高純鋯靶,高純鋯靶,鋯靶材源

? ? ? 目前大部分國(guó)家高等靶材市場(chǎng)主要分布于韓國(guó)、、中國(guó)、日本，中國(guó)有超過(guò)20家靶材生產(chǎn)企業(yè)，依靠國(guó)內(nèi)的巨大市場(chǎng)潛力和利好的產(chǎn)業(yè)政策，以及產(chǎn)品價(jià)格優(yōu)勢(shì)，國(guó)內(nèi)的靶材制造商已經(jīng)在國(guó)內(nèi)市場(chǎng)占有一定的市場(chǎng)份額，并逐步在個(gè)別細(xì)分領(lǐng)域搶占了部分國(guó)際大廠的市場(chǎng)空間。UVTM擁有多年開(kāi)發(fā)和工作經(jīng)驗(yàn)的納米材料，并擁有冷噴涂技術(shù)生產(chǎn)金屬合金靶材，其制備的靶材Sn和O含量均略低于國(guó)產(chǎn)靶材。UVTM還是靶材綁定方面的

2024-08-14 面議/套

鉭靶材,鉭靶材用途,鉭靶材綁

? ? ? 未來(lái)HIT和薄膜電池增長(zhǎng)潛力很大。由于HJT電池的工藝要求較高，因此ITO濺射靶材的比例和純度非常重要。什么是高純?yōu)R射靶材？就是利用各種高純單質(zhì)貨品及新型化合物制得的功能薄膜為（簡(jiǎn)單理解就是純度更高），主要用于對(duì)材料純度、穩(wěn)定性要求更高的領(lǐng)域，像集成電路、平板顯示器、太陽(yáng)能電池、記錄媒體、智能玻璃等行業(yè)。在濺射靶材應(yīng)用領(lǐng)域中，半導(dǎo)體芯片對(duì)濺射靶材的要求是比較高的，要求靶材純度很高，一般

2024-08-14 面議/套

低阻硅靶材,低阻硅管靶,高純

? ? ? 離子束濺射又稱離子束沉積，是在離子束技術(shù)基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的新的成膜技術(shù)，特點(diǎn)在高真空下，利用離子束濺射鍍膜，是非等離子體狀態(tài)下的成膜過(guò)程。靶接地電位也可，丕可以進(jìn)行反應(yīng)離子束濺射。雖然這種鍍膜技術(shù)所設(shè)計(jì)到現(xiàn)象比較復(fù)雜，但通過(guò)核實(shí)的選擇靶材及例子能量、種類等，可以比較容易地制取各種不同的金屬、氧化物、氮化物及其他化合物等薄膜，特別適合制作多組元金屬氧化物薄膜。目前這一技術(shù)已在磁性材料、超導(dǎo)

2024-08-14 面議/套

高純石墨靶材3N-6N定制,石墨

? 20 世紀(jì)90 年代以來(lái)靶材已蓬勃發(fā)展成為一個(gè)專業(yè)化產(chǎn)業(yè)，中國(guó)及亞太地區(qū)靶材的需求占有世界70%以上的市場(chǎng)份額。大量不同的沉積技術(shù)用來(lái)沉積生長(zhǎng)各種薄膜 ，而靶材是制作薄膜的關(guān)鍵，品質(zhì)的好壞對(duì)薄膜的意義重大。目前高端品質(zhì)靶材主要由:日本、德國(guó)和美國(guó)生產(chǎn)，我國(guó)靶材產(chǎn)業(yè)起步較晚，在產(chǎn)品質(zhì)量與精細(xì)標(biāo)準(zhǔn)上與國(guó)外有不少的差距，國(guó)內(nèi)也有許多大學(xué)及研究機(jī)構(gòu)對(duì)靶材積極投入了大量鉆研與開(kāi)發(fā)，經(jīng)過(guò)這幾年的發(fā)展也涌現(xiàn)

2024-08-14 面議/套

高純碳靶材,高純石墨靶,石墨

? ? 磁控濺射靶材廣泛應(yīng)用于用于建筑/汽車(chē)玻璃工業(yè)、薄膜太陽(yáng)能工業(yè)、平面顯示工業(yè)、裝飾/功能鍍膜工業(yè)。隨著國(guó)內(nèi)靶材行業(yè)研發(fā)的投入和發(fā)展，國(guó)內(nèi)已有靶材供應(yīng)商、制造商的生產(chǎn)出來(lái)的靶材達(dá)到了進(jìn)口的水平。在廣州，尤特新材料成為全球全球較好個(gè)研制最長(zhǎng)、最厚旋轉(zhuǎn)靶材的制造商，隨著研發(fā)的持續(xù)投入，國(guó)內(nèi)靶材行業(yè)的未來(lái)值得期待。 ? ? 磁控濺射是一種物理氣相沉積的。濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料

2024-08-14 面議/套

ITO靶材,氧化銦錫靶材,平面I

?目前，異質(zhì)結(jié)還沒(méi)有形成規(guī)模，產(chǎn)業(yè)鏈也沒(méi)有成熟，還有一些技術(shù)問(wèn)題需要解決。但晉能認(rèn)為，異質(zhì)結(jié)降本路線圖已經(jīng)非常清晰。一是降低低溫銀漿用量;二是將運(yùn)用在平板顯示中的ITO靶材技術(shù)為光伏行業(yè)所用;三是發(fā)展“國(guó)產(chǎn)”制絨添加劑技術(shù)，降低外來(lái)進(jìn)口成本;四是按照異質(zhì)結(jié)這一技術(shù)特點(diǎn)來(lái)優(yōu)化、設(shè)計(jì)PECVD、磁控濺射設(shè)備。降本這一目標(biāo)實(shí)現(xiàn)以后，異質(zhì)結(jié)成本至少可以和單晶PERC單瓦成本持平，其效率卻比PERC高，再加

2024-08-09 面議/千克

氧化鈦靶材密度,氧化鈦靶材

氧化物陶瓷靶材屬于陶瓷產(chǎn)品，由于對(duì)純度、密度、尺寸、形狀，以及成分、結(jié)構(gòu)、均勻性等都有特殊要求，其制備南都較高。氧化物陶瓷靶材作為重要的關(guān)鍵基礎(chǔ)材料，多年來(lái)一直被靶材研究人員關(guān)注。與德國(guó)、日本等世界靶材強(qiáng)國(guó)相比，我國(guó)陶瓷靶材研究相對(duì)落后，但是近年來(lái)，隨著全球光電產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，國(guó)內(nèi)大型靶材公司加大投入，取得了很大的成果。 ? ? ? ? 陶瓷靶材結(jié)構(gòu)的發(fā)展鍍膜市場(chǎng)不僅對(duì)各種鍍膜產(chǎn)品尺寸、鍍膜品質(zhì)、生產(chǎn)

2024-08-09 面議/公斤

高純鈦靶材，噴涂鈦靶,一體

? ? 鍍膜靶材是用物理或化學(xué)的方法在靶材表面鍍層透明的電解質(zhì)膜，或鍍一層金屬膜，目的是改變靶材表面的反射和透射特性。而鍍膜的方法有真空鍍膜和光學(xué)鍍膜，真空鍍膜和光學(xué)鍍膜的區(qū)別是什么。在19世紀(jì)末，ITO薄膜的研究工作開(kāi)始真實(shí)地發(fā)展了起來(lái)，當(dāng)時(shí)是在光電導(dǎo)的材料上獲得很薄的金屬薄膜。而關(guān)于透明導(dǎo)電材料的研究進(jìn)入一個(gè)新的時(shí)期，則是在第二次世界大戰(zhàn)期間，主要應(yīng)用于飛機(jī)的除冰窗戶玻璃。而在1950年，第二

2024-08-09 面議/套

氧化鋅鋁靶材 AZO靶材

產(chǎn)品用途（Application）用于光伏TCO玻璃，建筑汽車(chē)玻璃膜系。 ? 產(chǎn)品化學(xué)成分和物理性能：(Physical and chemical properties of the product）化學(xué)式( Chemical Composition) ： ZnO.Al2O3(98:2wt%)成型工藝（Molding process）：熱壓燒結(jié)(HP)密度(Density ):>5.4g/cm3（

2024-08-09 面議/條