。銦是中國(guó)在儲(chǔ)量上占據(jù)優(yōu)勢(shì)的資源。磁控濺射一般分為二種:直流濺射和射頻濺射。其中直流濺射設(shè)備原理簡(jiǎn)單,在濺射金屬時(shí),其速率也快。而射頻濺射的使用范圍更為廣泛。除可濺射導(dǎo)電材料外。旋轉(zhuǎn)靶材。
WSTS預(yù)計(jì),2018年大部分國(guó)家半導(dǎo)體規(guī)模增速達(dá)12.4%。2010~2016年,大部分國(guó)家半導(dǎo)體銷售額保持平穩(wěn)發(fā)展,而2017年大部分國(guó)家市場(chǎng)增速超預(yù)期,達(dá)21.62%,特別是存儲(chǔ)器市場(chǎng),增速高達(dá)61.49%。一方面,存儲(chǔ)芯片需求旺盛,產(chǎn)品價(jià)格大幅上漲,另一方面,物聯(lián)網(wǎng)、汽車電子、AI等新應(yīng)用拉動(dòng)下游需求,WSTS 預(yù)計(jì),在AI、智能駕駛、5G、VR/AR等需求持續(xù)帶動(dòng)下,2018年大部分國(guó)家半導(dǎo)體行業(yè)將實(shí)現(xiàn)12.4%的增速,2019年的增速預(yù)估為4.4%。
主要用于五金裝飾的耐磨、耐腐蝕硬膜,LOW-E鍍膜玻璃,半導(dǎo)體電子加工尺寸:長(zhǎng)度:4000MM厚度:6-10MM,直型、狗骨型,對(duì)于貨品靶材,若剩余下的高純殘靶若以普通廢料進(jìn)行處理,將會(huì)是對(duì)稀貴材料的較大浪費(fèi);同時(shí),靶材從原材料到加工成成品,成材率一般只有40%-80%,大量的余料和殘屑需要更新循環(huán)利用。對(duì)于貨品靶材,由于材料價(jià)格昂貴,迫切需要對(duì)加工過(guò)程的余料殘屑的提純?cè)倮眉皩?duì)殘進(jìn)行回收加工增值服務(wù),有效增加材料利用效率和節(jié)約資源。對(duì)于貨品余料殘屑及殘的處理可為機(jī)械物理法回收和化學(xué)精煉提純回收。機(jī)械物理法可應(yīng)用于單質(zhì)金屬殘靶及加工廢料。通過(guò)機(jī)械切削對(duì)單質(zhì)殘表面進(jìn)行處理,然后采用酸洗去除表面殘留雜質(zhì)的方法對(duì)殘祀回收再利用。金屬鈮靶材。
硅的原子結(jié)構(gòu)決定了硅原子具有一定的導(dǎo)電性,但由于硅晶體中沒有明顯的自由電子,因此導(dǎo)電率不及金屬,且隨溫度升高而增加,因而具有半導(dǎo)體性質(zhì)。微電子領(lǐng)域?qū)Π胁臑R射薄膜的品質(zhì)和電阻要求是相當(dāng)苛刻的。硅片制造商對(duì)靶材的要求是大尺寸、高純度、低偏析和細(xì)晶粒,這就要求所制造的靶材具有更好的微觀結(jié)構(gòu)。電阻率是硅靶材產(chǎn)品的重要參數(shù)之一,除特殊用途外,絕大多數(shù)硅靶材電阻率要求越低越好,開始應(yīng)用時(shí)電阻率要求在0.1-0.5Ω·cm范圍內(nèi),逐漸降低至小于0.1Ω·cm,目前標(biāo)準(zhǔn)電阻率為0.02-0.04Ω·cm。為克服現(xiàn)有技術(shù)的不足,UVTM的研發(fā)人員開發(fā)了一種超低阻硅靶材,在硅材料中摻入處理過(guò)的高硼含量母合金,使硅靶材的電阻率小于0.01Ω·cm。噴涂網(wǎng)。
在芯片制造設(shè)備領(lǐng)域。美國(guó)、日本、荷蘭依然占主要地位。國(guó)內(nèi)的芯片制造與韓國(guó)和歐洲的企業(yè)相比都相距甚遠(yuǎn)。芯片制造設(shè)備,半導(dǎo)體材料對(duì)于芯片產(chǎn)業(yè)的重要性也是不言而喻。半導(dǎo)體材料可以分為晶圓材料和封裝材料,中國(guó)的半導(dǎo)體行業(yè)正處于成長(zhǎng)關(guān)鍵期,材料和技術(shù)仍依賴***,受到國(guó)際市場(chǎng)影響,圍繞半導(dǎo)體行業(yè)的焦慮在持續(xù)蔓延。特別是存儲(chǔ)器市場(chǎng)。增速高達(dá)61.49%。一方面,存儲(chǔ)芯片需求旺盛,價(jià)格大幅上漲,另一方面,物聯(lián)網(wǎng)、汽車電子、AI等新應(yīng)用拉動(dòng)下游需求。半導(dǎo)體材料主要分為晶圓制造材料和封裝材料,料包括硅片(37%)、光刻膠、光刻膠配套試劑、濕電子化學(xué)品、電子氣體、P拋光材料、以及靶材等;、引線框架、樹脂、鍵合絲、錫球、以及電鍍液等。
半導(dǎo)體領(lǐng)域?qū)Π胁牡囊蠓浅8,?duì)濺射靶材的金屬材料純度、內(nèi)部微觀結(jié)構(gòu)等方面都設(shè)定了極其苛刻的標(biāo)準(zhǔn),需要掌握生產(chǎn)過(guò)程中的關(guān)鍵技術(shù)并經(jīng)過(guò)長(zhǎng)期實(shí)踐才能制成符合工藝要求的產(chǎn)品,因而有實(shí)力產(chǎn)出高純電子級(jí)靶材的企業(yè)與公司并不得多,也使得電子級(jí)靶材價(jià)格較為昂貴。過(guò)去,半導(dǎo)體靶材這種高精尖的材料制造工藝一般是掌握在如住友化學(xué)、霍尼韋爾等美、日企業(yè)手上,整個(gè)行業(yè)呈現(xiàn)出寡頭壟斷的格局。這些企業(yè)在掌握濺射靶材生產(chǎn)的核心技術(shù)以后,實(shí)施極其嚴(yán)格的保密措施,限制技術(shù)擴(kuò)散,同時(shí)不斷進(jìn)行橫向擴(kuò)張和垂直整合,將業(yè)務(wù)觸角積極擴(kuò)展到濺射鍍膜的各個(gè)應(yīng)用領(lǐng)域。牢牢把握著大部分國(guó)家濺射靶材市場(chǎng)的主動(dòng)權(quán)。
廣州市尤特新材料有限公司基本信息
員工人數(shù):200-500人 廠房面積: 年?duì)I業(yè)額:
年進(jìn)口額: 年出口額: 主要市場(chǎng):
客戶群:
公司名稱:廣州市尤特新材料有限公司
注冊(cè)資本:人民幣2000萬(wàn)元/年-人民幣5000萬(wàn)元/年 公司網(wǎng)址:http://UVTMCOM.glass.com.cn主營(yíng)產(chǎn)品:濺射靶材,鍍膜靶材,金屬靶材,旋轉(zhuǎn)靶材,平面靶材,噴涂靶材,靶材,UV玻璃油墨 公司成立年份:2003
公司網(wǎng)址:http://UVTMCOM.glass.com.cn
產(chǎn)品屬性:
計(jì)量單位:套 供貨總量:9999 最小起訂量:1 產(chǎn)品單價(jià):2990.00 品牌: 規(guī)格型號(hào): 包裝說(shuō)明: