尤特新材料從事新材料鍍膜材料研發(fā)及大部分國(guó)家銷(xiāo)售、服務(wù)為一體,是研發(fā)各種新型材料及陶瓷材料制品的綜合性科技公司,公司以市場(chǎng)為先導(dǎo),技術(shù)為基礎(chǔ),為滿足國(guó)內(nèi)外新材料的迫切需求, 對(duì)內(nèi)進(jìn)行產(chǎn)品,結(jié)構(gòu)和生產(chǎn)工藝調(diào)整,對(duì)外緊跟市場(chǎng)動(dòng)向,不斷研發(fā)各種適用當(dāng)前需要的新型材料及制品.根據(jù)客戶的具體要求加工各類(lèi)磁控濺射靶材、鍍膜蒸鍍蒸發(fā)材料并為客戶提供技術(shù)上的服務(wù)與支持。材料種類(lèi)廣范有薄膜太陽(yáng)能電池用鍍膜材料及靶材
2024-07-15 面議/套1 靶材應(yīng)用行業(yè)分類(lèi) 1.1 裝飾、工模具鍍膜行業(yè)靶材鉻靶(Cr),平面鉻靶,噴涂鉻管; 鉻硅靶90/10Wt%,50/50at%,25/75at%(電弧,平面靶,旋轉(zhuǎn)管靶); 鈦鋁靶50/50at%,70Ti/30at%,67AL/33at%(電弧,平面靶,旋轉(zhuǎn)管靶); 鈦鋁硅靶1:1:1at%,1:2:1at%(電弧,平面靶,旋轉(zhuǎn)管靶); 鈦靶,鈦管靶,鋯靶; 金靶,玫瑰金靶; 石墨靶,鎳靶,
2024-07-15 面議/套影響ITO薄膜導(dǎo)電性能的幾個(gè)因素包括:ITO薄膜的面電阻(γ)、膜厚(d)和電阻率(ρ),這三者之間的相互關(guān)系是:γ=ρ/d,獲得不同面電阻的ITO薄膜,實(shí)際上就是要獲得不同的膜厚和電阻率。從上述公式可以看到,ITO薄膜的導(dǎo)電性要好(即面電阻值要低),電阻率一定的情況下,膜厚要增加,這樣會(huì)導(dǎo)致ITO薄膜的透光性能下降。業(yè)界一直在研發(fā)可替代ITO的材料,例如其他透明導(dǎo)電氧化物,導(dǎo)電性高分子材料,納米
2024-07-15 面議/套靶材的技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)與下游應(yīng)用產(chǎn)業(yè)的薄膜技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)息息相關(guān)。不斷研發(fā)滿足薄膜性能要求的新型靶材發(fā)展。經(jīng)過(guò)多年的科技攻關(guān)和產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用,目前國(guó)內(nèi)高純?yōu)R射靶材生產(chǎn)企業(yè)已經(jīng)逐漸打破關(guān)鍵技術(shù)門(mén)檻,打破了零的局面,生產(chǎn)能力,可以預(yù)見(jiàn)未來(lái)會(huì)達(dá)到高速發(fā)展時(shí)期。隨著消費(fèi)電子等終端應(yīng)用的飛速發(fā)展,高純度濺射靶材的市場(chǎng)銷(xiāo)售額日益擴(kuò)大。中國(guó)及亞太地區(qū)靶材的需求占有世界70%以上的市場(chǎng)份額。研究用大量不同的沉積技術(shù)用來(lái)沉積
2024-07-15 面議/套? ? 隨著市場(chǎng)需求的變化,中高端靶材成為鍍膜行業(yè)必不可缺的部分,近年國(guó)內(nèi)的靶材行業(yè)發(fā)展迅速,靶材供應(yīng)商紛紛加大研發(fā)和投入,廣東的靶材供應(yīng)商發(fā)展勢(shì)頭強(qiáng)勁,中高端的靶材制造商在廣州實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。靶材產(chǎn)品的種類(lèi)也越來(lái)越豐富 :銀(Ag)靶、Cr靶、Ti靶、鎳鉻(NiCr)靶、鋅錫(ZnSn)靶、硅鋁(SiAl)靶、氧化鈦(TixOy)靶,鎳鉻靶等。 ? ? 靶材在玻璃上的另一個(gè)重要應(yīng)用是制備汽車(chē)后視鏡,主
2024-07-15 面議/套真空鍍膜機(jī)門(mén)窗五金配件的保鏢,鋁合金在門(mén)窗中的應(yīng)用廣泛,真空鍍膜使五金配件的使用和裝飾功能達(dá)到雙重功效,F(xiàn)代建筑門(mén)窗按型材品種大致可分為:塑料窗、復(fù)合材料窗、鋁合金窗,其中鋁合金窗是如今我國(guó)主要的建筑門(mén)窗產(chǎn)品,在當(dāng)今建筑中占相當(dāng)大比重。事實(shí)上無(wú)論從抗風(fēng)壓、水密性、氣密性等性能還是從環(huán)保方面,鋁合金窗都有其優(yōu)越性。 采用新技術(shù)、新工藝、新材料是提高門(mén)窗五金配件耐腐蝕性的必由之路。國(guó)外五金生產(chǎn)商采用真
2024-07-14 面議/套UVTM是一家azo靶材出口企業(yè)。UVTM的磁控濺射靶材可廣泛應(yīng)用于建筑/汽車(chē)大面積鍍膜玻璃,薄膜光伏太陽(yáng)能,平面顯示,裝飾/功能鍍膜,半導(dǎo)體和表面修正等行業(yè)。氧化鋅靶材公司氧化鋅錫靶材氧化鋅鋁靶材(AZO)。氧化鋅摻鋁(AZO)薄膜因無(wú)毒、成本低、Zn 源材料豐富以及在 H 等離子體中性能穩(wěn)定等優(yōu)點(diǎn)得到廣泛的研究,尤其作為前電極應(yīng)用在薄膜太陽(yáng)能電池中 。在AZO薄膜的制備方法中,磁控濺射技術(shù)具有
2024-07-14 面議/套? ? ?例如磷化銦(InP)和氮化鎵(GaN)。芯片制造商一直在使用化學(xué)氣相沉積(CVD)來(lái)制造晶圓廠的邏輯器件和存儲(chǔ)器件。在CVD設(shè)備中,氣態(tài)前體化學(xué)物質(zhì)流入裝載了硅晶圓的工藝腔體。這些氣態(tài)前體在晶圓表面發(fā)生反應(yīng),形成所需的薄膜,同時(shí)副產(chǎn)物將從腔體中抽走。將晶圓裝載到MOCVD系統(tǒng)中,然后將純凈氣體輸入反應(yīng)器中。以不同ITO靶材生產(chǎn)企的靶材為對(duì)比試樣,通過(guò)將各試樣粉碎、過(guò)篩和王水腐蝕的方法分離
2024-07-14 面議/套濺射靶材的金屬濺射鍍膜靶材,合金濺射鍍膜靶材,陶瓷濺射鍍膜靶材,硼化物陶瓷濺射靶材,碳化物陶瓷濺射靶材,氟化物陶瓷濺射靶材,氮化物陶瓷濺射靶材,氧化物陶瓷靶材,硒化物陶瓷濺射靶材,硅化物陶瓷濺射靶材,硫化物陶瓷濺射靶材,碲化物陶瓷濺射靶材,其他陶瓷靶材,摻鉻一氧化硅陶瓷靶材(Cr-SiO),磷化銦靶材(InP)。金屬靶材:鎳靶、Ni、鈦靶、T濺射靶材i、鋅靶、Zn、鉻靶、Cr、鎂靶、Mg、鈮靶、N
2024-07-14 面議/套關(guān)于本網(wǎng)| 大事記|玻璃展會(huì)|熱點(diǎn)搜索|玻璃人才|玻璃名錄|站點(diǎn)地圖|活動(dòng)推廣|隱私聲明|版權(quán)聲明|玻璃供應(yīng)|聯(lián)系我們|English
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